GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀(全自動(dòng)離子濺射儀)主要適用于掃描電鏡鍍覆導(dǎo)電膜,儀器操作簡(jiǎn)單方便,是樣品制備所必要的儀器。適用的靶材:金、鉑、金鈀合金、銀、鉛、銅、鉻、銻等!
描述
1、離子濺射儀工作原理:磁控濺射;
2、可選靶材:金,鉑,金鈀合金,鉛,銀,銅,鉻,銻等;
3、真空室:φ128×100高硅硼玻璃;
4、全自動(dòng)操作,簡(jiǎn)單易用,非常適用鎢燈絲、臺(tái)式掃描電鏡等;
濺射電流自動(dòng)調(diào)整—設(shè)定濺射電流后,系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)真空度,從而達(dá)到設(shè)定的濺射電流,調(diào)整時(shí)間<5s,波動(dòng)范圍<±5%;
5、無(wú)需按“實(shí)驗(yàn)”鍵調(diào)整濺射電流、無(wú)需操作“進(jìn)氣閥”:
?。?)濺射時(shí)間自動(dòng)記憶——同類(lèi)樣品一次設(shè)定即可;
?。?)參數(shù)改變自動(dòng)調(diào)整——濺射過(guò)程中可以隨時(shí)調(diào)整濺射電流和濺射時(shí)長(zhǎng),系統(tǒng)自動(dòng)計(jì)算疊加,無(wú)需終止濺射過(guò)程;
?。?)工作完成自動(dòng)放氣;
?。?)樣品臺(tái)高度調(diào)節(jié)1秒完成;
?。?)濺射過(guò)程可以利用曲線顯示,清晰直觀;
?。?)極限真空:小于1Pa;
6、軟硬件互鎖,防誤操作,安全可靠:
?。?)真空度高于100Pa,啟動(dòng)真空保護(hù),無(wú)法濺射;
?。?)濺射電流高于50mA,停止濺射過(guò)程;
?。?)真空泵工作時(shí),系統(tǒng)無(wú)法進(jìn)行放氣操作;
7、GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀鍍層均勻,導(dǎo)電性良好。

