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步進式光刻機
1、Nikon NSR 1755/1505i7A/B步進式光刻機光源波長365nm分辨率優(yōu)于0.6µm主要用于2寸、4寸、6寸生產(chǎn)線廣泛應(yīng)用于化合物半...
型號： Nikon NSR... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:31:06 對比

Nikon NSR 1755/1505i7A/B 步進式光刻機
反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIE
PlasmaPro 800系列是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng)，該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻（RIE）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的...
型號： PlasmaPro... 所在地：英國參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:29:58 對比

RIE 牛津刻蝕大尺寸
12英寸金屬刻蝕設(shè)備
Herent® Chimera® M 金屬刻蝕設(shè)備，為針對12英寸IC產(chǎn)業(yè)0.18微米以下后道高密度鋁導(dǎo)線互連工藝所開發(fā)的專用產(chǎn)品，同時也...
型號： Herent... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:29:23 對比

金屬刻蝕
步進式光刻機
Nikon NSR 2005i8A1、Nikon NSR 2005i8A步進式光刻機光源波長365nm分辨率優(yōu)于0.5µm主要用于2寸、4寸、6寸、8...
型號： Nikon NSR... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:26:57 對比

Nikon NSR 2005i8A 步進式光刻機
有掩膜光刻機
VPG 200 / VPG 400 體積圖形發(fā)生器是光刻系統(tǒng)，專為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設(shè)計。它們支持所有標準的中小型面罩尺寸，最大尺寸為 4...
型號： VPG 200 /... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:25:58 對比

掩模制造
步進式光刻機
1、Nikon NSR 2005i9C步進式光刻機光源波長365nm分辨率優(yōu)于0.45µm用于2寸、4寸、6寸、8寸生產(chǎn)線廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、ME...
型號： Nikon NSR... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:24:09 對比

Nikon NSR 2005i9C 步進式光刻機光刻機
步進式光刻機
1、Nikon NSR 2005i10C步進式光刻機光源波長365nm分辨率優(yōu)于0.45µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體...
型號： Nikon NSR... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:20:36 對比

Nikon NSR 2005i10C 步進式光刻機光刻機
8英寸硅刻蝕設(shè)備
Tebaank® Pishow® P 硅刻蝕設(shè)備是面向8英寸集成電路制造的量產(chǎn)型設(shè)備設(shè)備由電感耦合等離子體刻蝕腔（ICP etch cham...
型號： Tebaank&#... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:20:32 對比

深硅刻蝕
步進式光刻機
1、Nikon NSR 2205i11D步進式光刻機光源波長365nm分辨率優(yōu)于0.4µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、...
型號： Nikon NSR... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:17:02 對比

Nikon NSR 2205i11D步進式光刻機步進式光刻機光刻機
等離子清洗設(shè)備
PC-1100是一種平行板式等離子清洗機，用于清洗樣品表面的有機和無機污染。該工藝室允許用戶安裝多個電架，架式電配置的靈活性支持從小型電子元件到大型基板等多種產(chǎn)...
型號： PC-1100 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:16:58 對比

PC-1100 等離子清洗設(shè)備 SAMCO
8英寸金屬刻蝕設(shè)備
Kessel™ Pishow® M 金屬刻蝕設(shè)備為可用于8英寸的IC產(chǎn)線鋁金屬工藝的量產(chǎn)型機臺，基于自有開發(fā)的優(yōu)化設(shè)計，保證了優(yōu)異的刻蝕均...
型號： Kessel... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:13:45 對比

金屬刻蝕
步進式光刻機
1、Nikon NSR 2205i12D步進式光刻機光源波長365nm分辨率優(yōu)于0.4µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、...
型號： Nikon NSR... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:13:08 對比

Nikon NSR 2205i12D步進式光刻機步進式光刻機光刻機
8英寸電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備
詳細介紹ICP是一種加工微納結(jié)構(gòu)的8英寸電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備。具有刻蝕快、選擇比高、各項異性高、刻蝕損傷小、均勻性好、斷面輪廓可控性高、刻蝕表面平整度高等優(yōu)...
型號： Pishow... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:09:34 對比

ICP
單面拋光機
TSP-400/450/380晶片研磨機系列設(shè)備是落地式的高精度單面拋光設(shè)備，可搭配銅盤、錫盤、玻璃盤、不銹鋼盤等，配合不同類型的拋光液，適用于各種半導(dǎo)體材料的...
型號： TSP-400/4... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:08:02 對比

晶圓拋光
步進式光刻機
1、Nikon EX14C步進式光刻機光源波長248nm分辨率優(yōu)于0.25µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、L...
型號： Nikon EX1... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:06:58 對比

Nikon EX14C步進式光刻機步進式光刻機光刻機
反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIE
PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計可實...
型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:02:42 對比

牛津刻蝕 RIE
紫外線臭氧清洗設(shè)備
UV-300HC紫外線臭氧清洗設(shè)備是一款高性能的盒式裝載UV臭氧清洗機，用于生產(chǎn)。這個行業(yè)先的系統(tǒng)有2個裝載盒，可以達到200-300nm/min的高灰化率。該...
型號： UV-300HC 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:01:44 對比

紫外線臭氧清洗設(shè)備 UV-300HC SAMCO
雙光子聚合直寫光刻機
MPO 100雙光子聚合直寫光刻機是一種雙光子聚合（TPP）多用戶工具，用于微結(jié)構(gòu)的 3D 光刻和 3D 顯微打印，適用于微光學(xué)、光子學(xué)、微機械學(xué)和生物醫(yī)學(xué)...
型號： MPO 100 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:00:30 對比

微結(jié)構(gòu)的 3D 光刻 3D 顯微打印
8英寸電感耦合等離子體-深硅刻蝕設(shè)備
Pishow® D 系列深刻蝕設(shè)備，是針對8英寸~6英寸產(chǎn)線或科研深硅刻蝕工藝的專用設(shè)備，擁有自主開發(fā)的優(yōu)化設(shè)計，保證了優(yōu)異的刻蝕精度控制和損傷控制。...
型號： Pishow... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:58:56 對比

深硅刻蝕
勻膠機
Laurell的EDC-650-8B勻膠機結(jié)構(gòu)緊湊，具有先進的功能。這款650系列EDC系統(tǒng)將可容納最大200mm晶圓和7英寸×7英寸（178mm&#...
型號： EDC-650-8... 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:57:02 對比

半導(dǎo)體前道勻膠機

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