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反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIE
可為多種材料提供各向異性干法刻蝕工藝，兼容200mm以下所有尺寸的晶圓，快速更換到不同尺寸的晶圓工藝，電極的適用溫度范圍寬，-150°C至400...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:18:55 對(duì)比

離子刻蝕系統(tǒng)RIE 等離子刻蝕固體激光器 InP刻蝕石英刻蝕 OXFORD
cmp拋光機(jī)
POLI-400Lcmp拋光機(jī)是4&6英寸小型化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)，采用手動(dòng)裝片方式，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點(diǎn)監(jiān)控系統(tǒng)，用于氧化物、金屬、STI、SO...
型號(hào)： POLI-400L 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:17:26 對(duì)比

拋光機(jī)
CMP拋光機(jī)
POLI-500是小型8英寸CMP機(jī)臺(tái)，采用手動(dòng)裝片方式，可選配半自動(dòng)loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點(diǎn)監(jiān)控系統(tǒng)，用于氧化物、金屬、S...
型號(hào)： POLI-500 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:16:20 對(duì)比

CMP
CMP拋光機(jī)
POLI-762是小型12英寸CMP機(jī)臺(tái)，采用手動(dòng)裝片方式，可選配半自動(dòng)loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點(diǎn)監(jiān)控系統(tǒng)，用于氧化物、金屬、...
型號(hào)： POLI-762 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:15:12 對(duì)比

拋光機(jī)
霍爾效應(yīng)測(cè)試儀
霍爾效應(yīng)測(cè)試儀簡(jiǎn)介：1.系統(tǒng)功能：用于測(cè)量半導(dǎo)體材料的電阻率/電導(dǎo)率、流動(dòng)性、散裝/片狀載體濃度、摻雜類型、霍爾系數(shù)、磁阻、垂直/水平阻力比的半導(dǎo)體高性能霍爾...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:14:49 對(duì)比

霍爾效應(yīng)測(cè)試儀行業(yè)專用儀器半導(dǎo)體高性能霍爾系統(tǒng)
RIE等離子刻蝕設(shè)備
RIE-200C RIE等離子刻蝕設(shè)備是在擁有豐富交貨業(yè)績(jī)的CCP RIE系統(tǒng) “RIE-10NR “的基礎(chǔ)上開發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對(duì)Si、Poly...
型號(hào)： RIE-200C 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:14:14 對(duì)比

RIE等離子刻蝕設(shè)備 RIE-200C SAMCO
LSA 101 激光尖峰退火設(shè)備
LSA 101 激光尖峰退火設(shè)備系統(tǒng)安裝的 IDM 和晶圓代工廠，是大批量制造 40nm 至 140nm 節(jié)點(diǎn)的先進(jìn)邏輯器件的技術(shù)。LSA 101 的掃描技術(shù)...
型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:13:03 對(duì)比

退火爐激光退火
離子束刻蝕系統(tǒng)IBE
離子束刻蝕系統(tǒng)IBE 的靈活性、均勻性俱佳且應(yīng)用范圍廣。我們的設(shè)備具有靈活的硬件選項(xiàng)，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對(duì)盒式模式。系統(tǒng)配置與實(shí)際應(yīng)用緊密協(xié)調(diào)，以...
型號(hào)： Ionfab 30... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:12:25 對(duì)比

離子束刻蝕系統(tǒng)IBE 刻蝕設(shè)備 OXFORD
智能型多功能橢偏儀
智能型多功能橢偏儀? （Smart SE）是一款通用型薄膜測(cè)量工具。測(cè)試速度快，準(zhǔn)確。它可以表征幾埃到20µm薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)（n, k）以及薄膜...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:06:59 對(duì)比

智能型多功能橢偏儀橢偏儀光學(xué)測(cè)量?jī)x
深硅刻蝕系統(tǒng)DEEP SI ETCH
提供深硅蝕刻（DSiE）領(lǐng)域的MEMS，封裝和納米技術(shù)的廣泛應(yīng)用，從光滑側(cè)壁工藝到高刻蝕速率腔刻蝕、高深寬比工藝和錐形通孔刻蝕，不需要更換腔室硬件就可以實(shí)現(xiàn)。
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:05:06 對(duì)比

深硅刻蝕系統(tǒng)刻蝕設(shè)備刻蝕系統(tǒng)OXFORD
低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)LPCVD
低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)LPCVD 簡(jiǎn)介：1. 滿足石墨烯和碳納米管研究的高溫和快速冷卻要求2. 直徑200毫米的石英室3. 內(nèi)部石英管的設(shè)計(jì)便于拆卸和清洗4. 基...
型號(hào)： customize... 所在地：德國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:03:48 對(duì)比

化學(xué)氣相趁機(jī)系統(tǒng)薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
等離子體刻蝕設(shè)備
高密度等離子體刻蝕設(shè)備采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng)，具有優(yōu)良的工藝重復(fù)性和穩(wěn)定性。
型號(hào)： RIE-800iP 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:03:35 對(duì)比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-800iP SAMCO
噴涂膠機(jī)
在噴涂法中，噴嘴將要涂抹的溶液噴在晶圓上。經(jīng)過優(yōu)化后的晶圓上方噴嘴移動(dòng)路徑可以實(shí)現(xiàn)在襯底上均勻的涂層。噴涂所用的液體通常粘度極低，以確保形成細(xì)小的液滴
型號(hào)： AS8 所在地：德國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:03:11 對(duì)比

噴涂膠機(jī)涂膠顯影
高速高分辨顯微共焦拉曼光譜儀
高速高分辨顯微共焦拉曼光譜儀系統(tǒng)功能：快速獲得詳細(xì)的圖像和分析，非常適合于微觀和宏觀測(cè)量，提供*進(jìn)的二維和三維共聚焦成像能力。LabRAM Odyssey&t...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:00:01 對(duì)比

拉曼光譜儀光譜顯微共焦拉曼光譜
鍵合機(jī)
鍵合機(jī) 簡(jiǎn)介：1. 鍵臺(tái)工藝：金絲球焊和深腔模形焊2. 超聲系統(tǒng)：可通過軟件在60kHz~100kHz間切換以適應(yīng)不同的鍵臺(tái)基板3. 球焊金絲：17.5μm-5...
型號(hào)： customize... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:57:10 對(duì)比

鍵合機(jī)半導(dǎo)體組裝與封裝
超景深顯微鏡
超景深顯微鏡概述：本套系統(tǒng)主要用于材料表面形貌的觀察；平面或三維測(cè)量。可采用3D觀測(cè)模式，對(duì)被測(cè)物形狀，粗糙度，表面積等進(jìn)行測(cè)量，可以做高度，寬度，橫截面，角度...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:56:06 對(duì)比

超景深顯微鏡表面測(cè)量粗糙度測(cè)量
RIE等離子刻蝕設(shè)備
RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能的全自動(dòng)RIE等離子刻蝕設(shè)備，它能滿足非腐蝕性氣體化學(xué)苛刻的工藝要求。計(jì)算機(jī)化的觸摸屏為參數(shù)控制和存儲(chǔ)提供了一個(gè)用戶友...
型號(hào)： RIE-10NR 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:55:21 對(duì)比

RIE等離子刻蝕設(shè)備 RIE-10NR SAMCO
納米壓印系統(tǒng)
納米壓印系統(tǒng) 簡(jiǎn)介：1. 兼容基底尺寸：直徑≤100mm2. 支持基底材料：硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等3. 納米壓印技術(shù)：旋涂膠基底高精度壓印&點(diǎn)膠自動(dòng)找平...
型號(hào)： GL6 R&... 所在地：青島市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:51:14 對(duì)比

納米壓印系統(tǒng)納米壓印設(shè)備
工業(yè)顯微鏡
工業(yè)顯微鏡簡(jiǎn)介：1. 支持通過光學(xué)顯微鏡或圖像測(cè)量?jī)x（如Nikon NEXIV），對(duì)直徑為6英寸（150mm）和8英寸（200mm）的半導(dǎo)體晶圓的創(chuàng)新設(shè)計(jì)和材料...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:50:46 對(duì)比

工業(yè)顯微鏡顯微鏡光學(xué)顯微鏡
推拉力測(cè)試機(jī)
推拉力測(cè)試機(jī) 簡(jiǎn)介：1. 適用大功率集成電路封裝IGBT、電路制造、材料研究、汽車電子等等，應(yīng)用于常見的拉力和剪切力測(cè)試應(yīng)用。2. 標(biāo)配行程為150 x 15...
型號(hào)： customize... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:50:16 對(duì)比

推拉力測(cè)試機(jī)拉力測(cè)試剪切力測(cè)試

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