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CY-MSH325X-III-DCDCDC-SS 三靶直流磁控濺射鍍膜儀
參考價(jià) | ¥ 250000 |
訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) CY-MSH325X-III-DCDCDC-SS
- 產(chǎn)地 鄭州
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/12/3 14:54:31
- 訪問次數(shù) 17
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產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
---|---|---|---|
應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子,冶金,汽車,電氣 | 真空腔體 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 |
樣品臺(tái)尺寸 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 | 磁控靶 | 普通永磁靶,可調(diào)角度 |
靶材尺寸 | 直徑2英寸,厚度≦3mm, | 濺射功率 | 500W |
三靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購;所配電源為500W直流電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備,三個(gè)靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要,可以定制其他射頻電源和脈沖電源,各型電源均有500W到1000W多種規(guī)格可選。
鍍膜儀配有兩路高精度質(zhì)量流量計(jì),客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計(jì)的氣路,以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求;儀器標(biāo)配渦輪分子泵組,極限真空可達(dá)1.0E-5Pa,同時(shí)另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個(gè)電磁閥控制,可以實(shí)現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機(jī)工控電腦對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行控制,在電腦程序上可以實(shí)現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能,可以進(jìn)一步提高您的實(shí)驗(yàn)效率。
三靶磁控濺射鍍膜儀應(yīng)用范圍:
三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備
三靶直流磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
三靶電磁控濺射鍍膜儀 | ||
樣品臺(tái) | 尺寸 | φ150mm |
控溫精度 | ±1℃ | |
轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
加熱溫度 | ≤750℃ | |
磁控靶槍 | 數(shù)量 | 2” x3 (1”,2”可選) |
靶材尺寸 | 直徑Φ50.8mm,厚度≦3mm | |
水流大小 | 不小于10L/Min | |
冷卻方式 | 循環(huán)水冷 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | Dia.325mm×600mm |
觀察窗口 | φ100mm | |
開啟方式 | 前開式 | |
腔體材料 | 不銹鋼 | |
質(zhì)量流量計(jì) | 2路;量程100sccm;100sccm(可根據(jù)客戶需要定制多路氣路) | |
真空系統(tǒng) | 產(chǎn)品型號(hào) | CY-GZK103-A |
分子泵 | CY-600 | |
抽氣接口 | CF160 | |
排氣接口 | KF40 | |
前極泵 | 旋片泵 | |
真空測(cè)量 | 復(fù)合真空計(jì) | |
供電電源 | AC;220V 50/60Hz | |
極限真空 | 1.0E-5Pa | |
抽氣速率 | 分子泵:600L/S 旋片泵:1.1L/S 綜合抽氣性能:20分鐘真空度可達(dá): 1.0E-3Pa | |
電源配置 | 數(shù)量 | 直流電源x2 射頻電源 x1 |
*大輸出功率 | 直流電源500W 射頻電源500W | |
其他 | 供電電壓 | AC220V,50Hz |
整機(jī)尺寸 | 1090mm X 900mm X 1250mm | |
整機(jī)重量 | 350kg | |
整機(jī)功率 | 6KW | |