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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 參考價 | ￥60-￥100 | /件 |
更新時間：2025-03-11 15:45:38瀏覽次數(shù)：5185
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| 價格區(qū)間 | 50萬-100萬 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,電氣 |
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一、原子層沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：
1.腔體材質(zhì)：全鋁鋁質(zhì)腔體；
2.樣品臺尺寸：處理最大直徑6英寸樣品；
3.基片加熱溫度：室溫~315℃±1℃；
4.液體源：一路高蒸氣壓液體氧化劑（H2O或H2O2），3路固體或液體金屬源；
5.可變過程壓力控制0.1至1.5Torr；
6.ALD閥：Swagelok快速高溫ALD專用閥；
7.載氣系統(tǒng)：N2，壓力30Psi；
8.生長模式：連續(xù)和停留沉積模式任意選擇；
9.控制系統(tǒng)：16位7英寸彩色觸摸屏PLC操作控制；
10.4個世偉洛克熱敏ALD閥門；
11.5個高溫劑量容積填充閥；
12.帶輔助彎頭加熱器的保形加熱套，操作溫度室溫至150℃；
13.帶閥門的50ccSS前體瓶，波紋管密封高溫兼容閥;
14.Fujikin金屬密封，200sccmMFC流量質(zhì)量控制器，用于N2或Ar吹掃流量控制；
15.基于雙溫探頭的腔室加熱器控制系統(tǒng)和探頭故障保險；
16.OEM 2級旋轉(zhuǎn)葉片泵，抽速18 cfm，極限真空3mtorr，包括Flomblin用于PFPE油；
二、原子層沉積系統(tǒng)特點
精準(zhǔn)控制：薄膜厚度可精確至亞納米級（0.1 ?/cycle），重復(fù)性誤差<1%。
高均勻性：在復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)（如納米線、多孔材料）表面實現(xiàn)均勻覆蓋。
低溫工藝：部分機型支持室溫至300℃以上，范圍沉積，兼容熱敏感基材（如聚合物、生物材料）。
前驅(qū)體兼容性：支持金屬有機化合物、鹵化物、等離子體增強（PEALD）等多種反應(yīng)模式。
原位監(jiān)測：集成石英晶體微天平（QCM）、橢偏儀或光學(xué)反射儀，實時監(jiān)控薄膜生長。
三、原子層沉積系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體制造：高介電材料（HfO?、Al?O?）、晶體管柵極、DRAM電容薄膜。
新能源：鋰離子電池電極包覆層、燃料電池催化劑涂層。
光電子器件：OLED封裝層、光伏器件鈍化層。
納米技術(shù)：量子點涂層、MEMS器件防水/防腐蝕膜。
生物醫(yī)療：生物傳感器表面功能化、植入器械抗菌涂層。
四、目前可以沉積的材料包括：
1）氧化物: Al2O3, TiO2, Ta2O5, ZrO2, HfO2, SnO2, ZnO, La2O3, V2O5, SiO2
2）氮化物: AlN, TaNx, NbN, TiN, MoN, ZrN, HfN, GaN
3）氟化物: CaF2, SrF2, ZnF2
4）金屬: Pt, Ru, Ir, Pd, Cu, Fe, Co, Ni
5）碳化物: TiC, NbC, TaC
6）復(fù)合結(jié)構(gòu)材料: AlTiNx, AlTiOx, AlHfOx, SiO2:Al, HfSiOx
7）硫化物: ZnS, SrS, CaS, PbS
五、提供售后服務(wù)安裝調(diào)試培訓(xùn)；
原子層沉積（ALD）系統(tǒng)的售后服務(wù)致力于為客戶提供全面支持，包括設(shè)備安裝調(diào)試、操作培訓(xùn)、技術(shù)咨詢及定期維護。我們的專業(yè)團隊確保設(shè)備高效運行，快速響應(yīng)故障排查與維修需求，并提供備件更換和軟件升級服務(wù)，以延長設(shè)備壽命并保障生產(chǎn)效率?？蛻艨赏ㄟ^熱線或在線平臺隨時聯(lián)系我們，享受定制化的解決方案。
