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優(yōu)異的石墨爐系統(tǒng)

成熟、先進的縱向升溫方式

石墨爐原子化溫度*高可達3000℃，符合國家標準對鎳、鉬、釩、鈷等高溫元素石墨爐原子化溫度的要求。

穩(wěn)定性好

先進的光學系統(tǒng)保證了儀器的高光學能量，在使用石墨爐檢測時的負高壓比國內(nèi)其它產(chǎn)品在同等條件下低（100～200）V（各元素勻能達到此程度），高信噪比保證了數(shù)據(jù)的穩(wěn)定性。

*大進樣量顯著提高

特別設(shè)計的石墨爐使*大進樣量高達70μL，有利于多次進樣和低濃度樣品分析。

背景校正能力強

具有連續(xù)光源氘燈背景校正系統(tǒng)及自吸收背景校正系統(tǒng)，可校正高達1A的背景干擾。

升溫速率高

使用光學控溫大大提高升溫速率，實現(xiàn)快速原子化，提高分析靈敏度和準確度。

加熱溫度均勻、精密度高

*特的石墨爐設(shè)計保證了原子化時的等溫效果，為取得高精度的數(shù)據(jù)提供了保障。

全鈦霧化燃燒系統(tǒng)

采用航天高新技術(shù)，失蠟精密鑄造工藝純鈦霧化室及燃燒頭。

具有優(yōu)異的抗腐蝕、抗氧化、抗老化能力，耐高溫，使用壽命長。

人性化的進樣口設(shè)計

進樣口的設(shè)計減少了進樣誤差，使石墨爐進樣變得簡單，保證了即使手動進樣也能取得良好的精密度。

設(shè)計先進的石墨爐

石墨錐磨損后可方便更換，保證了電極導電性能的穩(wěn)定，大大提高了儀器分析效率。

高度自動化的數(shù)據(jù)處理工作站

軟件界面

• 友好的操作界面

基于Windows XP操作平臺，多語言支持，如英文、韓文等，能夠快速便捷地得出分析報告。

• 儀器連接采用網(wǎng)口通訊方式，可遠程調(diào)入主機數(shù)據(jù)

• 強大的樣品分析功能及容錯處理，靈活修改曲線擬合方程

• 報告打印功能

靈活的報告打印功能，根據(jù)用戶設(shè)置選擇不同的打印報告。

• 數(shù)據(jù)管理功能

實現(xiàn)對歷史管理備份功能以及相關(guān)的后續(xù)處理，具有訪問控制、權(quán)限分配、審計追蹤、電子簽名和備份恢復等功能。

• QA/QC控制功能

系統(tǒng)自動判斷分析結(jié)果是否適當，如果超出范圍則系統(tǒng)自動按照設(shè)置需求重新測量。關(guān)于本系統(tǒng)的QA/QC功能主要包括：標準偏差（SD）檢測、相對標準偏差（RSD）檢測、相關(guān)系數(shù)檢測、QC檢測、基線漂移（靈敏度修正）檢測、樣品上限檢測。

• 儀器控制功能

包括元素燈自動選擇、波長自動掃描、狹縫自動切換、燈電流自動設(shè)定等。

• 狀態(tài)監(jiān)測功能

實時動態(tài)監(jiān)測儀器各部件工作狀態(tài)?；鹧娣ǎ罕O(jiān)測燃燒頭類型（空氣乙炔或笑氣乙炔燃燒頭），監(jiān)測水封液位，監(jiān)測燃氣、助燃氣開關(guān)及壓力，監(jiān)測燃氣流量，乙炔漏氣報警等。石墨爐法：過電流保護，監(jiān)測水溫、水流量，監(jiān)測保護氣壓力等。

• 點燈時間管理功能

自動記錄元素燈使用時間。

• 石墨爐使用次數(shù)監(jiān)控

技術(shù)指標
• 光學系統(tǒng)

波長范圍：（190～900）nm
光譜帶寬：（0.1、0.2、0.4、1.0、2.0）nm五檔自動切換

單色儀：C-T光柵單色儀
波長準確度： ±0.1nm

波長重復性： ≤0.05nm
光柵刻線：1800條/mm

閃耀波長：250nm
分辨率：優(yōu)于0.1nm
基線穩(wěn)定性：≤0.003A/30min(動態(tài))

                    ≤0.002A/30min(靜態(tài))

• 火焰分析

Cu特征濃度：≤0.02 μg/mL/1% 檢出限：≤0.003 μg/mL

精密度RSD：≤0.45% 燃燒頭：可配100mm全鈦燃燒頭或50mm不銹鋼燃燒頭

位置調(diào)節(jié)：高度、角度*佳調(diào)節(jié)，一分鐘內(nèi)完成火焰/氫化物換裝

霧化器：標配高效玻璃霧化器和全鈦金屬霧化器；全鈦金屬霧化器適用于含腐蝕性HF樣品的分析

• 石墨爐分析

Cd特征量：0.3×10-12g
檢出限：0.2×10-12g

溫控范圍：室溫～3000℃
精密度RSD：≤1.8%

控溫程序：*大20階升溫程序，階梯、斜坡、保持三種升溫方式

光控升溫速率：≥3000℃/秒
功率升溫速率：≥2000℃/秒

升溫模式：功率升溫和光控快速升溫
控溫方式：室溫～1000℃采用功率控溫，1000℃～3000℃

                 采用光控升溫，控溫精度≤1%，溫度重現(xiàn)性≤0.5%

• 背景校正

火焰、石墨爐均可實現(xiàn)背景校正。

校正方式：氘燈、自吸背景校正（可選）。

校正能力：在背景吸收值接近于1.0Abs時，儀器具有60倍以上的背景校正能力。

• 數(shù)據(jù)處理

測量方式：火焰吸收法，火焰發(fā)射法，石墨爐法，氫化物法。

分析方法：線性方程、非線性方程、標準加入法。

打印輸出：校準曲線、信號圖譜、儀器條件、分析參數(shù)和分析結(jié)果等均可自動存儲和打印。

• 石墨爐電源內(nèi)置的一體化主機

尺寸：890(長)×570(寬)×490(高)mm，125kg。

電源：～220V 50Hz 單相供電，主機500W，石墨爐5kW。

高精度石墨爐分析系統(tǒng)

石墨爐分析系統(tǒng)*重要指標是分析數(shù)據(jù)的重復性，超微量級分析對分析數(shù)據(jù)的精密度在不同含量水平上有不同的要求，各個行業(yè)都有明確地規(guī)定，一個合格的石墨爐分析系統(tǒng)必須能滿足這一重要指標。此外還有準確的溫度控制、性能優(yōu)異的石墨管、快速升溫電路、信號快速檢測電路以及**的石墨爐分析操作軟件等輔助手段保證分析數(shù)據(jù)的精密度。

邊緣波長元素的高精度分析

處于原子吸收分析波長邊緣區(qū)的代表元素是As(193.7nm)和Cs(852.1nm),它們的分析線能量低，處在儀器單色器光柵的低端和高*，因而將這兩元素的分析性能用作儀器光學性能的評估。

圖1 As的線性和精密度圖

應用5μg/L的Cs溶液20μL連續(xù)七次手工進樣獲得的精密度2.95%(RSD)和應用30μg/L的As溶液20μL連續(xù)七次手工進樣獲得的精密度2.75%(RSD)均達到了石墨爐分析的**水平。