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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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EC200-K/EC200控制器preeflow®單組份微量點膠機 簡單介紹：preeflow®單組份微量點膠機 確保了小劑量液體準確的容積式輸送。 經過在流體定量輸送方面20年的經驗積累 preeflow® 品牌于2008年誕生。依托德國制造的高質量，preeflow®系列產品世界。 小巧、準確、經濟一直是我們做得更好的動力與信心。 產品型號：EC200-K/EC200控制器 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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高折射率膠粘劑 簡單介紹：高折射率粘合劑，用于粘合玻璃，塑料和可進行UV固化和/或熱固化的金屬。 產品型號： 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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低折射率膠粘劑 簡單介紹：低折射率粘合劑。用于粘接玻璃或塑料的粘度 產品型號： 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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CM3030膠體金試紙切條機 簡單介紹：膠體金試紙切條機適合膠體金試條的切割，也可加裝定位傳感器切血糖條等。 性能特點：切條機是快速診斷試劑的專業(yè)生產設備之一，應用于生產過程中把片材材料快速切割成寬度試劑條，設備經過國內大型生產廠家使用驗證和用于批量生產，實用、穩(wěn)定、可靠； 產品型號：CM3030 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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血脂試紙非接觸式裁切機 簡單介紹：血脂試紙非接觸式裁切機針對人工邊線對位，定位孔定位。類型的設備無需編輯程序。操作簡單快捷 采用進口HSS-AL高速合金鋼刀片，具有很好的耐磨性，且經久耐用。 可估計客戶需要度鈦處理，一般可使用2到3年無需要修磨。 設備可定位為生產線上的單獨工位，配合生產線進行全自動生產。 設備操作簡單，不要反復翻轉界面設置項目，人工光學對位功能無需編輯程序。 邏輯符合人性思維，給人舒適、輕松的工作狀態(tài) 產品型號： 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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AFIXX 20m鍵合機 簡單介紹：AFIXX 20m 鍵合機手動系統(tǒng) 臺式系統(tǒng)設計用于手動將單個基板臨時粘合到剛性載體或其他載體上。適用于非常薄的易碎基材和柔性塑料材料。專為實驗室開發(fā)的臨時粘合技術。這是一個多功能系統(tǒng)，非常適合許多R＆D應用程序。AFIXX 20m配備有加熱板，可將載體或基材加熱到200℃。 產品型號：AFIXX 20m 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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BASIXX ST20+勻膠涂膜機ST20+ 簡單介紹：勻膠涂膜機ST20+ 實驗室臺式勻膠機 是一款緊湊的旋涂，顯影，清潔和干燥半自動系統(tǒng)，旨在為科學和研究領域的用戶提供高效，安全和清潔的實驗室系統(tǒng)。 該設備具有易于使用的界面和7英寸彩色觸摸屏。 該軟件包含程序菜單管理，例如編寫，編輯，保存和加載。 服務區(qū)提供用于手臂和旋轉板以及介質控制的設置選項。 還集成了可通過USB保存的軟件更新功能以及日志文件和程序備份功能。 產品型號：BASIXX ST20+ 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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HT20eUNIXX系列單面烘烤加熱臺 簡單介紹：UNIXX系列單面烘烤加熱臺，HT20e設計用于基材的單面烘烤，用于預烘烤和后烘烤或脫水烘烤過程。尤其適用于粘合劑底漆（HMDS;六甲基二硅氮烷），可用于蒸汽底漆或真空干燥的熱板模塊。帶有電子可編程升降針的烘烤模塊，配有觸摸屏，便于操作。 軟件提供了簡單方便的過程控制和配方創(chuàng)建。 界面簡單易于使用，可隨時控制流程。這些溫度模塊有臺式安裝式，塔式安裝式或獨立式供選擇。 產品型號：HT20e 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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MR 200晶圓劃片機 簡單介紹：MR200 晶圓劃片機 手動劃線可無誤切割 結構化硅晶片的制造 MR 200的設置可為結構化硅晶片切割提供高精度劃線。MR 200是*的工具，特別是對于半導體技術中的REM制備。MR 200還適用于少量芯片的單芯片化，例如在實驗室中使用。設備基本設置為劃線參數(shù)的調整提供了多種選擇。高質量的變焦光學元件可將放大倍率從8倍無級調節(jié)到40倍。光學和機械學可以通過輔助模塊進行擴展，以提高效率和操作 產品型號：MR 200 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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M-HP 200M-HP熱板 簡單介紹：介紹：M-HP熱板 200用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑大為8英寸的晶圓片或大6英寸 x6英寸的襯底。內置模塊可輕松用于濕式工作臺。工藝參數(shù)（溫度，加熱時間）可以隨時更改。 熱板溫度可在20°C和250C之間調節(jié)?？稍?到999秒之間設置處理時間。 產品型號：M-HP 200 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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M-SPIN 200勻膠旋涂儀M-SPIN 簡單介紹：勻膠旋涂儀M-SPIN 200是用于均勻涂覆和干燥晶圓片或襯底。該勻膠旋涂儀適用于直徑大為8英寸的晶圓片，或大為6英寸 x 6英寸的襯底。它可使用分配臂全自動工作，分配移動托盤，可定義數(shù)量。該勻膠旋涂儀配備了頂蓋的聯(lián)鎖機制，和可視化全圖形觸摸面板。M-Spin 200勻膠旋涂儀包含一個內置模塊，該模塊連接到柔性電纜，外接到一個19英寸外部控件上。 產品型號：M-SPIN 200 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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SRD干燥機旋轉沖洗干燥機 簡單介紹：?旋轉沖洗干燥機用于沖洗和干燥直徑大為12英寸的圓形或大7英寸方形的基材； ?可提供滿足您特定要求的標準轉子和定制轉子。轉子可以輕松快速地更換； ?處理腔室上的儲罐加熱。處理腔室由電拋光不銹鋼制成。包含氮氣加熱； 正面的主開關，機械門鎖，PLC彩色觸摸屏和無刷伺服電機是標準設備的一部分。 產品型號：SRD干燥機 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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SCS112/SCSe124/SCSe126濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng) 簡單介紹：SCS112型是一款高效率手動型的濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng)，專門設計用于在劃片或劃片后清洗晶片，針對8英寸晶圓片。SCSe124/126型是用于光掩模，晶圓和基材的亞微米級清潔的理想解決方案，針對10英寸晶圓片。 產品型號：SCS112/SCSe124/SCSe126 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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CESx124UltraT進口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng) 簡單介紹：UltraT進口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128或133是理想選擇，可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底，不論是從小直徑還是非常大直徑。 產品型號：CESx124 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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XES-70S1太陽能模擬器 簡單介紹：太陽能模擬器有效輻照面積：70mm x 70mm。旋轉透鏡單元可選擇照射方向（上，下，左，右）?？蛇x擇的輸入功率范圍（100V或220V）。AA*認證JIS 8912 / IEC 60904-9（2007）/ ASTM E927-5 。滿足研究的廣泛需求。 產品型號：XES-70S1 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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XES-50S2便攜式太陽能模擬器 簡單介紹：便攜式太陽能模擬器通過一些性能改進優(yōu)化，功能更廣泛，更加貼近客戶使用。AM濾光片可匹配300nm，易于從外部安裝和拆卸AM過濾器。準備2個插槽，可添加帶通濾波器或調光網狀濾波器，通過與信號源計（Keithley 2400）輕松連接，可實現(xiàn)遠程快門控制?？商砑虞椛涞乃p器（可選）。 產品型號：XES-50S2 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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XES-40S3便攜式太陽能模擬器 簡單介紹：我們制造的高度準確的太陽模擬器，用于評估需要重建陽光的地方。通過充分利用這些技術，我們開發(fā)了這種便攜式太陽能模擬器，可以輕松地復制陽光。我們的設備是針對研究目的進行初始評估和檢查的完美解決方案。 產品型號：XES-40S3 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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XHS-50S1高光譜匹配太陽能模擬器（兩燈型）50mm 簡單介紹：高光譜匹配太陽能模擬器（兩燈型）50mm通過采用氙氣燈和鹵素燈的兩個光源，實現(xiàn)了接近日光的高光譜匹配。除了8英寸的模型外，還開發(fā)了一個小模型照射面積50mm。 產品型號：XHS-50S1 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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8060/4060/PM450手動探針臺 簡單介紹：手動探針臺 P300J電動手動探針臺：電動手動探針臺，300mm，-55到300℃ P300A半自動探針臺：專為低電流、亞微米定位應用而設計，300mm，-55到300℃ 產品型號：8060/4060/PM450 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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P200L/P300L電動手動探針臺 簡單介紹：電動手動探針臺 P300J電動手動探針臺：電動手動探針臺，300mm，-55到300℃ P300A半自動探針臺：專為低電流、亞微米定位應用而設計，300mm，-55到300℃ 產品型號：P200L/P300L 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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