VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

1、引言

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是新研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備。

配置兩個靶槍，一個為配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，一個為配套直流電源用于導電類材料的濺射鍍膜;可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛;體積小，操作簡便。

2、主要技術(shù)指標

電源：220V 50Hz

大功率：<560W（不含真空泵）

極限真空度：< E-6mbar（配合本公司設(shè)備使用可達到E-5mbar）

工作溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實際需要提升溫度）

靶槍數(shù)量：2個（可選配其他數(shù)量）

靶槍冷卻方式：水冷

靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）

直流濺射功率：500W（可選）

射頻濺射功率：300W/500W（可選）

載樣臺：Ø140mm

載樣臺轉(zhuǎn)速：1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)

保護氣體：Ar、N2等惰性氣體

進氣氣路：質(zhì)量流量計控制2路進氣，每個流量為100SCCM

尺寸：500mm×560mm×660mm

整機尺寸：1300mm×660mm×1200mm

重量：160kg

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

我公司專業(yè)生產(chǎn)銷售：洛式硬度計，維式硬度計，布氏硬度計，顯微維氏硬度計，便攜式硬度計，磁力式洛式硬度計，里氏硬度計，超聲波硬度計，金相切割機，全自動金相試樣切割機，金相磨拋機，金相預(yù)磨機，金相拋光機，全自動金相試樣磨拋機，手動金相試樣鑲嵌機，全自動金相鑲嵌機。金相拋光劑，金相拋光粉，金相砂紙，金相拋光布，金相切割片，冷鑲嵌樹脂，金相鑲嵌粉，導電鑲嵌粉，透明鑲嵌粉，倒置金相顯微鏡，正置金相顯微鏡，進口金相顯微鏡，體視顯微鏡，視頻顯微鏡，生物顯微鏡，熒光顯微鏡，手動影像測量儀，全自動影像測量儀，一鍵閃測儀，測量投影儀。粗糙度儀，輪廓儀，圓柱度儀。