uGmni-200/300 日本ULVAC愛發(fā)科半導體濺射設備單晶圓復合
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 玉崎科學儀器（深圳）有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 uGmni-200/300
- 產(chǎn)地 日本
- 廠商性質 經(jīng)銷商
- 更新時間 2024/11/25 10:21:43
- 訪問次數(shù) 86
聯(lián)系方式：吳曉雨19270095986 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!
真空泵;離心機,;監(jiān)測儀,真空系統(tǒng),除塵裝置,數(shù)字粉塵儀;粒子計數(shù)器,環(huán)境監(jiān)測設備,環(huán)境測量設備 環(huán)境檢測設備
日本ULVAC愛發(fā)科半導體濺射設備單晶圓復合
日本ULVAC愛發(fā)科半導體濺射設備單晶圓復合
單晶圓復合模塊式
成膜設備uGmni-200, 300
通過在同一個傳輸核心上安裝濺射和蝕刻等多種不同工藝模塊并盡可能使用通用組件，我們通過減少備件數(shù)量并通過相同操作提高可用性，實現(xiàn)了電子元件制造過程的更高效率我們將意識到這一點。
特征
多個處理室可組合用于濺射、蝕刻、灰化、CVD 等。
*根據(jù)工藝的不同，可能無法組合，請咨詢我們。
所有處理室均由 ULVAC 制造
兼容最大Φ300mm的基材
用途
下面是一個例子。
功率器件晶種和金屬層形成濺射
MEMS 傳感器 PZT 成膜及加工蝕刻
光學器件VCSEL加工蝕刻
高密度安裝除渣灰化
通信設備 絕緣膜沉積及加工 PE-CVD
規(guī)格
*這是每個工藝室的示例。
我們可以向您咨詢，不限于以下內容。以下值因規(guī)格而異。
| 到達圧力 | 階段 溫度 | 面內分布 （參考值） | 成膜、加工或應用實例 | 等離子源 | |
| 濺 | 6.7E-5Pa以下 | 冷卻（冷卻性能單獨討論）~700度 | ±1～5% | 金屬、介電膜、絕緣膜 | 直流 |
| 脈沖直流 | |||||
| 射頻 | |||||
| 蝕刻機 | 1.0E-3Pa以下 | -20~200度 | ±5%以下 | 金屬、介電膜、絕緣膜、Si系 | 中國共產(chǎn)黨 |
| ISM （感應超級磁控管） | |||||
| NLD （中性環(huán)路放電） | |||||
| 引座員 | 0.7Pa以下 | 50-250度 | ±5％ | 除浮渣、除膠渣、犧牲層去除、表面改性、PR去除、PI處理 | 微波 |
| 20-80度 | 微波+CCP | ||||
| 化學氣相沉積 | 2Pa以下 | 60-400度 | ±1%以下 | 絕緣膜（SiNx、SiOx） | 陽極耦合 |
| 雙頻 |
采購中心
化工儀器網(wǎng)