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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 掩膜自動(dòng)處理系統(tǒng)

    掩模的完整性對(duì)高標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自動(dòng)處理系統(tǒng)滿足下一代光刻節(jié)點(diǎn)在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標(biāo)準(zhǔn)。它是應(yīng)對(duì) ...
    型號(hào)： MaskTrack... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 9:14:28 對(duì)比

  • 金屬有機(jī)源氣相沉積系統(tǒng)

    金屬有機(jī)源氣相沉積系統(tǒng)MOCVD主要由真空室反應(yīng)系統(tǒng)、氣體（載氣與氣相有機(jī)源）輸運(yùn)控制系統(tǒng)、有機(jī)源蒸發(fā)輸運(yùn)控制系統(tǒng)、電源控制系統(tǒng)、尾氣處理及安全保護(hù)報(bào)警系統(tǒng)組成...
    型號(hào)： MOCVD 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:57:26 對(duì)比

  • ICP沉積系統(tǒng)

    SENTECH SIPAR ICP沉積系統(tǒng)是為使用靈活的系統(tǒng)架構(gòu)的各種沉積模式和工藝開(kāi)發(fā)和設(shè)計(jì)的。該工具包括 ICP 等離子體源 PTSA、一個(gè)動(dòng)態(tài)溫控基板電極...
    型號(hào)： SENTECH S... 所在地：德國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:51:43 對(duì)比

  • 無(wú)掩膜光刻機(jī)

    BIO系列是生命科學(xué)版的無(wú)掩膜紫外光刻機(jī)，無(wú)掩膜光刻機(jī)具有更高的深寬比，能滿足生命科學(xué)領(lǐng)域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品 。在微...
    型號(hào)： BIO L+ 所在地：蘇州市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:49:14 對(duì)比

  • 開(kāi)蓋等離子體沉積系統(tǒng)PECVD

    SENTECH Depolab 200 是基本的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 （PECVD） 系統(tǒng)，適用于沉積用于蝕刻掩模、膜和電隔離膜以及許多其他材料的介電膜。
    型號(hào)： SENTECH D... 所在地：德國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:46:16 對(duì)比

  • 無(wú)掩膜光刻機(jī)

    Speed系列是高速版的無(wú)掩膜版紫外光刻機(jī)，其無(wú)掩膜光刻機(jī)配備了先進(jìn)的高速空間光調(diào)制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機(jī)不僅保證了高精度和高靈活性，更在這一...
    型號(hào)： UV Litho-... 所在地：蘇州市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:43:34 對(duì)比

  • 化學(xué)氣相沉積等離子體CVD系統(tǒng)

    PD-220N是用于沉積各種硅薄膜（SiO2、Si3N4等）的等離子體CVD系統(tǒng)。 PD-220N在提供薄膜沉積所需的全部功能的同時(shí)，占地面積比本公司的傳統(tǒng)系統(tǒng)...
    型號(hào)： PD-220N 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:41:10 對(duì)比

  • 原子層沉積ALD

    用于高級(jí)研究的先進(jìn)能力Veeco 是原子層沉積 （ALD） 系統(tǒng)供應(yīng)商，為研究和工業(yè)提供全面的服務(wù)和多功能的交鑰匙系統(tǒng)，這些系統(tǒng)易于訪問(wèn)、經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且精確到原子尺...
    型號(hào)： Savannah 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:40:21 對(duì)比

  • RIE等離子刻蝕系統(tǒng)

    SENTECH SI 500 CCP 系統(tǒng)使用動(dòng)態(tài)溫度控制和氦背冷卻，代表了材料蝕刻靈活性的優(yōu)勢(shì)。等離子體蝕刻過(guò)程中的襯底溫度設(shè)置和穩(wěn)定性是高質(zhì)量蝕刻的嚴(yán)格標(biāo)準(zhǔn)...
    型號(hào)： SENTECH S... 所在地：德國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:35:38 對(duì)比

  • 星型全自動(dòng)涂膠顯影機(jī)

    KS-S150星型全自動(dòng)涂膠顯影機(jī)用于LED-PSS工藝的涂膠顯影制程及化合物半導(dǎo)體的涂膠顯影等制程?？杉嫒菟{(lán)寶石、砷化鎵和碳化硅等材質(zhì)的晶圓，產(chǎn)品涉及多個(gè)應(yīng)用...
    型號(hào)： KS-S150 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:31:57 對(duì)比

  • 等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)

    PD-330STC是一種低溫(80 ~ 400°C)、高速(300 nm/min)的等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)，可用于大規(guī)模生產(chǎn)。Samco的液態(tài)源CVD...
    型號(hào)： PD-330STC 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:31:17 對(duì)比

  • 等離子刻蝕系統(tǒng)RIE

    SENTECH SI 591 緊湊型 RIE 等離子蝕刻系統(tǒng)具有負(fù)載鎖定功能，是氯基和氟基 RIE 的緊湊型解決方案。
    型號(hào)： SENTECH S... 所在地：德國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:31:13 對(duì)比

  • RIE等離子蝕刻系統(tǒng)

    SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統(tǒng)代表了一系列直接加載等離子體蝕刻系統(tǒng)，結(jié)合了RIE平行板電極設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)和直接負(fù)載的成本效益設(shè)計(jì)。
    型號(hào)： SENTECH E... 所在地：德國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:16:02 對(duì)比

  • 深硅刻蝕設(shè)備

    RIE-400iPB是一款電感耦合等離子體放電設(shè)備，用于博世MEMS和電子元件工藝中的高速硅深孔加工。RIE-800iPB是為研究和開(kāi)發(fā)目的而改裝的。該系統(tǒng)由R...
    型號(hào)： RIE-400iP... 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:12:01 對(duì)比

  • 激光掩模光刻機(jī)

    ULTRA激光掩模光刻機(jī) 是專門用于成熟半導(dǎo)體光掩模的合格激光掩模機(jī)。半導(dǎo)體光掩模用于制造電子設(shè)備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) （IoT） 和 ME...
    型號(hào)： ULTRA 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:11:10 對(duì)比

  • 無(wú)掩膜光刻機(jī)

    ACA系列是科研版的無(wú)掩膜版紫外光刻機(jī)，其基于空間光調(diào)制技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻，靈活性使其成為科學(xué)研究。設(shè)備搭載長(zhǎng)壽命、高功率的紫外光源，設(shè)備穩(wěn)定，上手簡(jiǎn)單。...
    型號(hào)： UV Litho-... 所在地：蘇州市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:08:14 對(duì)比

  • 雙軸全自動(dòng)晶圓劃片機(jī)

    8230雙軸全自動(dòng)晶圓劃片機(jī)：一款專為半導(dǎo)體制造設(shè)計(jì)的設(shè)備，集高效、精準(zhǔn)、高性能與低成本于一身，最大支持12英寸晶圓切割。雙軸對(duì)向設(shè)計(jì)，提升切割效率，滿足高精度...
    型號(hào)： 8230 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:04:00 對(duì)比

  • 等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備

    RIE-350iPC是一種盒式裝載電感耦合等離子體(ICP)蝕刻設(shè)備，可處理多達(dá)ø350毫米的載盤，用于多晶圓批量處理。該系統(tǒng)為各種蝕刻應(yīng)用提供了堅(jiān)固...
    型號(hào)： RIE-350iP... 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:03:21 對(duì)比

  • 低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統(tǒng)

    SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統(tǒng)代表了電感耦合等離子體 （ICP） 處理的前沿技術(shù)，其最寬溫度范圍為 -150 ...
    型號(hào)： SENTECH S... 所在地：德國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:00:11 對(duì)比

  • 勻膠機(jī)

    Laurell的WS-650-15B型勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有先進(jìn)的功能。這款650系列系統(tǒng)將可容納高達(dá)300mm的晶圓和9英寸×9英寸（229mm...
    型號(hào)： WS-650-15... 所在地：美國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 16:56:30 對(duì)比
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