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LK Technologies低能電子衍射儀真空組件

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號RVL2000

品       牌其他品牌

廠商性質代理商

所  在  地上海市

更新時間:2024-12-13 11:13:58瀏覽次數(shù):431次

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行業(yè)專用儀器
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應用領域 綜合
LK Technologies低能電子衍射儀真空組件
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LK Technologies低能電子衍射儀真空組件LK Technologies低能電子衍射儀真空組件

自1998年以來,LK一直在全球范圍內(nèi)提供LEED低能電子衍射儀系統(tǒng)。

RVL2000低能電子衍射儀(LEED)的精密反向LEED低能電子衍射儀光學元件采用所有UHV結構,無需使用玻璃纖維或聚合物涂層線束。提供完整系列的型號和選件,包括低電流(nA,pA)MCP型號。所有光學器件均采用4網(wǎng)格結構,以實現(xiàn)與俄歇電子能譜AES連用

  • 采用4格鎢光學元件的精密結構

  • 微型1.59厘米直徑電子槍

  • 103度可用視角

  • 0.5%的能量分辨率

  • 提供可伸縮光學元件(標準2英寸和最大4英寸縮回)

  • 安裝法蘭具有整體視口和電氣穿通裝置

  • 與UHV兼容(不使用聚合物涂層或玻璃纖維絕緣線)

  • 低噪音,高性能的俄歇電子設備,帶有集成鎖定放大器

  • MCP版本的pA和nA電流水平

  • 全系列選項包括低調快門,CCD攝像頭和軟件,6英寸和8英寸外徑法蘭型號

  • LK Technologies低能電子衍射儀真空組件

  • LK Technologies低能電子衍射儀真空組件

  • HREELS高分辨電子能量損失譜儀在分辨率和信號水平方面表現(xiàn)全球?,F(xiàn)在結合我們的多通道分析儀選件(EA5000MCA),可實現(xiàn)數(shù)據(jù)采集速度。用于研究表面分子振動,表面聲子和等離子體以及電子能級和能帶隙。

  • LK Technologies低能電子衍射儀真空組件

  • 超高分辨率0.5 meV FWHM

  • 在1.0 meV分辨率(FWHM)下保證探測器電流大于或等于10pA

  • 采用具有可控角度像差的新型靜電偏轉器

  • 具有菜單驅動軟件的低噪聲數(shù)字控制電子設備

  • 用戶可選擇的掃描范圍高達50 eV,適用于電子振動/電子應用

  • LK1000M電子有出色能量分辨率的電子源,針對高輸出電流進行了優(yōu)化 應用于逆UPS,EELS等電子碰撞實驗。

  • LK Technologies低能電子衍射儀真空組件

  • 低于10 meV的能量分辨率可通過能量調節(jié)

  • 在20 meV能量分辨率下,典型輸出電流> 10 nA

  • 單通道雙聚焦單色器,具有空間電荷優(yōu)化功能

  • 5元素變焦鏡頭/轉移鏡頭,適用于長工作距離

  • 整體磁屏蔽

  • 除了表面分析組件外,LK Technologies還專門設計和構建完整的特高壓系統(tǒng),這些系統(tǒng)通常結合了LK組件和其他制造商的多種表面分析方法。

  • 這些系統(tǒng)的常見元件是精密UHV室,主泵(通常是離子泵),輔助泵(通常是渦輪分子),精密樣品操縱器,安裝框架和真空計量??蛻敉ǔR蟮目蛇x組件是快速樣品引入系統(tǒng)(加載鎖定)和烘烤控制。

  • 請聯(lián)系LK獲取更多信息,并討論您的自定義系統(tǒng)要求。多探針分析系統(tǒng)是全球實驗室提供的一個例子:

  • 多探針分析系統(tǒng),包括XPS分析,X射線單色儀,半球形分析儀,AES,ISS,多通道HREELS和帶有快速樣品加載系統(tǒng)的完整樣品制備室。

  • LK Technologies低能電子衍射儀真空組件

LK-Technologies強大,流行的離子源設計用于通過離子濺射清潔表面,光束能量高達3 keV,典型離子電流高達30μA。該噴槍采用了一種新穎的氣體噴射系統(tǒng),該系統(tǒng)允許在典型的1×10 -6托的腔室壓力下進行濺射。

  • 氣體注入系統(tǒng)避免了昂貴的差動泵送設備

  • 低室壓下的惰性氣體濺射

  • 寬離子束確保均勻濺射

  • 與普通濺射清潔和ISS應用兼容

  • 連續(xù)可調諧的電壓從200 V到3 kV

  • 帶USB或以太網(wǎng)接口的數(shù)字控制電子設備



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