KW-4A 勻膠機
參考價 | ¥ 8000 |
訂貨量 | ≥1 |
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 深圳市銘奧電子材料有限公司
- 品牌
- 型號 KW-4A
- 產(chǎn)地 深圳市
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2017/8/19 6:33:39
- 訪問次數(shù) 1025
產(chǎn)品標(biāo)簽
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臺式勻膠機
中國半導(dǎo)體行業(yè)標(biāo)志性品牌產(chǎn)品
華尊獎(中國行業(yè)標(biāo)志性品牌推選活動組委會)
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華尊獎(中國行業(yè)標(biāo)志性品牌推選活動組委會)
MINGAO現(xiàn)生產(chǎn)銷售KW-4A型旋轉(zhuǎn)鍍膜機。其價格便宜、體積小巧、使用方便,是一款膜層精密均勻鍍覆的理想產(chǎn)品。其防滑、防震、便攜的設(shè)計,使其成為實驗室中高級科研設(shè)備。
勻膠機簡述:
型號:KW-4A
又稱甩膠機、旋轉(zhuǎn)涂膠機、旋轉(zhuǎn)涂膜機、旋轉(zhuǎn)涂層機、旋轉(zhuǎn)涂布機、真空鍍膜機,其總體由在上SOL-GEI技術(shù)的香港銘奧技術(shù)公司(HK MINGAO TECHNOLOGY, INC) 設(shè)計完成。其主要關(guān)鍵元器件由美國進口,整機裝配由深圳銘奧公司安裝調(diào)試完成。該機2009年已通過CE認(rèn)證,其抗干擾以及干擾性都較其他非CE產(chǎn)品要好。該性能的具體表現(xiàn)為:當(dāng)該在運轉(zhuǎn)時,它不影響同處一室的其他設(shè)備,以保證其他設(shè)備的正常使用(如指針不漂移等受干擾后有影響的反應(yīng));同時它本身也不會受到其他同處一室的設(shè)備運轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的磁場的干擾。從而保證實驗效果的穩(wěn)定性和可靠性。另外由于本公司采取了一些特殊的工藝手段,保證了轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動時平穩(wěn)性,從而保證了制備出來的膜層厚度均勻性。上述證明凱美特公司的能使實驗具有良好的重復(fù)性、*性、穩(wěn)定性。公司根據(jù)對這技術(shù)和工藝的深刻了解所研發(fā)出的薄膜制備設(shè)備系列十多年來以優(yōu)良的品質(zhì)及良好的售后服務(wù)中國、歐美、新加坡、韓國、日本以及中國臺灣地區(qū)等經(jīng)濟和科技發(fā)達國家和地區(qū)。
KW—4A型適用于微電子、半導(dǎo)體、制版、新能源、生物材料、光學(xué)及表面涂覆等工藝,主要應(yīng)用于溶膠-凝膠(sol-gel)實驗中的薄膜制作,其工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂布在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)??稍诠さV企業(yè)、科研、教育等單位作生產(chǎn)、科研、教學(xué)之用。
兩級鍍膜工藝
該工藝允許在低速和高速下鍍覆。KW-4A型旋轉(zhuǎn)鍍膜機可對多種基片(包括新型可旋鍍SPI Supplies氮化硅薄膜窗和多窗陣列)進行金屬氧化物、高分子和有機薄膜的鍍覆。鍍膜機的轉(zhuǎn)速越高,鍍膜越薄。
其他實用信息:
理論上,zui大基片的對角線長為9"(229mm)。通常,KW-4A所用zui大標(biāo)準(zhǔn)尺寸卡盤為6"(152mm)。超過此尺寸,我們就只能提供半定制或定制旋轉(zhuǎn)鍍膜機。筒壁和基片間必須預(yù)留一定的空間防止回濺,因此基片zui大尺寸小于zui大筒徑。另外還與電機功率有關(guān),一旦晶片尺寸超過6"就必須使用更大功率的電機。如果用戶使用的是超薄晶片,該款鍍膜機在極限條件下可對8"晶片進行鍍覆。但用戶需要使用特制的8"卡盤。請注意我們并不能保證在任何情況下都可對8"晶片進行鍍膜。如果您不愿冒此風(fēng)險,請不要訂購此種8"晶片鍍膜配件。
該工藝允許在低速和高速下鍍覆。KW-4A型旋轉(zhuǎn)鍍膜機可對多種基片(包括新型可旋鍍SPI Supplies氮化硅薄膜窗和多窗陣列)進行金屬氧化物、高分子和有機薄膜的鍍覆。鍍膜機的轉(zhuǎn)速越高,鍍膜越薄。
其他實用信息:
理論上,zui大基片的對角線長為9"(229mm)。通常,KW-4A所用zui大標(biāo)準(zhǔn)尺寸卡盤為6"(152mm)。超過此尺寸,我們就只能提供半定制或定制旋轉(zhuǎn)鍍膜機。筒壁和基片間必須預(yù)留一定的空間防止回濺,因此基片zui大尺寸小于zui大筒徑。另外還與電機功率有關(guān),一旦晶片尺寸超過6"就必須使用更大功率的電機。如果用戶使用的是超薄晶片,該款鍍膜機在極限條件下可對8"晶片進行鍍覆。但用戶需要使用特制的8"卡盤。請注意我們并不能保證在任何情況下都可對8"晶片進行鍍膜。如果您不愿冒此風(fēng)險,請不要訂購此種8"晶片鍍膜配件。
本機具有以下特點:
1.電機勵磁和電樞分開供電。勵磁用12伏直流穩(wěn)壓電源供電,電樞用運放控制IRF830調(diào)速,它比可控硅調(diào)速*,故其轉(zhuǎn)速在500—8000轉(zhuǎn)/分范圍內(nèi)非常穩(wěn)定。
2.本有兩檔轉(zhuǎn)速。在啟動之后,先以低速運轉(zhuǎn),然后自動變到高速運轉(zhuǎn)。兩檔速度及運行時間分別可調(diào)。
3.本采用光電檢測,數(shù)字電路測速,對電機的轉(zhuǎn)速檢測快速準(zhǔn)確。電機穩(wěn)速方面采用了光電隔離的精密負(fù)反饋電路,使整機在高達8000RPM以上轉(zhuǎn)速時仍十分穩(wěn)定,有力的保證了勻膠質(zhì)量。
4.“吸片”采用電子開關(guān)控制電磁閥完成氣路通斷,這樣適合流水線工藝,一個氣泵可同時帶幾臺工作,提高效率。
5.定時采用可調(diào)定時電路控制,面板上調(diào)節(jié)Timer旋鈕即可改變勻膠時間。
6.在安裝結(jié)構(gòu)上,采取了減震措施,因而在運轉(zhuǎn)時噪音很低。
7.電磁閥與電機運行有連鎖功能,電磁閥未動作不能啟動電機運行,本次勻膠電機未停不能進行下次勻膠,若運行中誤按“CONTROL”鍵也不能停止吸氣,即不會產(chǎn)生跑片。
由于采用了以上一系列措施,故本機具有很高的轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性和快速啟動性,可以保證涂覆表面均勻,并可通過調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)涂覆厚度。
技術(shù)指標(biāo):本機具有兩級轉(zhuǎn)速
SpeedⅠ調(diào)速范圍 500—2000轉(zhuǎn)/分
TimerⅠ勻膠時間 3—18秒
SpeedⅡ轉(zhuǎn)速范圍 1000—8000轉(zhuǎn)/分
TimerⅡ勻膠時間 3—60秒
轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度 ±1%
電源電壓(二種) 220v/ 50Hz或110v /50Hz
電機功率 40W
被鍍物質(zhì)尺寸 Φ8—Φ150mm
真空泵抽氣速率 ≥60升/分
儀器尺寸:220×240×260 mm
毛重:6.8 Kg
我們是港澳臺地區(qū)zui科研光電產(chǎn)品
信賴從客戶開始,我們的部分客戶群:
中國臺灣大學(xué),香港大學(xué),香港科技大學(xué),香港理工大學(xué),香港城市大學(xué),香港中文大學(xué),深圳大學(xué),中山大學(xué),華南理工大學(xué),哈爾濱工業(yè)大學(xué)等
京東方,上廣電 ,騰龍光電
保定英利太陽能 ,新疆新能源公司 ,尚德電力
北京大學(xué)微電子所 ,清華大學(xué)微電子所 ,中科院半導(dǎo)體所,中科院微電子所,浙江大學(xué),北京理工大學(xué),電子科技大學(xué),上海*
兵器工業(yè)總公司205所,209所,212所,213所,214所,14所
*公司第十一研究所,石家莊十三研究所,太原二所,
*上海技術(shù)物理所,*上海應(yīng)用物理研究所
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中國臺灣大學(xué),香港大學(xué),香港科技大學(xué),香港理工大學(xué),香港城市大學(xué),香港中文大學(xué),深圳大學(xué),中山大學(xué),華南理工大學(xué),哈爾濱工業(yè)大學(xué)等
京東方,上廣電 ,騰龍光電
保定英利太陽能 ,新疆新能源公司 ,尚德電力
北京大學(xué)微電子所 ,清華大學(xué)微電子所 ,中科院半導(dǎo)體所,中科院微電子所,浙江大學(xué),北京理工大學(xué),電子科技大學(xué),上海*
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