目錄:四方光電（武漢）儀器有限公司>>氣體分析儀器>>煤氣分析儀>> 四方光電原位激光過程氣體分析儀
| 產地類別 | 國產 |
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原位激光過程氣體分析儀是基于可調諧半導體激光吸收光譜技術(TDLAS)的高性能光學分析儀器，采用對射式設計，可用于工業(yè)過程氣體控制；其響應時間快速，在原位式測量中一般以秒計算，避免采樣式測量帶來的時間延遲，可在線及時的反應被測氣體濃度。
技術參數(shù)：
| 性能參數(shù) | |
| 測量組份 | O2、CO、CO2、CH4* |
| 測量原理 | TDLAS |
| 測試范圍 | O2:(0 ～ 5)%VOL （可定制100%） CO:(0 ～ 100)%VOL CO2:(0 ～ 100)%VOL CH4:(0 ～ 20)%VOL |
| 精度 | ≤±1%F.S. |
| 重復性 | ≤±1% |
| 量程漂移 | ≤±1%F.S. |
| 分辨率 | 0.01%VOL |
| 響應時間 | T90≤1s |
| 工作參數(shù) | |
| 防爆等級 | Exd II CT6 |
| 安裝方式 | 原位安裝 |
| 環(huán)境溫度 | （-20～ +60）℃ |
| 工作電源 | 24V DC，24W |
| 吹掃氣體 | （0.3～ 0.8）MPa工業(yè)氮氣 |
| 接口信號 | |
| 通訊 | RS485、RS232 |
| 輸出模式 | 2路4-20mA輸出 3路繼電器輸出 |
| *注釋：每套分析儀測量單一組分氣體濃度 | |
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