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FPTOR-RIE600W反應離子刻蝕機系統(tǒng)PX 4176
WINETCHCCP等離子刻蝕機PX 2200
LT-400G過程臭氧分析儀半導體干法清洗設(shè)備專用PX 2915
Plasmalab 133牛津儀器 RIE 半導體刻蝕機PX 3891
SPB5/plusRIE反應離子刻蝕機PX 4148
森泰克刻蝕機Etchlab 200PX 1676
Oxford RIE反應離子刻蝕機PlasmaPro 80PX 2976
PLASMA大氣常壓等離子處理機器PX 1954
customizedCMP后清洗機PX 1900
RIE200/RIE200plus等離子刻蝕機PX 3037
PICO德國Diener等離子清洗機PX 3258
MKS AX7690LAM-23 RPSMKS Revolution RPS AX7690 遠程等離子源PX 2076
VP-RS15等離子刻蝕機PX 2680
離子污染測定儀PX 2130
VP-RS20等離子體刻蝕機PX 2680
FPTOR-ICPRIE-ICP-RIE感應耦合反應離子刻蝕系統(tǒng)PX 4176
ICP等離子刻蝕機PX 2200
FPSEM-icp200e-ICPVCD電感耦合等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 4176
干式超聲波清洗機PX 0
森泰克感應耦合等離子刻蝕機SI 500PX 1676
Wintech ICP-200微蕓電感耦合等離子體刻蝕機PX 0
Wintech CCP-200微蕓電容耦合等離子體刻蝕機PX 0
customized晶圓甩干機PX 1900
RIE-300NRRIE等離子刻蝕設(shè)備PX 1900
customized-12反應性離子刻蝕系統(tǒng)RIEPX 1900
RIE-200CRIE等離子刻蝕設(shè)備PX 1900
Ionfab 300 IBE離子束刻蝕系統(tǒng)IBEPX 1900
customized-14深硅刻蝕系統(tǒng)DEEP SI ETCHPX 1900
RIE-800iP等離子體刻蝕設(shè)備PX 1900
RIE-10NRRIE等離子刻蝕設(shè)備PX 1900
RIE-230iP等離子體(ICP)刻蝕設(shè)備PX 1900
RIE-400iP等離子體(ICP)刻蝕設(shè)備PX 1900
RIE-800iPC等離子體刻蝕設(shè)備PX 1900
PlasmaPen™大氣式等離子清潔系統(tǒng)PX 1900
NE-5700/NE-7800刻蝕設(shè)備PX 1900
KS-CF300/200-8SR全自動SCRUBBER清洗機PX 1900
KS-CM300/200單片式化學清洗機PX 1900
KS-S300-SR單片清洗機PX 1900
ULHITETM NE-7800H高密度等離子刻蝕裝置PX 1900
NLD-570NLD干法刻蝕設(shè)備PX 1900
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導體行業(yè)儀器設(shè)備
森泰克刻蝕機Etchlab 200
森泰克感應耦合等離子刻蝕機SI 500
過程臭氧分析儀半導體干法清洗設(shè)備專用
批量晶圓處理等離子系統(tǒng)
條形等離子清潔系統(tǒng)
大氣式等離子清潔系統(tǒng)
等離子刻蝕集群系統(tǒng)
等離子清洗和加熱機
等離子體刻蝕機
大氣常壓等離子處理機器
日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學儀器有限公司
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