等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD
- 公司名稱 研啟科學(xué)儀器(東莞)有限公司
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- 更新時間 2024/10/22 15:41:08
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純水機(jī),離心機(jī),旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀,光譜儀,質(zhì)譜儀,頻譜儀,示波器,掃描電子顯微鏡,電化學(xué)工作站,,流式細(xì)胞儀,手套箱,磁控濺射
v 應(yīng)用方向:高質(zhì)量PECVD沉積氮化硅和二氧化硅,用于光子學(xué)、電介質(zhì)層、鈍化以及諸多其它用途;用于高亮度LED生產(chǎn)的硬掩模沉積和刻蝕
v 電阻絲加熱電極,溫度可達(dá)400°C或1200°C
v 實(shí)時監(jiān)測清洗工藝, 并且可自動停止工藝
v 晶圓可達(dá)200mm,可快速更換硬件以適用于不同尺寸的晶圓
v 高導(dǎo)通的徑向(軸對稱)抽氣結(jié)構(gòu):確保提升了工藝均勻性和速率
v 增加了<500毫秒的數(shù)據(jù)記錄功能:可追溯腔室和工藝條件的歷史記錄
v 通過前端軟件進(jìn)行設(shè)備故障診斷,故障診斷速度快
v 用干涉法進(jìn)行激光終點(diǎn)監(jiān)測:在透明材料的反射面上測量刻蝕深度 (例如硅上的氧化物),或者用反射法來確定非透明材料 (如金屬) 的邊界
v 用發(fā)射光譜(OES)實(shí)現(xiàn)較大樣品或批量工藝的終點(diǎn)監(jiān)測:監(jiān)測刻蝕副產(chǎn)物或反應(yīng)氣體的消耗量的變化,以及用于腔室清洗的終點(diǎn)監(jiān)測