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詳細介紹
GDZT-50-200-40 加熱冷卻循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。
GDZT-50-200-40 加熱冷卻循環(huán)裝置?特點：
1、分3個系統(tǒng)：制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預冷系統(tǒng)，三個系統(tǒng)可連續(xù)使用，也可分別單獨使用。
2、快速加熱和冷卻，可連續(xù)升降溫。
3、溫度控制范圍寬，全程不需更換導熱介質(zhì)，導熱介質(zhì)消耗少。
4、全封閉循環(huán)系統(tǒng)，高溫時導熱流體不易揮發(fā)和氧化，低溫下不易吸入空氣中的水分，可延長導熱流體的使用壽命。
5、高溫冷卻、制冷功能，可以從高溫直接降溫（如可從200℃直接降溫）。
6、制冷換熱器采用全釬焊板式換熱器，占用空間小，換熱效率高。
7、液位顯示功能，隨時監(jiān)控液位，避免缺液。
8、高溫切斷、急停、延時、漏電、過電流、過熱等多重保護功能，充分保證使用安全。
9、冷凝、預冷方式為風冷，節(jié)約水資源。
技術(shù)參數(shù)：
型號 | GDZT-80-200-40 | |
基 本 參 數(shù) | 可配雙層反應釜 | 80L-100L |
諸液槽容積（L） | 30 | |
加熱容積（L） | 3 | |
加熱罐尺寸(mm) | ￠90×480 | |
油箱尺寸(mm) | 450*150*450 | |
使用溫度范圍（℃） | -40/+200 | |
環(huán)境溫度（℃） | ≤25 | |
環(huán)境相對濕度（℃） | ≤60 | |
空載zui低溫度 | -40℃ | |
電源 | 380V±10% 50HZ | |
加熱功率（W) | 12000 | |
冷卻功率（W) | 10280-1630 | |
儀表控溫范圍 | -100℃-400℃ | |
控溫精度（℃） | ±0.1 | |
傳感器 | PT100 | |
介質(zhì)粘度 | 500C.S.T | |
循環(huán)泵功率（w） | 280 | |
揚程（m) | 10 | |
流量（L/min） | 35 | |
壓力（Mpa） | 4 | |
基 本 配 置 | 制冷機構(gòu) | 采用進口全封閉壓縮機 |
冷\媒 | R404 | |
規(guī)格 | 全封閉無泄露泵 | |
進出油咀 | 6＃(低進高出) | |
控溫方式 | 微電腦智能控溫，液晶顯示 | |
顯示溫度分辨率 | 在控溫范圍內(nèi)任意設定，zui小顯示值0.1℃ | |
安全保護 | 有延時、漏電、過電流、過熱保護 | |
機體材質(zhì) | 噴塑防腐 | |
整機尺寸(mm) | 1070*800*1430 | |
重\量(KG) | 157 | |
附 件 | 進出接頭（套） | 1 |
使用說明書(份) | 1 | |
進出液密封墊（套） | 1 | |
不銹鋼軟管（根） | 2 | |
備注 | 可根據(jù)用戶要求可做防爆型、可配雙進雙出閥門 | |
?典型應用：
1、化工、制藥或生物領域雙層及三層反應釜的溫度控制。
2、攪拌罐的溫度控制。
3、材料測試中的應用。
4、蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。
5、工藝過程中的溫度變化模擬控制。
6、恒溫控制系統(tǒng)。
7、半導體設備的溫度控制。
8、汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制。
9、真空室的溫度控制。
?功能優(yōu)點：
1、智能型溫度控制。
2、溫度控制穩(wěn)定性好。
3、加熱和制冷速度快，可連續(xù)升降溫。
4、全密閉循環(huán)系統(tǒng)，延長導熱油使用壽命。
5、采用磁力驅(qū)動泵，整個溫度范圍內(nèi)實現(xiàn)零泄漏。
6、溫度范圍寬。
7、故障報警功能。
8、具有延時、過熱、過電流保護功能。
9、液位顯示功能，跟蹤監(jiān)控膨脹箱內(nèi)液位。
?控制優(yōu)點：
1、模糊運算和PID主動演算功能控溫精度高，可達到±0.5℃。
2、有預約功能，可設定設備自動運行時間。
3、有待機功能（控制溫度），可以準確控制實驗有效時間。
4、兩種控制方式（定值/程式）。
5、可顯示密閉制冷加熱循環(huán)裝置聯(lián)用負載的溫度變化曲線。
6、程式編程：可編50組程式，每組程式zui大為100段。
7、通訊接口。
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