化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備>氧化擴散設(shè)備>H83-50 H83-125 H84-125 日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備
H83-50 H83-125 H84-125 日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備
- 公司名稱 玉崎科學(xué)儀器（深圳）有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 H83-50 H83-125 H84-125
- 產(chǎn)地 日本
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2024/11/25 15:25:46
- 訪問次數(shù) 77
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真空泵;離心機,;監(jiān)測儀,真空系統(tǒng),除塵裝置,數(shù)字粉塵儀;粒子計數(shù)器,環(huán)境監(jiān)測設(shè)備,環(huán)境測量設(shè)備 環(huán)境檢測設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備
臥式熱處理設(shè)備H系列
這是一款高度可靠的熱處理爐，擁有 30 多年的良好記錄。可用于200mm硅片的氧化、擴散、退火等熱處理。
特征
這是一種臥式爐，用作氧化爐、擴散爐和退火爐。
可以在一臺設(shè)備上選擇不同的進程。
我們的目標是通過使用 3 層或 4 層配置來節(jié)省空間。
5 個區(qū)域加熱器均獨立控制，可實現(xiàn)溫度控制，具有出色的熱均勻性和穩(wěn)定性。
配備內(nèi)部控制系統(tǒng)，操作簡單可靠。
H83-125和H84-125標配船用升降機，可以輕松裝載到上層。
可以進行諸如熱解氧化、濕式氧化、干式氧化、使用三氯氧化磷(POCl 3 )和三溴化硼(BBr 3 )的磷擴散、硼擴散和退火等工藝。
目的
硅片的熱氧化、擴散和退火
規(guī)格
| 模型 | H83-50 | H83-125 | H84-125 |
| 過程 | 氧化、擴散、退火 | ||
| 晶圓直徑 | ～200mm（8英寸） | ||
| 級數(shù) | 3 | 3 | 4 |
| 產(chǎn)品晶圓數(shù)量 | 50 | 125 | 125 |
| 加熱區(qū) | 5 | ||
| 加熱器材質(zhì) | 鐵鉻鋁 | ||
| 常用溫度 | 600～1200℃ | ||
| 浸泡長度 | 370毫米 | 800毫米 | 800毫米 |
| 溫度均勻 | ±1.0℃ | ||
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