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等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)
PD-270STLC是一種低溫(80 ~ 400°C)、高速(300 nm/min)的等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)，可用于大規(guī)模生產(chǎn)。Samco的液態(tài)源CV...
型號(hào)： PD-270STL... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 13:46:15 對(duì)比

等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)化學(xué)氣相沉積 PD-270STLC SAMCO
等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)
PD-100ST是一種用于研發(fā)的低溫(80 ~ 400°C)、高速(300 nm/min)等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)。Samco的液態(tài)源CVD系統(tǒng)采用自偏...
型號(hào)： PD-100ST 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 13:45:35 對(duì)比

等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)PD-100ST 化學(xué)氣相沉積 SAMCO
電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備CMS系列極其強(qiáng)大的先進(jìn)研究工具設(shè)計(jì)用于適應(yīng)特定的薄膜應(yīng)用，如 GMR、CMS、半導(dǎo)體、納米級(jí)器件、光子學(xué)和光伏系統(tǒng)設(shè)計(jì)可以配置為真正的超高真...
型號(hào)： CMS系列所在地：美國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:45:39 對(duì)比

鍍膜 KURT.J.LESKER CMS系列電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
磁控濺射鍍膜設(shè)備
Kurt J. Lesker Company LAB Line UHV 磁控濺射鍍膜設(shè)備專(zhuān)為磁控濺射沉積應(yīng)用而設(shè)計(jì)。為滿足 UHV 濺射工藝需求而定制的腔室設(shè)計(jì)...
型號(hào)： LAB Line 所在地：美國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:41:33 對(duì)比

磁控濺射磁控濺射鍍膜設(shè)備 LAB Line KURT.J.LESKER
卷繞式濺射設(shè)備
卷繞式濺射設(shè)備SPW系列SPW系列設(shè)備，是可在塑料薄膜上進(jìn)行光學(xué)膜、金屬膜等多層成膜的卷繞式設(shè)備。實(shí)施成膜室間的氣氛分隔，可以使高性能的多層膜一次性成膜。
型號(hào)： SPW系列所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:40:39 對(duì)比

卷繞式濺射設(shè)備 SPW系列
卷繞式真空蒸鍍?cè)O(shè)備
卷繞式真空蒸鍍?cè)O(shè)備 EW系列塑料薄膜、紙、金屬箔等連續(xù)卷繞的同時(shí)，對(duì)金屬和氧化物進(jìn)行蒸鍍的成膜設(shè)備。從小型的實(shí)驗(yàn)機(jī)到大量的生產(chǎn)設(shè)備，此外，還提供一系列用于包裝材...
型號(hào)： EW系列所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:37:33 對(duì)比

EW系列卷繞式真空蒸鍍?cè)O(shè)備
無(wú)針孔薄膜沉積設(shè)備
AL-1無(wú)針孔薄膜沉積設(shè)備通過(guò)交替向反應(yīng)室提供有機(jī)金屬原料和氧化劑，僅利用表面反應(yīng)沉積薄膜，實(shí)現(xiàn)了高膜厚控制和良好的步驟覆蓋率。薄膜的厚度可以控制在原子層的數(shù)量...
型號(hào)： AL-1 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:36:36 對(duì)比

AL-1 無(wú)針孔薄膜沉積設(shè)備 SAMCO
縱向式Cat-CVD設(shè)備
縱向式Cat-CVD設(shè)備CCV系列CCV Series是a-Si鍍膜用的縱向式CVD設(shè)備。有30年以上的量產(chǎn)實(shí)績(jī)。在各個(gè)chamber通過(guò)低壓鍍膜，得到高品質(zhì)的...
型號(hào)： CCV系列所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:31:40 對(duì)比

縱向式Cat-CVD設(shè)備 CCV系列鍍膜設(shè)備
枚葉式PECVD設(shè)備
枚葉式PECVD設(shè)備CME-200E/400枚葉式PE-CVD設(shè)備CME-200E/400是適用于Si系絕緣膜、barrier膜等成膜的量產(chǎn)用PECVD設(shè)備。
型號(hào)： CME-200E/... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:29:22 對(duì)比

枚葉式PECVD設(shè)備鍍膜設(shè)備
Load-lock式Plasma CVD設(shè)備
Load-lock式Plasma CVD設(shè)備 CC-200/400Load-lock式Plasma CVD設(shè)備CC-200/400是小型的使用便利的可對(duì)應(yīng)從研究...
型號(hào)： CC-200/40... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:25:49 對(duì)比

CC-200/400 Load-lock式Plasma CVD設(shè)備鍍膜設(shè)備
枚葉式等離子CVD設(shè)備
枚葉式等離子CVD設(shè)備CMD系列CMD系列是用SiH4和TEOS成膜的a-Si膜、氧化硅膜、氮化膜成膜用的枚葉式CVD設(shè)備。
型號(hào)： CMD系列所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:18:01 對(duì)比

枚葉式等離子CVD設(shè)備鍍膜設(shè)備 CMD系列
等離子體沉積ALD
等離子體沉積ALD AD-230LP是一種原子層沉積（ALD）系統(tǒng)，能夠在原子水平上控制薄膜厚度。有機(jī)金屬原料和氧化劑交替供給反應(yīng)室，僅通過(guò)表面反應(yīng)進(jìn)行薄膜沉積...
型號(hào)： AD-230LP 所在地：日本參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:14:50 對(duì)比

SAMCO 等離子體沉積等離子體沉積ALD AD-230LP
濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)是我們優(yōu)化的入門(mén)級(jí)沉積系統(tǒng)。我們的腔室設(shè)計(jì)特別適...
型號(hào)： NANO 36&t... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:12:06 對(duì)比

薄膜沉積 NANO 36™KURT.J.LESKER 濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
臨時(shí)鍵合機(jī)
XBS300臨時(shí)膠合劑適用于大批量生產(chǎn)的通用型臨時(shí)鍵合機(jī)SUSS MicroTec的XBS300臨時(shí)鍵合平臺(tái)是新一代用于大批量生產(chǎn)的臨時(shí)鍵合機(jī)解決方案。200/...
型號(hào)： XBS300 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:08:34 對(duì)比

XBS300臨時(shí)膠合劑臨時(shí)膠合劑
全封閉式桌面顯影機(jī)
DM200-SE全封閉式桌面顯影機(jī)的特點(diǎn)包括：全封閉式顯影：有效避免顯影過(guò)程中產(chǎn)生的霧氣擴(kuò)散到外部，從而保護(hù)環(huán)境免受污染。外殼噴塑處理：外殼采用噴塑工藝，不僅耐...
型號(hào)： DM200-SE 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:07:24 對(duì)比

顯影
沉積和金屬化系統(tǒng)
Kurt J. Lesker Company Mini SPECTROS™是基于主力SPECTROS平臺(tái)的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺(tái)在...
型號(hào)： Mini SPEC... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:06:45 對(duì)比

沉積和金屬化系統(tǒng)KURT.J.LESKER Mini SPECTROS
涂膠顯影半自動(dòng)機(jī)臺(tái)
KS-M300半自動(dòng)機(jī)臺(tái)可用于單片晶片涂膠、顯影、噴膠、清洗、刻蝕、去膠工藝及掩膜板涂膠、顯影、清洗工藝。適用于小批量生產(chǎn)的工藝試驗(yàn)和生產(chǎn)線。占地面積小，操作時(shí)...
型號(hào)： KS-M300 所在地：沈陽(yáng)市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:03:22 對(duì)比

涂膠顯影
手動(dòng)光刻機(jī)
MS6-CA手動(dòng)光刻機(jī)是一款高性能的精密加工設(shè)備，專(zhuān)為微電子、半導(dǎo)體、光電等領(lǐng)域的研發(fā)與生產(chǎn)設(shè)計(jì)。
型號(hào)： MS6-CA 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:00:51 對(duì)比

光刻機(jī)
等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD
PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開(kāi)式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開(kāi)式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快...
型號(hào)： PlasmaPro... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 11:00:14 對(duì)比

牛津 PECVD
BA Gen4 鍵合機(jī)
BA Gen4 鍵合機(jī)在鍵合過(guò)程中精確對(duì)準(zhǔn)，鍵合對(duì)準(zhǔn)器 BA Gen4 Series 是專(zhuān)為手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)并鍵合兩個(gè) 200 毫米以下晶圓而設(shè)計(jì)的。選配掩模對(duì)準(zhǔn)器工具...
型號(hào)： BA Gen4 S... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:59:58 對(duì)比

BA Gen4系列鍵合對(duì)準(zhǔn)機(jī)鍵合對(duì)準(zhǔn)機(jī)SUSS BA Gen4 Series

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