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貼片機(jī)
貼片機(jī)適用領(lǐng)域：芯片貼裝、芯片篩選、高精度倒裝、MEMS封裝、MOEMS封裝、VCSEL器件組裝、光電器件封裝、超聲工藝、熱壓超聲工藝、RFID組裝、傳感器封...
型號： customize... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:44:58 對比

貼片機(jī)粘片機(jī)
立式高溫試驗(yàn)箱
立式高溫試驗(yàn)箱簡述：滿足各種產(chǎn)品、零部件及材料在高溫恒溫環(huán)境下貯存、運(yùn)輸、使用時(shí)間適應(yīng)性試驗(yàn)要求。采用定值和程序兩種控制。定值控制可進(jìn)行自動(dòng)開始結(jié)束設(shè)定，適合于...
型號： GPV系列所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:43:50 對比

立式高溫試驗(yàn)箱高溫試驗(yàn)箱高低溫試驗(yàn)箱
電子束光刻系統(tǒng)
電子束光刻系統(tǒng) 技術(shù)參數(shù)：1.最小線寬≤8nm光柵周期≤40nm2.50KV加速電壓下，寫場可在0.5μm~500μm的范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào)3.肖特基熱場發(fā)射電子束源...
型號： eLINE Plu... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:43:42 對比

電子束曝光光刻機(jī)無掩模光刻
等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD
等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD(1) 應(yīng)用方向：高質(zhì)量PECVD沉積氮化硅和二氧化硅，用于光子學(xué)、電介質(zhì)層、鈍化以及諸多其它用途；用于高亮度LED生產(chǎn)的硬掩模...
型號： customize... 所在地：英國參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:41:58 對比

氣相沉積化學(xué)氣相沉積設(shè)備
化學(xué)氣相沉積MOCVD
MOCVD設(shè)備是通過將反應(yīng)物質(zhì)以有機(jī)金屬化合物氣體分子的形式，經(jīng)載帶氣體送到反應(yīng)室，進(jìn)行熱分解反應(yīng)而生長出薄膜材料。應(yīng)用方向：Ga2O3,GaN, InP, G...
型號： customize... 所在地：德國參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:38:03 對比

化學(xué)氣相沉積氣相沉積設(shè)備愛思強(qiáng)
激光開封機(jī)
激光開封機(jī)產(chǎn)品參數(shù)：1.激光功率：10W（20W/30W/50W可選）2.激光器壽命：≥100000h3.激光波長：1064nm4.激光視覺掃描范圍：≤110*...
型號： customize... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:36:36 對比

激光開封機(jī)開封機(jī)半導(dǎo)體開封
脈沖激光沉積鍍膜機(jī)PLD
脈沖激光沉積鍍膜機(jī)PLD系統(tǒng)主要由真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。
型號： customize... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:35:11 對比

脈沖激光沉積鍍膜機(jī)鍍膜機(jī)
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-230iP是以電感耦合等離子體為放電方式，等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備高速進(jìn)行各種材料的超精細(xì)加工的負(fù)載鎖定型ICP蝕刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過采用龍卷風(fēng)式線圈電...
型號： RIE-230iP 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:32:42 對比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-230iP SAMCO
電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)E-Beam
電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)E-Beam 概述：系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、...
型號： customize... 所在地：美國參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:32:13 對比

電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)鍍膜機(jī)
高低溫(濕熱) 試驗(yàn)箱
高低溫(濕熱) 試驗(yàn)箱產(chǎn)品概述：1. 新型冷凍機(jī)的使用，實(shí)現(xiàn)了大范圍、高精度的溫濕度控制2. 40 模式可編程控制器、具有多種語言選擇、試驗(yàn)數(shù)據(jù)U 盤存儲(chǔ)3....
型號： GP系列所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:31:32 對比

高低溫(濕熱) 試驗(yàn)箱試驗(yàn)箱高低溫試驗(yàn)箱
分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE
分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE 是在超高真空系統(tǒng)中把所需要的結(jié)晶材料放入到噴射爐中，將噴射爐加熱。使結(jié)晶材料形成分子束，從爐中噴出后，沉積在高溫的單晶基片上。如果...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:31:10 對比

薄膜沉積系統(tǒng)分子束外延分子束外延沈陽科儀
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-400iP是用于ø4 “晶圓的負(fù)載鎖定型蝕刻系統(tǒng)，等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備可對各種半導(dǎo)體和絕緣膜進(jìn)行高精度、高均勻性加工。采用龍卷風(fēng)線圈的電...
型號： RIE-400iP 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:30:06 對比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-400iP SAMCO
熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)Thermal Evaporation
熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)Thermal Evaporation 設(shè)備用途：熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并...
型號： customize... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:28:53 對比

熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)鍍膜機(jī)
離子注入機(jī)
離子注入機(jī)是高壓小型加速器中的一種，應(yīng)用數(shù)量最多。它是由離子源得到所需要的離子，經(jīng)過加速得到幾百千電子伏能量的離子束流，用做半導(dǎo)體材料、大規(guī)模集成電路和器件的離...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:25:56 對比

離子注入機(jī)離子注入設(shè)備離子注入愛發(fā)科 ULVAC
等離子體刻蝕設(shè)備
高密度等離子體刻蝕設(shè)備系統(tǒng)采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng)，具有優(yōu)良的工藝重復(fù)性和穩(wěn)定性。
型號： RIE-800iP... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:25:32 對比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 SAMCO RIE-800iPC
半導(dǎo)體烘箱
半導(dǎo)體烘箱參數(shù)：1.高性能無氧烘箱能夠在氧氣濃度低至500 ppm 的氣氛中，加熱高達(dá) 500℃ 的溫度，并對材料進(jìn)行熱處理。非常適合各類退火，退應(yīng)力，和各類...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:24:21 對比

半導(dǎo)體烘箱無氧烘箱真空烘箱
冷熱沖擊試驗(yàn)箱
冷熱沖擊試驗(yàn)箱技術(shù)參數(shù)：1. 溫度范圍：周圍環(huán)境溫度+50 +200℃ -70~0℃3溫區(qū) 2. 高溫曝露到+200℃：15分鐘以內(nèi)3. 常溫曝露：5分鐘 4...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:23:06 對比

冷熱沖擊試驗(yàn)箱試驗(yàn)箱
CT系統(tǒng)
CC系列CT系統(tǒng)亮點(diǎn)?可靠、快速、可重復(fù)的檢測 - 手動(dòng)和自動(dòng)?使用 VoidInspect 自動(dòng)計(jì)算空隙?易于使用的動(dòng)態(tài)增強(qiáng)濾鏡，例如 eHDR?使用 mic...
型號： CC系列所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:22:27 對比

工業(yè)CT 缺陷檢測 Yxlon CC系列
磁控濺射鍍膜機(jī)Sputter
磁控濺射鍍膜機(jī)Sputter應(yīng)用領(lǐng)域：巨磁電阻（GMR）、組合材料科學(xué)（CMS）、半導(dǎo)體、超導(dǎo)體、納米級器件、光子學(xué)、光伏（PV）、OLED（發(fā)光二極管）、有機(jī)...
型號： customize... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:22:18 對比

磁控濺射鍍膜機(jī)
快速退火爐RTP
快速退火爐RTP主要功能：快速熱退火，快速熱氧化，快速熱氮化，擴(kuò)散，化合物半導(dǎo)體退火，離子注入后退火，電極合金化等。樣片尺寸：8inch，向下兼容，支持不規(guī)整樣...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:21:08 對比

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