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CMP后清洗機-單晶圓/掩膜版兆聲清洗：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕...

單晶圓/硅片/掩膜版清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。它可...

LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...

SWC4000 掩模版兆聲清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

兆聲清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統(tǒng)配套機械手，也可以升級...

進口晶圓清洗機：Nano-Master進口兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、...

SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該...

等離子去膠機：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系...

硅片清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗...

SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆...

NPC-3500（A）研發(fā)用等離子去膠機：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠...

研發(fā)用等離子去膠機：Alpha等離子系統(tǒng)ASTRO96是一款低壓微波等離子系統(tǒng)，用于鍵合、模塑、焊錫球黏合前的*進芯片封裝清洗，以及倒裝芯片清洗。ASTRO96...

Q240微波等離子去膠清洗機：Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統(tǒng)，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統(tǒng)可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統(tǒng)為...

Q235微波等離子去膠清洗機：Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統(tǒng)，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統(tǒng)可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統(tǒng)為...

Q150微波等離子去膠清洗機：Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統(tǒng)，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統(tǒng)可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統(tǒng)為...

ASTRO96全自動微波等離子清洗系統(tǒng)：Alpha等離子系統(tǒng)ASTRO96是一款低壓微波等離子系統(tǒng)，用于鍵合、模塑、焊錫球黏合前的*進芯片封裝清洗，以及倒裝芯片...

AL76C立式微波等離子去膠清洗機：AL76C為一體式緊湊型等離子系統(tǒng)，適用于批量生產(chǎn)，也可以i滿足研發(fā)及實驗室應(yīng)用。并且，此系統(tǒng)可以滿足360度的芯片封裝需要...

AL76微波等離子去膠清洗機：AL76等離子系統(tǒng)適用于批量生產(chǎn)，也可以i滿足研發(fā)及實驗室應(yīng)用。并且，此系統(tǒng)可以滿足360度的芯片封裝需要、工業(yè)、醫(yī)藥等領(lǐng)域。AL...

AL18微波等離子去膠清洗機：AL18等離子系統(tǒng)適用于小批量生產(chǎn)和研發(fā)的*設(shè)備。并且，此系統(tǒng)可以滿足360度的芯片封裝需要。AL18系統(tǒng)是一款創(chuàng)新型的通用設(shè)備，...