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FPSUR-PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)工作站PX 4176
C2GR16-立式氣相沉積爐PX 2640
FPGEOL-PFG-03C-filmroll全色激光全息膜卷PX 2810
PLUTO-MC真空等離子體涂覆薄膜沉積設備PX 2200
Compact ALD臺式原子層沉積鍍膜系統(tǒng)PX 2834
EC400熱蒸發(fā)鍍膜設備PX 5137
C2GR16-氣相沉積爐PX 2795
CC-200日本ULVAC愛發(fā)科半導體化學氣相沉積設備PX 3917
PICOSUN R-200標準型ALD系統(tǒng)PX 1660
SAL1000G原子層沉積系統(tǒng)PX 3150
GS-30-700廣樹CVD化學氣相沉積碳鍍膜機PX 3793
日本原產(chǎn)Microphase分子束外延系統(tǒng)完善售后服務PX 3370
ACU20FDH-LH沉積設備用高溫分體氣體流量控制器及流量計PX 3724
ICP-500D薄膜沉積CVDPX 3185
氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植PX 1676
TFS 200原子層沉積研究設備PX 1900
GM10/100/1000正極材料包覆PX 2975
微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3107
超高真空磁控濺射外延系統(tǒng)PX 3864
國產(chǎn)PLD脈沖激光分子束外延裝置PX 1895
TF-1200-PECVD等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2480
AT-600原子層沉積系統(tǒng)PX 3258
MFC-5ZCVD化學氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)PX 3606
CVD化學氣相沉積裝置PX 2997
CYRANNUS微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3100
FL-800N物理氣相沉積設備(PVD)冷水機-冷卻系統(tǒng)PX 6764
P 系列粉末原子層沉積系統(tǒng)PX 3217
ZT-60-15立式化學氣相沉積爐PX 4069
ALD R-200原子層沉積系統(tǒng)PX 2866
等離子體化學氣相沉積設備PX 2130
VE-2012日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統(tǒng)PX 4990
轉(zhuǎn)移多壁碳納米管垂直陣列(化學氣相沉積法)PX 4162
Trion Orion HDCVDTrion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2456
TF1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3701
WBMW-DLZ3巨源實驗室常用微波等離子體化學氣相沉積PX 0
FPKOR-HEX-PVD臺式薄膜沉積系統(tǒng)PVD系統(tǒng)PX 2810
FPCTE-Play-ALD等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)PX 4176
FPANR-AT410ALD系統(tǒng),原子層沉積設備PX 4176
CY-PECVD50-1200-Q三溫區(qū)PECVD氣相沉積石墨烯制備PX 0
CY-PECVD100-1200-QPECVD氣相沉積PX 0
薄膜生長設備
工藝測量和檢測設備
集成電路測試與分選設備
光刻及涂膠顯影設備
熱工藝設備/熱處理設備
硅片制備/晶體生長設備
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其它半導體行業(yè)儀器設備
全色激光全息膜卷
脈沖激光沉積系統(tǒng)工作站
臺式薄膜沉積系統(tǒng)PVD系統(tǒng)
磁控濺射物理氣相沉積PVD系統(tǒng)
日本ULVAC愛發(fā)科半導體濺射設備單晶圓復合
日本ULVAC愛發(fā)科半導體化學氣相沉積設備
日本ULVAC愛發(fā)科半導設備化學氣相沉積設備
日本ULVAC愛發(fā)科大型設備濺射SV-9045
真空等離子體涂覆薄膜沉積設備
等離子增加化學氣相沉積CVD系統(tǒng)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學儀器有限公司
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