C-31型 雙面國產(chǎn)光刻機主要用途

 主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

 由于本機找平機構(gòu)先進，找平力小、使本機適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片等的曝光。

C-31型 雙面國產(chǎn)光刻機主要性能指標

1、有三種版夾盤供選擇，能真空吸附5"×5"或4"×4"方形掩版（2.5"×2.5"），版的厚度無特殊要求1.5~3mm皆可。分別用于φ4、φ3、φ2基片的曝光?；穸?.1~1mm都可以。

2、曝光

(1)光源采用GCQ350型超高壓球形汞燈。

(2)照明范圍：≤φ110mm

(3)光的不均勻性：φ100mm范圍內(nèi)≤±4%

(4)可使用的波長：G線、H線、I線的組合。（即3500~5000埃）

(5)成像面照明：使用UV—A型表測量，光照度≤15毫瓦/厘米2左右（采用3650測頭測量），光學結(jié)構(gòu)原理為16面反射式多點光源。

3、采用進口時間繼電器（該繼電器可從0.1秒~999.9秒內(nèi)任意設(shè)定）控制“真空快門"。動作準確可靠。

4、該機為雙面接觸式曝光機，該機特制的翻版機構(gòu)，能消除基片楔形誤差，保證上下二塊掩膜版對基片上下兩面良好的接觸，從而保證基片上下兩面的曝光質(zhì)量。

5、分辨率估量：如果用戶的“版"、“片"精度符合國家規(guī)定、環(huán)境、溫度、濕度以及房間凈化得到嚴格控制，采用進口“正性"光刻膠，且勻膠厚度和均勻度也得到嚴格控制的話，本機曝光最小分辨可達0.002mm，建議使用在≥0.003mm以上。

6、對準：

    A、 兩個單視場變倍顯微鏡加二個CCD攝像機加14"顯示器。

    1）二個單視場變倍顯微鏡的變倍范圍0.7X~4.5X.

    2）二個CCD攝像頭：平面對角線尺為1/3"。

    3）采用19"液晶顯示器，總放大倍數(shù)為0.7×42~4.5×42=30倍~189倍。

    B、對準臺

   首先真空吸附下掩版（注意掩版四個邊，平行于真空吸下掩版的裝置四個邊），然后將上掩版放在下掩版上，轉(zhuǎn)動曝光頭位置，使兩個單視場顯微鏡對準上掩版，調(diào)好左右兩個顯微鏡的焦距，從監(jiān)視屏上看清兩個像。調(diào)整下掩版X、Y和Q轉(zhuǎn)動，使上掩版上的圖像或標記線，顯視到顯示器屏的左右分開的中間位置，然后真空吸附上掩版。上掩版一旦吸附后，再也不能移動。通過下掩版進行X、Y和Q移動后，實現(xiàn)上下掩版的對準工作。

 上下掩版的對準精度≤±0.001mm。

 該機的主要優(yōu)點是，有一個上掩版相對于下掩版的翻轉(zhuǎn)機構(gòu)，該機構(gòu)翻轉(zhuǎn)角度≥90o，甚至可達180o，不僅便于上下基片，而且能保證上下掩版對應(yīng)基片上下面的良好接觸。（能補償基片的楔形誤差），又能保證上下掩版對準了的圖形重合到原來位置，其誤差≤5μm。

 這一點很重要，也就是說上下掩版對準后，不管怎么翻動，怎樣上下基片，上下掩版的圖形仍然是對準的！這對大批量生產(chǎn)的廠家來說很重要，只要上下掩版對準后，你就可以不斷地對基片進行雙面曝光，曝若干片以后，你如果想觀察上下掩版是否仍然對準的，你只要轉(zhuǎn)動曝光頭，使顯微鏡對準版，你就能在顯示器上看見，兩個版的對準情況。

X、Y調(diào)整范圍±4mm

Q轉(zhuǎn)角≤±5o

7、設(shè)備所需能源：

主機電源220V   50HZ   功耗≤1.5KW

配有一臺真空泵，真空泵電源220V

8、尺寸和重量：

尺寸：700（長）×700（寬）×960（高）

重量≤100kg

機體放在專用工作臺上

工作臺  750（長）×720（寬）×640（高）  高度可調(diào)范圍0~30mm

重量70kg (工作臺后側(cè)裝有電氣部分)

總重量≤170kg

9、雙面對準曝光機的組成

    A、 主機

    1）主機（含機體和工作臺）

  2）機體上安裝二臺單視場可變倍數(shù)顯微鏡，二臺CCD攝像頭，一臺19"顯示器，一套很有特色的上下翻版裝置，二個16面反射鏡式多點光源曝光頭。

    B、 附件：（用戶提出后，可配以下附件）

    1）3"上下掩版吸版裝置

    2）3"上下翻板裝置

    3）一個350瓦高壓球形汞燈

    4）真空泵一臺

    5）?8（外徑）高壓用塑料管15m（用于真空管）一根