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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • PEALD 系統(tǒng)

    SENTECH True Remote CCP 源可在低溫下對敏感基材和層進行均勻和保形涂層。在樣品表面提供高通量的反應性氣體種類，而沒有紫外線輻射或離子轟擊。...
    型號： SI PEALD 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 10:25:24 對比

  • PEARD系統(tǒng)

    SENTECH SILAYO是一種用于光學鍍膜的等離子體增強原子層沉積（PEALD）系統(tǒng)，擴展了SENTECH PECVD和ALD產(chǎn)品組合。SENTECH SI...
    型號： SENTECH S... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 10:25:06 對比

  • 投影步進電機

    AP200/300 系列光刻系統(tǒng)基于 Veeco 的可定制 Unity 平臺™構建，可提供覆蓋層、分辨率和側壁輪廓性能，并可實現(xiàn)高度自動化和具有成本...
    型號： AP200/300 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 10:21:06 對比

  • Lancer離子束蝕刻系統(tǒng)

    新型 Lancer™ 離子束蝕刻 （IBE） 系統(tǒng)專為開發(fā)和生產(chǎn)智能手機、自動駕駛汽車和其他可實現(xiàn)連接性、功能性和移動性的“物聯(lián)網(wǎng)"設備中的下一代電...
    型號： 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 10:20:00 對比

  • 原子層刻蝕

    ALE是一種先進的刻蝕技術，可以針對較淺的微結構進行出色的深度控制。 隨著器件微結構尺寸越來越小，要達到器件的更高性能可以通過ALE技術所具有的精度來實現(xiàn)。在如...
    型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 10:19:40 對比

  • 等離子體蝕刻系統(tǒng)

    SI 500 C 代表了專為低溫蝕刻而設計的電感耦合等離子體 （ICP） 處理的前沿。SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統(tǒng)代...
    型號： SI 500 C 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 10:19:16 對比

  • 等離子蝕刻系統(tǒng)

    SENTECH SI 500 ICP-RIE等離子體蝕刻系統(tǒng)使用具有低離子能量的電感耦合等離子體 （ICP） 源，可實現(xiàn)低損傷蝕刻和納米結構。
    型號： SENTECH S... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 10:18:54 對比

  • 開蓋等離子蝕刻系統(tǒng)

    等離子蝕刻系統(tǒng) Etchlab 200 具有經(jīng)濟高效的 RIE 直接加載的優(yōu)點。SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統(tǒng)代表了一系列直接加載...
    型號： Etchlab 2... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 10:18:30 對比

  • ICPCVD

    PlasmaPro 80是一種結構緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設計可實現(xiàn)...
    型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 10:13:43 對比

  • 離子束沉積

    離子束沉積產(chǎn)品是因為它們能夠生產(chǎn)具有高質量，致密和表面光滑的沉積薄膜。離子束技術提供了一種多樣的刻蝕和沉積的方法，并可在同一設備上實現(xiàn)， 因而提高系統(tǒng)的利用率。...
    型號： Ionfab 30... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 10:12:56 對比

  • 激光光刻機

    DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對工業(yè)級灰度光刻進行了優(yōu)化，設計用于集成電路、MEMS、...
    型號： DWL 2000 ... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 10:10:05 對比

  • ICPECVD 系統(tǒng)

    電感耦合等離子體 （ICP） 沉積系統(tǒng)，SENTECH SI 500 D 用于介電膜的高密度、低離子能量和低壓等離子體沉積，以及用于鈍化層的低損傷、低溫沉積。S...
    型號： SI 500 D 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 10:09:28 對比

  • 涂膠與顯影機

    ACS300 Gen2 涂布機和顯影劑用于晶圓級封裝的生產(chǎn)旋涂/開發(fā)集群ACS300 Gen2 是一個模塊化集群系統(tǒng)，旨在滿足制造商對 200 和 300 毫米...
    型號： ACS300 Ge... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 10:01:51 對比
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