1.產(chǎn)品概述:
該設備主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng);真空測量系統(tǒng);蒸發(fā)源;電控系統(tǒng);配氣系統(tǒng)等部分組成。
2.設備用途:
熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內,通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程??稍诟哒婵障抡舭l(fā)高質量的不同厚度的金屬薄膜,廣泛應用于物理,生物,化學,材料,電子等域。蒸鍍薄膜種類:Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有機物等
3.產(chǎn)品配置:
真空室結構:六邊形側開門
真空室尺寸:φ350×370mm
限真空度:≤6.6E-4Pa
沉積源:1個鎢舟、2個有機源
樣品尺寸,溫度:大可放置4片20mmx25mm的基片,基片不加熱,可自轉,速度5~20轉/分;
占地面積(長x寬x高):約1米x1米x1.9米
電控描述:手動
樣品臺:可放置基片,并可能具有旋轉、加熱等功能,以滿足不同的工藝需求。例如,加熱功能可以使樣品達到一定溫度,適應某些材料的沉積要求;旋轉功能有助于提高薄膜的均勻性。
控制系統(tǒng):采用先進的控制系統(tǒng),方便用戶設置和調整工藝參數(shù),如蒸發(fā)速率、沉積時間等。
多種材料沉積能力:可以沉積多種不同的薄膜材料,以滿足不同的應用需求。
良好的穩(wěn)定性和可靠性:確保系統(tǒng)能夠長時間穩(wěn)定運行,保證薄膜沉積的重復性和一致性。
可視化操作界面:可能具有直觀的操作界面,方便用戶進行操作和監(jiān)控。
不同型號的 SMART 蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)在具體參數(shù)和功能上可能會存在差異,例如真空度的高低、蒸發(fā)源的類型和功率、樣品臺的尺寸和可調節(jié)范圍、膜厚監(jiān)測的精度等。