BTX高通量多孔板優(yōu)化電穿孔系統(tǒng)HT-MOS用多孔板取代傳統(tǒng)的樣品電極杯，可同時處理大量常規(guī)樣品，大大提高了通量，并可進行實驗條件優(yōu)化，有效地加快實驗進程。

BTX高通量多孔板優(yōu)化電穿孔系統(tǒng)HT-MOS由三個部分組成：脈沖發(fā)生器（ECM830/630）、MOS板處理儀、MOS板，該系統(tǒng)使用新的25孔（5×5）或96（8×12）孔板代替?zhèn)鹘y(tǒng)的樣品電極杯，能在數秒內完成許多樣品的電穿孔操作，大大提高通量，加快了實驗進程。還可對每列設置不同的電穿孔參數，方便進行參數優(yōu)化實驗，迅速找到最合適的電穿孔實驗參數，獲得理想的實驗效果。

準確性：

擁有專業(yè)技術的復合電極消除交叉污染，隨板附送的平板蓋保證樣品的潔凈。

快速性

高通量表現，在數秒間完成多個樣品的電穿孔，適用于條件優(yōu)化選擇。

應用廣：

廣泛適用于高通量進行電穿孔條件優(yōu)化的實驗：哺乳動物細胞轉染；細菌、酵母和植物細胞的轉化；siRNA和cDNA文庫構建等。

脈沖發(fā)生器：給MOS板處理儀提供電脈沖，與ECM630或ECM830兼容。

MOS板處理儀： HT-100MOS板處理儀需手動使脈沖一列一列依次進行，HT-200MOS板處理儀可自動將脈沖逐列傳遞。

電壓范圍： 0 to 3000 V 直流電脈沖

脈沖時間： 10μsec to 10 sec

脈沖次數： 1 to 99

MOS板：每一個MOS板包含96（8×12）或25（5×5）個獨立的小孔，每列設置不同的電穿孔參數，可進行快速的參數優(yōu)化，用于高通量的樣品處理。電極材料為鋁合金，有不同的間距滿足用戶的不同需求。