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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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更新時間：2025-03-12 10:56:49瀏覽次數(shù)：3044
聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!
一、PL400/PL600納米壓印機技術(shù)特點：
? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理, PL400適用于4英寸晶圓處理
? 低于10納米分辨率，產(chǎn)率高達99％
? 一步自動釋放功能，可防止分離過程中模具/基材損壞，使壓印產(chǎn)量增大
? 支持各種類型的硬模和軟模
? 可變模具和基材尺寸，靈活方便
? 可編程PLC，通過自定義參數(shù)進行過程控制，帶觸摸屏用戶界面
? 對準功能選項
? 多種工藝，適用于各種應用光學器件，顯示器，數(shù)據(jù)存儲，生物醫(yī)學器件，半導體IC，化學合成和*材料等
? 專有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對硬度或厚度沒有限制，并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容
本納米壓印是一個獨立的納米壓印機包括自動釋放™功能的納米壓印模塊和自動壓印控制器。程序控制，用戶可自由設置工藝參數(shù)，晶圓與模板由真空卡盤固定，兼容傳統(tǒng)的UV固化壓印膠工藝，可以快速的實現(xiàn)真空環(huán)境下的壓印?？梢蕴幚砀鞣N不同形狀、滿足直徑100mm的模版和基片處理。只需要手動裝入和取出模板和基片，其余的操作都是自動化進行，同時附帶軟件還提供了詳細的參數(shù)設置。
二、PL400/PL600納米壓印機技術(shù)參數(shù)
1.1模版尺寸：4/6英寸，兼容1~4/6英寸圓片和不規(guī)則的材料；
*1.2基底尺寸：4/6英寸，兼容1~4/6英寸圓片和不規(guī)則的材料；
1.3壓印模式：硬壓印和軟壓印；
*1.4壓印分辨率：小于10nm；
1.5壓印壓力：14 psi -17psi，可編程；
1.6壓印區(qū)域：最大4英寸的基底材料；
1.7模版：內(nèi)置自動分離模版功能；
1.8對準精度：1μm，取決于工藝；
1.9程序控制：PLC程序控制，壓印時間和壓力可編程；
1.10對準和移動范圍：X，Y和Z+/- 5mm，?:+/- 5°;
*1.11曝光系統(tǒng)：LED紫外線曝光，波長395nm，覆蓋9“x 9"區(qū)域，強度可編程，最大≥50mW/cm2，曝光時間也可編程；
三、納米壓印機的應用
納米壓印技術(shù)憑借其高分辨率和低成本特性，廣泛應用于以下領(lǐng)域：
1.半導體與集成電路
制造高密度存儲芯片（如NAND閃存、MRAM）。
光子集成電路（如硅光器件、光柵耦合器）。
優(yōu)勢：替代傳統(tǒng)EUV光刻，降低優(yōu)良制程成本。
2.光學器件與顯示技術(shù)
增強現(xiàn)實（AR）衍射光波導。
液晶顯示（LCD）導光板微結(jié)構(gòu)。
超表面透鏡（Metalens）的納米天線陣列。
優(yōu)勢：實現(xiàn)復雜光學結(jié)構(gòu)的低成本批量生產(chǎn)。
3.生物醫(yī)學與傳感器
微流控芯片（Lab-on-a-Chip）的納米通道。
表面增強拉曼散射（SERS）基底。
生物分子檢測的納米孔陣列。
優(yōu)勢：高精度結(jié)構(gòu)提升檢測靈敏度與特異性。
4.新能源與柔性電子
鈣鈦礦太陽能電池的納米陷光結(jié)構(gòu)。
柔性電子（如可穿戴傳感器）的導電圖案。
透明導電膜（如銀納米線網(wǎng)格）。
優(yōu)勢：兼容柔性基材（PET、PI），支持卷對卷（R2R）工藝。
5.防偽與裝飾
包裝的全息防偽標簽。
奢侈品表面的納米紋理裝飾（如抗指紋、啞光效果）。
優(yōu)勢：微結(jié)構(gòu)可定制化，難以復制。
