玻璃珠堆積孔隙模型核磁共振成像與弛豫圖譜測(cè)試實(shí)驗(yàn)
玻璃珠堆積孔隙模型核磁共振成像與弛豫圖譜測(cè)試實(shí)驗(yàn)
實(shí)驗(yàn)說(shuō)明:
實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)備:兩種不同尺寸規(guī)格的玻璃珠,小玻璃珠直徑為um級(jí),大玻璃珠直徑為mm級(jí);自來(lái)水;五水硫酸銅。
實(shí)驗(yàn)儀器:巖心核磁共振成像分析儀,頻率約22MHz,探頭線圈直徑15mm,實(shí)驗(yàn)溫度控制在31.99-32.00℃;
孔隙度、滲透率測(cè)定運(yùn)用核磁共振巖心分析測(cè)量軟件;
使用核磁共振成像軟件,全用自旋回波序列,完成T2加權(quán)像;
分析與結(jié)果:
孔隙度測(cè)定
由于大小兩類玻璃珠形成的孔隙大小不同,飽水后(孔隙*被水充滿)孔隙內(nèi)水的弛豫時(shí)間差別較大,定標(biāo)時(shí)分別用純水做大玻璃珠定標(biāo)線,用飽水后的小玻璃珠做小玻璃珠的定標(biāo)線。定標(biāo)數(shù)據(jù)如下:
飽和度、滲透率測(cè)定
在干燥玻璃珠內(nèi)不斷滴入水,直至飽水。取滴水過(guò)程的三個(gè)時(shí)間點(diǎn)(暫態(tài))做孔隙度測(cè)定,飽和度=(暫態(tài)孔隙度/飽水孔隙度)*(暫態(tài)總體積/飽水總體積)。滲透率計(jì)算按SDR模型,設(shè)模型參數(shù)a=1。測(cè)試結(jié)果如下:
飽和度計(jì)算是在孔隙度的基礎(chǔ)之上的,所以其準(zhǔn)確度與孔隙度的準(zhǔn)確度密切相關(guān)。滲透率隨著水量增加而增加,且在同級(jí)別飽和度下,大玻璃珠內(nèi)滲透率大于小玻璃珠。核磁共振成像小玻璃珠成像
左:飽水時(shí),飽和度=100%;右:飽和度=14.31% 左圖的圖像上方較亮部分為水溶液,下方偏暗色區(qū)域?yàn)轱査男〔Aе?。右圖的圖像中為非飽水樣品。由圖像可知在樣品內(nèi)部水分分布并不均勻。
大玻璃珠成像
左、右為同一只樣品。得到左側(cè)圖像后將樣品攪動(dòng)后再采集右側(cè)圖像,以觀察變化。孔徑分布
當(dāng)孔隙內(nèi)的液體為水且磁場(chǎng)梯度近似為零時(shí),多孔介質(zhì)體系中T2只與孔隙結(jié)構(gòu)有關(guān),在已知T2分布的情況下,即可根據(jù)設(shè)定模型求出孔隙分布情況。
左:大玻璃珠孔隙分布,飽和度分別為1:32.35%;2:71.13%,3:94.08%;4:100%。右:小玻璃珠孔隙分布,飽和度分別為1:19.25%;2:40.57%,3:60.26%;4:100%。圖中橫坐標(biāo)為T2,縱坐標(biāo)為信號(hào)強(qiáng)度。對(duì)于同一幅T2分布圖,各個(gè)峰面積比總面積代表對(duì)應(yīng)孔隙所占比例。
大、小玻璃珠隨著飽和度的升高,信號(hào)強(qiáng)度逐漸增強(qiáng),各個(gè)峰之間的比例關(guān)系較為固定,說(shuō)明孔隙分布受飽和度影響較小。
核磁共振知識(shí)科譜:
目前,核磁共振已經(jīng)成為石油勘探的有力工具,它能夠準(zhǔn)確的分析巖心孔隙結(jié)構(gòu),提供孔隙度、孔隙分布、滲透率、束縛流體飽和度、自由流體飽和度等較為全面的孔隙結(jié)構(gòu)相關(guān)信息。其次,核磁共振也是目前*能夠準(zhǔn)確分析孔隙內(nèi)流體性質(zhì)和狀態(tài)的有力工具,與常規(guī)的中子、密度和聲波測(cè)量方法相比,核磁共振方法可以提供以下三種常規(guī)方法無(wú)法得到的巖層信息:
(1) 關(guān)于孔隙中流體數(shù)量的信息;
?。?) 關(guān)于流體特性的信息;
?。?) 關(guān)于含流體孔隙尺寸的信息。
低場(chǎng)核磁研究的內(nèi)容主要是物質(zhì)的弛豫特性,即物質(zhì)核磁信號(hào)的衰減快慢。通常,我們用弛豫時(shí)間來(lái)表示物質(zhì)弛豫的快慢,弛豫時(shí)間越短,物質(zhì)核磁信號(hào)衰減的越快。 巖心是較為典型的多孔介質(zhì),在巖心內(nèi)往往會(huì)發(fā)生以下三種弛豫現(xiàn)象:
1、體弛豫
體弛豫(bulk relaxation),是指多孔介質(zhì)孔隙內(nèi)液體固有的弛豫機(jī)制,這與大多數(shù)液體體系的弛豫機(jī)制相同,其弛豫的快慢由液體的物理屬性(如粘度、物質(zhì)結(jié)構(gòu)等)決定,其與孔隙本身無(wú)關(guān),通常發(fā)生在孔隙尺寸在50nm以上的大孔隙或巖心裂縫處。
2、表面弛豫
表面弛豫(surface relaxation),是與多孔介質(zhì)孔隙大小相關(guān)的弛豫機(jī)制,該弛豫發(fā)生在液體與固體的接觸面,其弛豫的快慢由孔隙大小來(lái)決定,孔隙越小,弛豫的速度越快,通常發(fā)生在尺寸在2nm‐50nm之間的孔隙內(nèi)部。
3、擴(kuò)散弛豫
擴(kuò)散弛豫(diffusion relaxation),是受孔隙內(nèi)液體本身自擴(kuò)散影響的弛豫機(jī)制,擴(kuò)散只會(huì)影響體系的橫向弛豫時(shí)間而不會(huì)影響體系的縱向弛豫,因此,只存在橫向擴(kuò)散弛豫。
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