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等離子去膠的原理主要是利用等離子體在真空中對(duì)膠質(zhì)進(jìn)行刻蝕，達(dá)到去除產(chǎn)品表面膠質(zhì)的目的。在等離子去膠過程中，需要將產(chǎn)品放入到等離子發(fā)生器中，并使用高頻交流電源產(chǎn)生電弧放電，使氣體（如氧氣、氮?dú)猓╇婋x并產(chǎn)生等離子體。
等離子體具有的能量密度和反應(yīng)活性，可以快速地破壞材料表面的化學(xué)鍵，將其表面附著物分解成小分子或原子，并將其氧化或還原，從而去除表面的附著物。在等離子去膠過程中，等離子體主要通過物理和化學(xué)兩種作用對(duì)膠質(zhì)進(jìn)行刻蝕。
一方面，物理作用利用高能離子對(duì)清洗物件進(jìn)行轟擊，使表面的膠質(zhì)物質(zhì)受到?jīng)_擊和振動(dòng)，變得松散并從表面脫落。另一方面，化學(xué)作用則是通過活性粒子與表面膠質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，使其分解成小分子或原子，并氧化或還原成其他元素，從而去除表面膠質(zhì)。
等離子去膠的原理與等離子清洗類似，但等離子去膠主要針對(duì)的是去除表面的膠質(zhì)物質(zhì)，而等離子清洗則主要針對(duì)的是清洗表面的污垢和雜質(zhì)。相比傳統(tǒng)的濕式清洗方法，等離子去膠具有更高的清潔效率和更少的環(huán)境污染。同時(shí)，由于其低溫處理特點(diǎn)，也減少了對(duì)清洗物件本身造成的損壞。因此，等離子去膠已成為現(xiàn)代制造業(yè)和精密儀器領(lǐng)域中廣泛應(yīng)用的一種清洗技術(shù)。
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