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化合物半導體沉積系統(tǒng)
化合物半導體沉積系統(tǒng)AIX 2800G4-TM （IC2）“基于 GaAs/InP 的光電子學和射頻應用的 HVM 最佳反應器"
型號： AIX 2800G... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:29:00 對比

HVM 最佳反應器半導體沉積
勻膠機
laurell的WS-650-8 B 型勻膠機結(jié)構(gòu)緊湊，具有先進的功能。這款650系列涂布機系統(tǒng) 將可容納最大200mm晶圓和 7英寸×7英寸（1...
型號： WS-650-8B 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:27:15 對比

半導體前道勻膠機
高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)
高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)可以在粉末顆粒狀樣品表面鍍制金屬膜、磁性膜、絕緣膜等，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)?？蓮V泛應用于大專院校、科研院所的粉末樣品表面...
型號： PC450 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:23:15 對比

薄膜沉積
高真空互聯(lián)物理氣相薄膜沉積系統(tǒng)
高真空互聯(lián)物理氣相薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)優(yōu)質(zhì)的軟件控制系統(tǒng)；4英寸鍍膜...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:20:09 對比

高真空互聯(lián)物理氣相薄膜沉積系統(tǒng)薄膜沉積系統(tǒng)物理氣相薄膜沉積系統(tǒng)
8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)
eVictor系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)，加熱基座設計，具備良好的溫度均勻性，高溫厚鋁工藝連續(xù)作業(yè)無累溫。
型號： eVictor系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:18:26 對比

eVictor系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)北方華創(chuàng)
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設備用途...
型號： JGP450 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:16:29 對比

磁控濺射薄膜沉積
CCP介質(zhì)刻蝕機
NMC 508系列 CCP介質(zhì)刻蝕機，多頻解耦設計，實現(xiàn)優(yōu)異的均勻性及高深寬比介質(zhì)刻蝕。
型號： NMC 508系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:13:55 對比

CCP介質(zhì)刻蝕機 NMC 508系列北方華創(chuàng)
高精密微3D光刻機
織雀™PL-3D Premium 是托托科技自主研發(fā)的高精密微3D光刻設備，最高光學分辨率可達1μm，支持最大50 mm×50 mm&#...
型號：織雀™... 所在地：蘇州市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:12:48 對比

高精密微3D光刻
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設備用途...
型號： JGP560 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:12:04 對比

磁控濺射薄膜沉積
熱原子層沉積系統(tǒng)
Scaler HK430 熱原子層沉積系統(tǒng)，填孔能力以及良好的薄膜均勻性,腔室結(jié)構(gòu)設計，具備良好的防酸腐蝕能力。
型號： Scaler HK... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:08:14 對比

熱原子層沉積系統(tǒng)Scaler HK430 北方華創(chuàng)
高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用可行軟件控制系統(tǒng)...
型號： FJL560 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:05:00 對比

沈陽科儀磁控濺射離子束
等離子刻蝕集群系統(tǒng)
SENTECH 集群系統(tǒng)包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個轉(zhuǎn)移室和一個真空負載鎖或盒式站。包括搬運機器人在內(nèi)的轉(zhuǎn)移室有三到六個端口。最多可以使用兩個盒式磁帶站...
型號： SENTECH 集... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:04:54 對比

刻蝕沉積真空室集群系統(tǒng)
原子層沉積ALD
Phoenix®系統(tǒng)經(jīng)過精心設計，可在從中試生產(chǎn)到工業(yè)級制造的任何制造環(huán)境中實現(xiàn)高吞吐量和最長的正常運行時間。技術人員和研究人員依靠 Phoenix&...
型號： Phoenix 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:02:26 對比

原子層沉積 ALD 薄膜沉積
ICP 刻蝕機
NMC 508系列 ICP刻蝕機是電感耦合高密度等離子體（Inductively Coupled Plasma, ICP）干法刻蝕機，具有高精度、高選擇性和高效...
型號： NMC 508系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:58:11 對比

ICP刻蝕機 NMC 508系列北方華創(chuàng)
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、抗氧化基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。設備用途：用于...
型號： PLD300 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:54:51 對比

高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)PLD 沈陽科儀
AL實時監(jiān)控器
SENTECH AL 實時監(jiān)測器是一種經(jīng)過驗證的光學診斷工具，可實現(xiàn)單個 ALD 和 ALE 周期的超高分辨率。主要應用是在不破壞真空的情況下分析薄膜特性（生長...
型號： SENTECH A... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:53:27 對比

ALD 實時監(jiān)控
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等組成。設備用途：脈沖激光沉積(Pu...
型號： PLD450 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:49:09 對比

PLD450 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)
晶圓鍵合機
新型的 XBC300 Gen2 D2W/W2W晶圓鍵合機是將所有現(xiàn)有混合鍵合工藝集成到單一設備中的平臺： W2W、集體 D2W 和順序 D2W。這是蘇斯微技術...
型號： XBC300 Ge... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:42:26 對比

SUSS 晶圓鍵合
掩模對準光刻機
掩模對準光刻機是用于 300 mm 和 200 mm 晶圓的高度自動化掩模對準平臺。SUSS MicroTec 的 MA300 Gen3 是一款高度自動化的掩模...
型號： MA300 Gen... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:31:21 對比

掩膜對準光刻半導體前道工藝
鍵合對準機
鍵合對準機BA Gen4 是專為手動對準并鍵合兩個 200 毫米以下晶圓而設計的。選配掩模對準器工具后還可使用各種功能。BA Gen4 Series 用于先進封...
型號： BA Gen4 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:25:43 對比

晶圓鍵合

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