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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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產(chǎn)品圖片 產(chǎn)品名稱
GM1010/GM1020/GM1075EM Resist SU-8負性抗蝕劑
GM1010/GM1020/GM1075EM Resist SU-8負性抗蝕劑
簡單介紹:EM Resist SU-8負性抗蝕劑產(chǎn)品,非常適合半導(dǎo)體應(yīng)用。我們的產(chǎn)品有各種形式和厚度范圍。
典型的SU-8過程包括以下步驟:
基板準備 旋涂 松弛時間以提高表面均勻度 軟烤 曝光后烘烤 發(fā)展歷程 沖洗并干燥 可選硬烤
產(chǎn)品型號:GM1010/GM1020/GM1075   所在地:北京市   更新時間:2024-05-17
參考價:面議 詢價留言
2035/2050/2075/2100光刻膠SU-8 2000
2035/2050/2075/2100光刻膠SU-8 2000
簡單介紹:SU-8 2000是一種高對比度,基于環(huán)氧的光致抗蝕劑,設(shè)計用于微加工和其他微電子應(yīng)用,需要厚,化學和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進配方,多年來已被MEMS生產(chǎn)商廣泛使用。使用更快干燥,極性更大的溶劑系統(tǒng)可改善涂層質(zhì)量并提高工藝產(chǎn)量。 SU-8 2000有十二種標準粘度。通過單道涂覆工藝可以實現(xiàn)0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯(lián)的部分不溶于液體顯影劑。
產(chǎn)品型號:2035/2050/2075/2100   所在地:北京市   更新時間:2024-05-17
參考價:面議 詢價留言
3010/3005/3025/3050SU-8 3000光刻膠
3010/3005/3025/3050SU-8 3000光刻膠
簡單介紹:SU-8 3000是一種高對比度,基于環(huán)氧的光刻膠,專為微加工和其他微電子應(yīng)用中,
需要化學和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 3000是SU-8和SU-8 2000的改進配方,已被廣泛采用
由MEMS生產(chǎn)商使用多年。 SU-8 3000有配制用于改善附著力和降低涂層應(yīng)力。
SU-8 3000的粘度范圍允許膜厚為4至單層涂層厚度為120 µm。
產(chǎn)品型號:3010/3005/3025/3050   所在地:北京市   更新時間:2024-05-17
參考價:面議 詢價留言
2005/2010/2025光刻膠SU-8 2000
2005/2010/2025光刻膠SU-8 2000
簡單介紹:SU-8 2000是一種高對比度,基于環(huán)氧的光致抗蝕劑,設(shè)計用于微加工和其他微電子應(yīng)用,需要厚,化學和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進配方,多年來已被MEMS生產(chǎn)商廣泛使用。使用更快干燥,極性更大的溶劑系統(tǒng)可改善涂層質(zhì)量并提高工藝產(chǎn)量。 SU-8 2000有十二種標準粘度。通過單道涂覆工藝可以實現(xiàn)0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯(lián)的部分不溶于液體顯影劑。
產(chǎn)品型號:2005/2010/2025   所在地:北京市   更新時間:2024-05-17
參考價:面議 詢價留言
Microchem SU-8 2000 系列
Microchem SU-8 2000 系列
簡單介紹:SU-8 2000化學放大,i線抗蝕劑非常適合制造 permanent性器件結(jié)構(gòu)。 這些負色調(diào),環(huán)氧基抗蝕劑表現(xiàn)出優(yōu)異的耐化學性和低的楊氏模量,使其成為制造微/納米結(jié)構(gòu)的理想選擇,如懸臂,膜和微通道。
產(chǎn)品型號:   所在地:上海市   更新時間:2024-05-16
參考價:面議 詢價留言
SU-8 3035,  3050Microchem SU-8 3000系列
SU-8 3035, 3050Microchem SU-8 3000系列
簡單介紹:SU-8 3000已被配制用于改進的粘合性和降低的涂層應(yīng)力。它被用于需要高結(jié)合強度和改進的微結(jié)構(gòu)制造柔性的地方。 結(jié)果,大大提高了與基板的粘合性。
產(chǎn)品型號:SU-8 3035, 3050   所在地:北京市   更新時間:2024-05-16
參考價:面議 詢價留言
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