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NDR-4000（M）DRIE深反應(yīng)離子刻蝕
NDR-4000（M）DRIE深反應(yīng)離子刻蝕：是帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺(tái)的深硅刻蝕系統(tǒng)，帶8“ ICP源。系統(tǒng)配套500L/S抽速的渦輪分子泵，可以使得工藝...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:35:13 對(duì)比

NDR-4000（M）DRIE深反應(yīng)離子刻蝕
NDR-4000（A）全自動(dòng)DRIE深反應(yīng)離子刻蝕
NDR-4000（A）全自動(dòng)DRIE深反應(yīng)離子刻蝕：全自動(dòng)上下載片，帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺(tái)的深硅刻蝕系統(tǒng)，帶8“ ICP源。系統(tǒng)配套500L/S抽速的渦輪...

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NDR-4000（A）全自動(dòng)DRIE深反應(yīng)離子刻蝕
NRE-4000（ICPM）ICP刻蝕系統(tǒng)
NRE-4000（ICPM）ICP刻蝕系統(tǒng)：是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺(tái)的高速刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)可以達(dá)到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果?？蓪?shí)現(xiàn)范圍廣泛的刻蝕工...

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NRE-4000（ICPM）ICP刻蝕系統(tǒng)
NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng)
NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng)：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過(guò)加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常情...

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NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng)
NIE-3500（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕
NIE-3500（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕：可以用于光柵刻蝕，SiO2二氧化硅、Si 硅以及金屬等的深槽刻蝕。此外，還可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。系統(tǒng)...

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NIE-3500（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕
NIE-3500（M）IBE離子束刻蝕
NIE-3500（M）IBE離子束刻蝕：是一款手動(dòng)放片/取片，但工藝過(guò)程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑...

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NIE-3500（M）IBE離子束刻蝕
NIE-3500（A）全自動(dòng)IBE離子束刻蝕
NIE-3500（A）全自動(dòng)IBE離子束刻蝕：是一款自動(dòng)放片/取片，并且工藝過(guò)程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理...

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NIE-3500（A）全自動(dòng)IBE離子束刻蝕
NIE-3000IBE離子束刻蝕
NIE-3000IBE離子束刻蝕：是一款手動(dòng)放片/取片，但工藝過(guò)程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑等。

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:31:37 對(duì)比

NIE-3000IBE離子束刻蝕
NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕
NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過(guò)加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常...

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NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕
NIE-4000（A）全自動(dòng)IBE離子束刻蝕
NIE-4000（A）全自動(dòng)IBE離子束刻蝕：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過(guò)加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的...

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NIE-4000（A）全自動(dòng)IBE離子束刻蝕
NIM-4000（A）全自動(dòng)離子銑刻蝕
NIM-4000（A）全自動(dòng)離子銑刻蝕：利用離子束轟擊固體表面的濺射作用，剝離加工各種幾何圖形，通過(guò)大面積離子源產(chǎn)生的離子束，可對(duì)固體材料濺射刻蝕，對(duì)固體器件進(jìn)...

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NIM-4000（A）全自動(dòng)離子銑刻蝕
NIM-4000（M）離子銑系統(tǒng)
NIM-4000（M）離子銑系統(tǒng)：利用離子束轟擊固體表面的濺射作用，剝離加工各種幾何圖形，通過(guò)大面積離子源產(chǎn)生的離子束，可對(duì)固體材料濺射刻蝕，對(duì)固體器件進(jìn)行微細(xì)...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:29:13 對(duì)比

NIM-4000（M）離子銑系統(tǒng)
NRE-4000RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
NRE-4000RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)：提供PC控制的RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔...

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NRE-4000RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
NPC-3500（A）全自動(dòng)等離子刻蝕機(jī)
NPC-3500（A）全自動(dòng)等離子刻蝕機(jī)：NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠...

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NPC-3500（A）全自動(dòng)等離子刻蝕機(jī)
NPC-3500（M）等離子刻蝕機(jī)
NPC-3500（M）等離子刻蝕機(jī)：NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:27:44 對(duì)比

NPC-3500（M）等離子刻蝕機(jī)
NPC-4000（A）全自動(dòng)等離子刻蝕機(jī)
NPC-4000（A）全自動(dòng)等離子刻蝕機(jī)：NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:27:08 對(duì)比

NPC-4000（A）全自動(dòng)等離子刻蝕機(jī)
NPC-4000（M）等離子刻蝕機(jī)
NPC-4000（M）等離子刻蝕機(jī)：NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到...

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NPC-4000（M）等離子刻蝕機(jī)
NIE-4000（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕
NIE-4000（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過(guò)加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:08:53 對(duì)比

NIE-4000（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕
NRE-4000（A）全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕
NRE-4000（A）全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕：獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:06:54 對(duì)比

NRE-4000（A）全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕

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