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一體式磁控濺射鍍膜機(jī)的系統(tǒng)功能及構(gòu)成
一體式磁控濺射鍍膜機(jī)為高真空多功能三靶位（永磁靶）磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級(jí)的單層及多層功能膜和復(fù)合膜-可鍍金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜(需配射頻電源)、介質(zhì)復(fù)合膜和其它化學(xué)反應(yīng)膜等。系統(tǒng)主要由濺射室、永磁磁控濺射靶（三個(gè)靶）、直流電源、全自動(dòng)匹配射頻電源、樣品臺(tái)、樣品加熱爐、泵抽系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)等組成?？蓪?shí)現(xiàn)自動(dòng)鍍膜控制。真空室采用臥式前開門結(jié)構(gòu)，有利于靶材更換及裝卸樣品，內(nèi)部裝有便于更換的防污襯板，減少真空室污染，利于整體清潔。鍍膜工藝壓力控制采用電動(dòng)插板閥+MFC自動(dòng)控制，保證鍍膜鍍膜工藝具有較高的可靠性、穩(wěn)定性和重復(fù)性。
該系統(tǒng)為單室結(jié)構(gòu)，主要由濺射真空室、磁控濺射靶、自轉(zhuǎn)基片臺(tái)、加熱系統(tǒng)、直流電源、射頻電源、工作氣路、真空獲得系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量、水冷卻及報(bào)警系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成，可用于金屬薄膜、介質(zhì)膜等的制備。
加熱裝置在真空室上法蘭上，對(duì)基片托板進(jìn)行加熱，通過(guò)熱電偶控制控溫電源實(shí)現(xiàn)閉環(huán)控制，系統(tǒng)由加熱器和1個(gè)加熱控溫電源組成，加熱電源配備日本進(jìn)口控溫表，控溫方式為PID自動(dòng)控溫及數(shù)字顯示；樣品加熱溫度：室溫～600°C，連續(xù)可調(diào)。
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