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熱拆鍵合機(jī)
熱拆鍵合機(jī) 簡(jiǎn)介：1. 該系統(tǒng)是用于分離晶圓與載體（熱拆鍵合）的FOWLP技術(shù)，通過釋放熱量將載體剝離2. FOWLP優(yōu)化熱拆鍵合技術(shù)3. 全自動(dòng)脫膠4. FO...
型號(hào)： customize... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:20:27 對(duì)比

熱拆鍵合機(jī)鍵合機(jī)
CT系統(tǒng)
CT系統(tǒng)CA20用于先進(jìn)封裝的亞微米3DX射線，CA20旨在以最高分辨率提供2D和3D圖像，它允許對(duì)微米級(jí)細(xì)節(jié)進(jìn)行最快的檢測(cè)，并有助于縮短復(fù)雜3D IC的上市時(shí)...
型號(hào)： CA20型所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:18:42 對(duì)比

工業(yè)CT 缺陷檢查 CA20型
電鍍?cè)O(shè)備
電鍍?cè)O(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：Pillar，Bump，RDL，TSV等工藝 (3) 設(shè)備配置：最多3個(gè)loadport ; 最多24個(gè)電鍍腔體：Cu、Ni、Sn/Ag、...
型號(hào)： customize... 所在地：蘇州市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:17:52 對(duì)比

電鍍?cè)O(shè)備
深能級(jí)瞬態(tài)譜儀(DLTS)
深能級(jí)瞬態(tài)譜儀(DLTS) 技術(shù)優(yōu)勢(shì)：1. 數(shù)字瞬態(tài)記錄器最大采樣 64000點(diǎn)2. 數(shù)字瞬態(tài)記錄器采樣間隔 2us-4s3. 耦合方式提供28種耦合方式,包...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:17:15 對(duì)比

深能級(jí)瞬態(tài)譜儀(DLTS)瞬態(tài)譜儀(DLTS)
多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺(tái)
Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 200 多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺(tái)是一種模塊化、功能齊全的薄膜沉積系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn) ...
型號(hào)： PRO Line ... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:15:39 對(duì)比

物理氣相沉積 PRO Line PVD 200 KURT.J.LESKER
激光退火設(shè)備
半導(dǎo)體激光退火機(jī)是用于半導(dǎo)體制造過程中的一種設(shè)備。退火是一種熱處理過程，通過加熱半導(dǎo)體材料來(lái)改變其性質(zhì)，以實(shí)現(xiàn)所需的特性，如電導(dǎo)率、晶體結(jié)構(gòu)和應(yīng)力緩解。半導(dǎo)體激...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:14:17 對(duì)比

激光退火設(shè)備退火爐華卓精科 customized
無(wú)掩膜/激光直寫光刻機(jī)
無(wú)掩膜/激光直寫光刻機(jī) 參數(shù)：1. 光源：375 nm、385 nm、405 nm 激光器2. 線寬：0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm3. 光刻效...
型號(hào)： UV Litho-... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:14:13 對(duì)比

無(wú)掩膜光刻機(jī)激光直寫光刻機(jī)光通訊芯片光刻功率芯片光刻生物芯片
點(diǎn)膠機(jī)
多用途：Quantum系列點(diǎn)膠機(jī)有堅(jiān)固的大型框架，輕松匹配需要較大尺寸基板或工件的應(yīng)用。更大的點(diǎn)膠面積適用于雙閥點(diǎn)膠、廣泛的膠體類型以及點(diǎn)膠工藝和多種應(yīng)用，而且...
型號(hào)： customize... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:13:02 對(duì)比

點(diǎn)膠噴射點(diǎn)膠頭
槽式濕法刻蝕清洗設(shè)備
槽式濕法刻蝕清洗設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：RCA清洗，濕法去膠，介質(zhì)層濕法刻蝕，金屬層濕法刻蝕，爐管前清洗等
型號(hào)： customize... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:11:50 對(duì)比

槽式濕法刻蝕清洗設(shè)備 RCA清洗濕法去膠介質(zhì)層濕法刻蝕爐管前清洗
有掩膜光刻機(jī)
1.手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)有掩膜光刻機(jī)2.高分辨率掩模對(duì)準(zhǔn)光刻，特征尺寸優(yōu)于0.5微米3.基片尺寸可滿足4、6、8、12英寸4.經(jīng)過特殊設(shè)計(jì)，方便處理各種非標(biāo)準(zhǔn)基...
型號(hào)： MA12 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:10:06 對(duì)比

半導(dǎo)體薄膜生長(zhǎng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備氣相沉積鍍膜機(jī)氣相沉積
深硅刻蝕設(shè)備
RIE-802BCT深硅刻蝕設(shè)備是采用電感耦合等離子體作為放電形式的兩個(gè)反應(yīng)室的量產(chǎn)用硅深孔系統(tǒng)。標(biāo)準(zhǔn)配置有空氣盒和晶圓邊緣保護(hù)環(huán)，以及高精度的晶圓對(duì)準(zhǔn)器。該高...
型號(hào)： RIE-802BC... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:09:17 對(duì)比

深硅刻蝕設(shè)備 RIE-802BCT SAMCO
有機(jī)EL成膜設(shè)備SOLCIET
有機(jī)EL成膜設(shè)備SOLCIET, SATELLA, ZELDA系列。ULVAC面向有機(jī)EL材料開發(fā)提供實(shí)驗(yàn)用設(shè)備系統(tǒng)到量產(chǎn)Cluster系統(tǒng)設(shè)備和Inline系...
型號(hào)： SATELLA, ... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:08:25 對(duì)比

有機(jī)EL成膜設(shè)備SOLCIET 愛發(fā)科 ULVAC
四探針電阻率測(cè)試儀
四探針電阻率測(cè)試儀的應(yīng)用：半導(dǎo)體材料、太陽(yáng)能電池材料(硅、多晶硅、碳化硅等)，新材料、功能材料(碳納米管、DLC、石墨烯、Ag納米線等)、導(dǎo)電薄膜(金屬、離子等...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:08:03 對(duì)比

四探針電阻率測(cè)試儀四探針測(cè)試儀
等離子清洗&去膠機(jī)
等離子清洗&去膠機(jī)產(chǎn)品簡(jiǎn)介：1) 用途：材料清洗、材料活化、材料刻蝕、材料涂覆(2) 80 kHz：功率 1000 或 3000 W(3) 13.56 MHz：...
型號(hào)： customize... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:05:19 對(duì)比

等離子清洗&去膠機(jī)清洗機(jī)去膠
自動(dòng)氦檢漏設(shè)備
自動(dòng)氦檢漏設(shè)備ALT·S系列（SUPER ALT）使用He作為檢知?dú)怏w的設(shè)備。應(yīng)用ULVAC技術(shù)，運(yùn)用全新機(jī)構(gòu)，使得省空間、高速、全自動(dòng)處理成為可能。
型號(hào)： ALT·... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:04:05 對(duì)比

自動(dòng)氦檢漏設(shè)備愛發(fā)科 ULVAC ALT·S系列
深硅刻蝕設(shè)備
RIE-800BCT是使用電感耦合等離子體作為放電形式的生產(chǎn)型硅DRIE系統(tǒng)。這種高性能系統(tǒng)能夠進(jìn)行高縱橫比處理（超過100）和低扇形處理，同時(shí)保持高蝕刻率和選...
型號(hào)： RIE-800BC... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:01:59 對(duì)比

深硅刻蝕設(shè)備 RIE-800BCT SAMCO
傅里葉紅外光譜儀
傅里葉紅外光譜儀一、應(yīng)用：用于半導(dǎo)體材料內(nèi)部含量檢測(cè),同質(zhì)外延厚度測(cè)量和其他應(yīng)用，用于*進(jìn)的半導(dǎo)體工廠，在硅生長(zhǎng)和器件制造領(lǐng)域進(jìn)行材料表征二、技術(shù)參數(shù)： 1....
型號(hào)：所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 13:59:31 對(duì)比

傅里葉紅外光譜儀光譜紅外光譜
電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備
Samco 的 RIE-800iPB 是一種電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備，使用高密度等離子體進(jìn)行 MEMS 和 TSV 應(yīng)用所需的深度硅蝕刻。RIE-800iPB是...
型號(hào)： RIE-800iP... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 13:57:32 對(duì)比

深硅刻蝕設(shè)備 RIE-800iPB SAMCO
鈦寶石飛秒激光放大器
鈦寶石飛秒激光放大器的優(yōu)勢(shì)：1.Astrella 提供更好的數(shù)據(jù)并降低整體數(shù)據(jù)成本。Astrella 具備高脈沖能量（高達(dá) 9 mJ）、短脈沖寬度（ 35 fs...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 13:54:53 對(duì)比

鈦寶石飛秒激光放大器飛秒激光放大器
等離子體增強(qiáng)型CVD系統(tǒng)
PD-200STL是一種用于研發(fā)的低溫(80~400℃)、高速(300nm/min)等離子體增強(qiáng)型CVD系統(tǒng)。Samco的液態(tài)源CVD系統(tǒng)采用自偏置沉積技術(shù)和液...
型號(hào)： PD-200STL 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 13:51:59 對(duì)比

等離子體增強(qiáng)型CVD系統(tǒng)PD-200STL 化學(xué)氣相沉積 SAMCO

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