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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱(chēng) | |||
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PL400紫外納米壓印機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：EZ Imprinting推出了一款臺(tái)式獨(dú)立NIL納米壓印PL系列系統(tǒng)：PL系列400/600. EZImprinting是一種超高產(chǎn)率（ 99％）納米壓印光刻系統(tǒng)，帶有低于10納米的分辨率和一步自動(dòng)釋放功能。 該平臺(tái)提供具有微定位夾具的機(jī)械平臺(tái)，用于安裝納米壓印室，UV固化源和對(duì)準(zhǔn)顯微鏡。 它即可以作為納米壓印系統(tǒng)，也可以作為傳統(tǒng)的掩模對(duì)準(zhǔn)器，同時(shí)提供可編程的自動(dòng)控制功能。 產(chǎn)品型號(hào)：PL400 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-03-12 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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R2P NanoImprinter納米壓印機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：Desktop R2P NanoImprinter 裝置適用于小型納米壓印光刻工作。該設(shè)備非常適用于快速原型制作、測(cè)試和結(jié)構(gòu)特性表征，包括使用光固化樹(shù)脂和壓印材料。 典型應(yīng)用范圍從壓印、芯片實(shí)驗(yàn)室到衍射光學(xué)元件，以及其他納米壓印結(jié)構(gòu)。Desktop R2P NanoImprinter 在其受保護(hù)的環(huán)境中工作。 產(chǎn)品型號(hào)：R2P NanoImprinter 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-03-12 |
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CNI v3.0-200臺(tái)式納米壓印機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：桌面納米壓印機(jī)，易于復(fù)制微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)。 納米壓?。岷妥贤饩€） 直徑高達(dá)210mm圓形模板，帶紫外線 150 * 150mm方片模板，采用熱處理工藝 熱壓印 操作簡(jiǎn)單直觀 用途廣泛 即插即用 專(zhuān)為研發(fā)而設(shè)計(jì) 產(chǎn)品型號(hào)：CNI v3.0-200 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-03-12 |
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CNI v3.0-100納米壓印機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：CNI v3.0-100是一種非常靈活的納米壓印機(jī)。它可提供加熱型納米壓印、UV紫外納米壓印以及真空納米壓印。模塊化系統(tǒng)可根據(jù)特定需求輕松配置，體積小，容易存放，大可處理210mm（8英寸）圓形的任何尺寸印章和基材。該系統(tǒng)是手動(dòng)裝卸印章和模板，但所有處理器都是全自動(dòng)的，軟件用戶可以*控制壓印過(guò)程。 產(chǎn)品型號(hào)：CNI v3.0-100 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-03-11 |
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AT-200MAnric原子層沉積系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：占地面積小的桌面系統(tǒng)（ 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺） 具有超快 MFC 的高溫兼容快速脈沖 ALD 閥，用于集成惰性氣體吹掃。 4 英寸圓形卡盤(pán)可定制，適用于較小尺寸或其他形狀（11 毫米高）。 3 種有機(jī)金屬前體和 2 種（最多 3 種）反反應(yīng)物。 整個(gè)加熱管線（從前體到腔室）。 高曝光（用于溝槽和多孔基板）和靜態(tài)處理模式 全鋁（半導(dǎo)體級(jí)）腔室 ? 范圍高達(dá) 310°C 產(chǎn)品型號(hào)：AT-200M 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-03-11 |
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AT-610原子層沉積系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：原子層沉積（Atomic layer deposition）是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍?cè)诨妆砻娴姆椒?。原子層沉積與普通的化學(xué)沉積有相似之處。但在原子層沉積過(guò)程中，新一層原子膜的化學(xué)反應(yīng)是直接與之前一層相關(guān)聯(lián)的，這種方式使每次反應(yīng)只沉積一層原子。 產(chǎn)品型號(hào)：AT-610 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-03-11 |
參考價(jià):¥60 詢價(jià)留言 | ||
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AT-410原子層沉積系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：原子層沉積系統(tǒng)（ALD）是一種基于自限制表面化學(xué)反應(yīng)的優(yōu)良薄膜沉積技術(shù)。通過(guò)交替通入不同前驅(qū)體氣體，在基底表面逐層形成單原子層厚度的薄膜，具有原子級(jí)精度控制和三維共形性覆蓋的特點(diǎn)，尤其適用于復(fù)雜結(jié)構(gòu)和高深寬比器件的均勻鍍膜。 產(chǎn)品型號(hào)：AT-410 所在地：國(guó)外 更新時(shí)間：2025-03-11 |
參考價(jià):¥60 詢價(jià)留言 | ||
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MS-150/200晶圓劃片機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：晶圓劃片機(jī)是一種用于將晶圓（半導(dǎo)體材料的薄片）劃分成小塊的設(shè)備。通常使用高速旋轉(zhuǎn)的劃片刀片來(lái)切割晶圓，以獲得所需尺寸和形狀的芯片。這些芯片隨后用于制造集成電路和其他電子器件。 產(chǎn)品型號(hào)：MS-150/200 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-02-26 |
參考價(jià):¥100000 詢價(jià)留言 | ||
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Inspex 4KASH顯微鏡：Inspex超高清檢測(cè)儀器系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：ASH顯微鏡：Inspex超高清檢測(cè)儀器系統(tǒng)，是一種超高清檢測(cè)儀器系統(tǒng)，其分辨率是全高清檢測(cè)系統(tǒng)的四倍，能夠提供水晶般清晰的視頻成像，讓用戶看到比以往更多的細(xì)節(jié)。其界面簡(jiǎn)單直觀，使用戶能夠輕松、簡(jiǎn)單和舒適地檢測(cè)零件。 產(chǎn)品型號(hào)：Inspex 4K 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-02-25 |
參考價(jià):¥90000 詢價(jià)留言 | ||
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Omni3ASH顯微鏡：Omni數(shù)字顯微和測(cè)量系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：ASH顯微鏡：Omni數(shù)字顯微和測(cè)量系統(tǒng)，是一款獨(dú)立的全高清數(shù)字顯微鏡和測(cè)量系統(tǒng)，無(wú)需PC即可運(yùn)行。它具有人體工程學(xué)設(shè)計(jì)、易連接HDMI監(jiān)視器、一鍵圖像捕捉、直觀集成軟件等特點(diǎn)，適用于航天、汽車(chē)、電子等多個(gè)領(lǐng)域。Omni 3平臺(tái)支持多種高級(jí)檢測(cè)和測(cè)量應(yīng)用，適用于質(zhì)量控制、測(cè)試、返工等多種場(chǎng)景。 產(chǎn)品型號(hào)：Omni3 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-02-25 |
參考價(jià):¥160000 詢價(jià)留言 | ||
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MUC系列大型超聲波清洗機(jī)MUC 簡(jiǎn)單介紹：大型超聲波清洗機(jī)MUC，振蕩器采用螺栓緊固郎之萬(wàn)型振子，進(jìn)行強(qiáng)力清洗。只需要設(shè)置定時(shí)器就可進(jìn)行操作。 產(chǎn)品型號(hào)：MUC系列 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-02-24 |
參考價(jià):¥25000 詢價(jià)留言 | ||
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MCS系列超聲波清洗機(jī)MCS 簡(jiǎn)單介紹：超聲波清洗機(jī)MCS，從2l的小容量到27l的大容量，可根據(jù)使用目的進(jìn)行選擇、滿足廣泛需求的超聲波清洗器。 產(chǎn)品型號(hào)：MCS系列 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-02-24 |
參考價(jià):¥1990 詢價(jià)留言 | ||
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L2004A1接觸角測(cè)量?jī)x 簡(jiǎn)單介紹：我們的接觸角測(cè)量?jī)x提供了一種快速，可靠，簡(jiǎn)單的方法來(lái)測(cè)量表面液滴的接觸角。 其優(yōu)惠的價(jià)格，緊湊的尺寸，直觀的PC軟件，便捷的操作，使更多的研究人員能夠快速進(jìn)行這種多功能測(cè)量。 產(chǎn)品型號(hào)：L2004A1 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-02-11 |
參考價(jià):¥21500 詢價(jià)留言 | ||
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GK100桌面微型紫外光刻機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：桌面微型紫外光刻機(jī)，專(zhuān)為微米級(jí)圖案制作而設(shè)計(jì)，旨在保障圖形轉(zhuǎn)移精度，其緊湊的體積將移形換影置于桌面之上，為操作提供了便利與精準(zhǔn)。 產(chǎn)品型號(hào)：GK100 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2024-06-13 |
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DMS-3芯片熱管理分析系統(tǒng)DMS 簡(jiǎn)單介紹：芯片熱管理分析系統(tǒng)DMS是一款專(zhuān)門(mén)研究芯片在自工作狀態(tài)下的發(fā)熱、熱流、熱分布及熱擴(kuò)散情況的設(shè)備。 產(chǎn)品型號(hào)：DMS-3 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2024-06-06 |
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HET-3霍爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)HET 簡(jiǎn)單介紹：霍爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)HET是依據(jù)范德堡法測(cè)量材料的電運(yùn)輸性能參數(shù):載流子濃度遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)等，薄膜或薄層材料均可測(cè)量。 產(chǎn)品型號(hào)：HET-3 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2024-06-06 |
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LNP-3LNP系列高低溫探針臺(tái) 簡(jiǎn)單介紹：LNP系列高低溫探針臺(tái)為小尺寸樣品測(cè)量電特性提供高精度可控測(cè)量環(huán)境 實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)可靠的測(cè)試與測(cè)量分析 產(chǎn)品型號(hào)：LNP-3 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2024-05-31 |
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TC-20TC-Wafer校準(zhǔn)儀 簡(jiǎn)單介紹：TC-Wafer校準(zhǔn)儀是一款專(zhuān)注晶圓溫場(chǎng)均勻性測(cè)量的儀器，適配市場(chǎng)上大多數(shù)主流廠家生產(chǎn)的RTP設(shè)備。 產(chǎn)品型號(hào)：TC-20 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2024-05-31 |
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RTP-3S01RTP-3系列快速退火爐 簡(jiǎn)單介紹：RTP-3系列快速退火爐，采用紅外輻射加熱及冷壁技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)實(shí)驗(yàn)材料的快速升溫和降溫 產(chǎn)品型號(hào)：RTP-3S01 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2024-05-30 |
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DSH系列雙面探針臺(tái) 簡(jiǎn)單介紹：DSH系列探針臺(tái)是我司自主研發(fā)的一款雙面探針臺(tái),最大可完成12英寸晶圓的正反面點(diǎn)針測(cè)試。 產(chǎn)品型號(hào)：DSH系列 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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