二手X射線熒光測(cè)量?jī)x測(cè)厚儀膜厚儀回收產(chǎn)品介紹：

XRD簡(jiǎn)單地說(shuō)螢光X射線裝置(XRF)和X射線衍射裝置(XRD)有何不同,螢光X射線裝置(XRF)能得到某物質(zhì)中的元素信息(物質(zhì)構(gòu)成,組成和鍍層厚度),X射線衍射裝置(XRD)能得到某物質(zhì)中的結(jié)晶信息。

具體地說(shuō),比如用不同的裝置測(cè)定食鹽(氯化鈉=NaCl)時(shí),從螢光X射線裝置得到的信息為此物質(zhì)由鈉(Na)和氯(Cl)構(gòu)成,而從X射線衍射裝置得到的信息為此物質(zhì)由氯化鈉(NaCl)的結(jié)晶構(gòu)成。單純地看也許會(huì)認(rèn)為能知道結(jié)晶狀態(tài)的X射線衍射裝置(XRD為好,但當(dāng)測(cè)定含多種化合物的物質(zhì)時(shí)只用衍射裝置(XRD)就很難判定,必須先用螢光X射線裝置(XRF)得到元素信息后才能進(jìn)行定性。

膜厚儀也叫X射線測(cè)厚儀，它的原理是物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài)，此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來(lái)，而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來(lái)。熒光X射線鍍層厚度測(cè)量?jī)x或成分分析儀的原理就是測(cè)量這被釋放出來(lái)的熒光的能量及強(qiáng)度，來(lái)進(jìn)行定性和定量分析。

膜厚儀又名膜厚測(cè)試儀，分為手持式和臺(tái)式二種，手持式又有磁感應(yīng)鍍層測(cè)厚儀，電渦流鍍層測(cè)厚儀，熒光X射線儀鍍層測(cè)厚儀。手持式的磁感應(yīng)原理時(shí)，利用從測(cè)頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來(lái)測(cè)定覆層厚度。也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小，來(lái)表示其覆層厚度

臺(tái)式的熒光X射線膜厚儀，是通過(guò)一次X射線穿透金屬元素樣品時(shí)·產(chǎn)生低能量的光子，俗稱為二次熒光，,在通過(guò)計(jì)算二次熒光的能量來(lái)計(jì)算厚度值

高性能X射線熒光測(cè)量?jī)x，配有*的硅漂移探測(cè)器(SDD)，可快速、無(wú)損地進(jìn)行RoHS檢測(cè)、材料分析和鍍層厚度測(cè)量。

二手X射線熒光測(cè)量?jī)x測(cè)厚儀膜厚儀回收特點(diǎn)

高性能機(jī)型，具有強(qiáng)大的綜合測(cè)量能力

配有4 個(gè)電動(dòng)調(diào)節(jié)的準(zhǔn)直器和6個(gè)電動(dòng)調(diào)節(jié)的基本慮片

配備高分辨率硅漂移探測(cè)器 (SDD)，還適用于更復(fù)雜的多元素分析

由下至上的測(cè)量方向，可以非常簡(jiǎn)便地實(shí)現(xiàn)樣品定位  

典型應(yīng)用領(lǐng)域

對(duì)電子和半導(dǎo)體行業(yè)中僅幾個(gè)納米的功能性鍍層進(jìn)行測(cè)量

對(duì)有害物質(zhì)進(jìn)行痕量分析，例如，玩具中的鉛含量

在珠寶和手表業(yè)，以及在金屬精煉領(lǐng)域，對(duì)合金進(jìn)行高精度的分析

用于高校研究和工業(yè)研發(fā)領(lǐng)域