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德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司

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First-Nano: 刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

薄膜測量系統(tǒng): 接觸角測量系統(tǒng) 光譜反射儀橢偏儀薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng)

半自動引線鍵合機(jī): WB-200 半自動引線鍵合機(jī)

Etching刻蝕系統(tǒng): ICP低溫刻蝕離子銑離子束刻蝕等離子反應(yīng)離子刻蝕

Deposition沉積系統(tǒng): AT-400原子層沉積 PLD脈沖激光沉積 PA-MOCVD等離子輔助 ALD原子層沉積系統(tǒng) PECVD等離子化學(xué)氣相沉積系 Sputter磁控濺射系統(tǒng) E-Beam電子束蒸發(fā) 熱蒸發(fā)鍍膜熱蒸發(fā)鍍膜離子束刻蝕濺射鍍膜一體機(jī) 光學(xué)元件原子級拋光鍍膜設(shè)備

Megasonic Clean /兆聲清洗系統(tǒng): 單片晶圓兆聲清洗機(jī) 批量型兆聲清洗系統(tǒng)

Harrick等離子清洗機(jī): 高功率等離子清洗機(jī) 擴(kuò)展型等離子清洗機(jī) 基本型等離子清洗機(jī) 等離子清洗機(jī)真空泵氣體流量混合器

測量儀器: 聲表面波SAW功率發(fā)生器

PIE 等離子清洗機(jī): PDC-32G 等離子清洗機(jī) Tergeo-plus 等離子清洗機(jī) Tergeo / 旋風(fēng)等離子清洗機(jī)

Hall Effect: HMS-3300霍爾效應(yīng)測試儀 HMS-3000霍爾效應(yīng)測試儀

QCM/石英晶體微分析儀: 石英晶體微分析儀

Etching/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Thin Film薄膜沉積系統(tǒng): 高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) PECVD沉積磁控濺射系統(tǒng) 高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀

美國杜邦Dupont: EKC270蝕刻殘留物去除劑 EKC265蝕刻殘留物去除劑

Ethcing/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Probe station/探針臺: 磁體探針臺低溫探針臺

Reflow Oven /回流焊: 高真空MEMS焊封機(jī)

紫外掩膜對準(zhǔn)曝光系統(tǒng): 紫外掩膜對準(zhǔn)曝光系統(tǒng) 紫外掩膜曝光機(jī)

快速退火爐: 快速退火爐

生命科學(xué): 人體運(yùn)動能耗監(jiān)測儀

KLA/科磊: 光學(xué)輪廓儀探針式輪廓儀

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便攜式紫外光功率計(jì)
Model 308 便攜式光功率計(jì) ●精確性 ●可靠性 ●可重復(fù)性 ●數(shù)顯直讀 ●便捷性

型號： Model 308... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/2/23 14:56:01 對比

紫外光功率計(jì)UV meter
光刻曝光分析儀
45年來，OAI始終是紫外能量測試儀器領(lǐng)域的*應(yīng)用商，其儀器用于半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)、晶圓封裝和晶圓植球行業(yè)中光刻工藝的可靠，精確校準(zhǔn)控制。Model 659是一...

型號： Model 659 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/2/23 13:53:48 對比

光刻曝光曝光分析儀

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