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Deposition沉積系統(tǒng): AT-400原子層沉積 PLD脈沖激光沉積 PA-MOCVD等離子輔助 ALD原子層沉積系統(tǒng) PECVD等離子化學(xué)氣相沉積系 Sputter磁控濺射系統(tǒng) E-Beam電子束蒸發(fā) 熱蒸發(fā)鍍膜熱蒸發(fā)鍍膜離子束刻蝕濺射鍍膜一體機(jī) 光學(xué)元件原子級(jí)拋光鍍膜設(shè)備

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NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD
NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD：針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 14:32:36 對(duì)比

NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD
NMC-3000 PAMOCVD系統(tǒng)
NMC-3000 PAMOCVD系統(tǒng)：針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓泡裝...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 14:31:57 對(duì)比

NMC-3000 PAMOCVD系統(tǒng)
NMC-4000（M）PAMOCVD系統(tǒng)
NMC-4000（M）PAMOCVD系統(tǒng)：針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 14:31:25 對(duì)比

NMC-4000（M）PAMOCVD系統(tǒng)
NMC-4000（A）全自動(dòng)PAMOCVD系統(tǒng)
NMC-4000（A）全自動(dòng)PAMOCVD系統(tǒng)：針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 14:30:48 對(duì)比

NMC-4000（A）全自動(dòng)PAMOCVD系統(tǒng)

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