鵬城半導體研發(fā)設計制造了熱絲CVD 金剛石設備，分為實驗型設備和生產型設備兩類。

熱絲CVD金剛石設備主要用于微米晶和納米晶金剛石薄膜、導電金剛石薄膜、硬質合金基金剛石涂層刀具、陶瓷軸承內孔鍍金剛石薄膜等。例如可用于生產制造環(huán)保領域污水處理用的耐腐蝕金剛石導電電極。

可用于平面工件的金剛石薄膜制備，也可用于刀具表面或其它不規(guī)則表面的金剛石硬質涂層制備。

平面工作尺寸

圓形平面工作的尺寸：φ650mm。

矩形工作尺寸的寬度600mm/長度可根據鍍膜室的長度確定（如：工件長度1200mm）。

配置冷水樣品臺。

熱絲電源功率

可達300KW，1KW ～300KW可調（可根據用戶工藝需求配置功率范圍）

設備安全性

-電力系統(tǒng)的檢測與保護

-設置真空檢測與報警保護功能

-冷卻循環(huán)水系統(tǒng)壓力檢測和流量檢測與報警保護

-設置水壓檢測與報警保護裝置

-設置水流檢測報警裝置

熱絲CVD金剛石設備構成

真空室構成

雙層水冷結構，立式圓形、立式D形、立式矩形、臥式矩形,前后開門，真空尺寸,根據工件尺寸和數量確定。

熱絲

熱絲材料：鉭絲、或鎢絲

熱絲溫度：1800℃～ 2500℃ 可調

樣品臺

可水冷、可加偏壓、可旋轉、可升降 ，由調速電機控制，可實現自動升降，（熱絲與襯底間距在5 ～ 100mm范圍內可調），要求升降平穩(wěn),上下波動不大于0.1mm。

工作氣路（CVD）

工作氣路根據用戶工藝要求配置：

下面氣體配置是某一用戶的配置案例。

H2(5000sccm，濃度*100*%)

CH4(200sccm，濃度*100*%)

B2H6（50sccm，H2濃度99%）

Ar(1000sccm，濃度*100*%)

真空獲得及測量系統(tǒng)

控制系統(tǒng)及軟件

實驗型 熱絲CVD 金剛石設備

單面熱絲CVD 金剛石設備

雙面熱絲CVD 金剛石設備

生產型熱絲CVD  金剛石設備

可制備金剛石面積-寬650*1200mm

可制備金剛石φ 650mm