森泰克刻蝕機Etchlab 200
- 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
- 品牌 SENTECH
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質 代理商
- 更新時間 2024/10/10 14:28:52
- 訪問次數(shù) 238
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森泰克刻蝕機Etchlab 200 是一款高性能的等離子刻蝕設備,由德國Sentech公司研發(fā)生產(chǎn)。該產(chǎn)品結合了RIE平行板等離子體源設計與直接置片的成本效益設計,具有多種優(yōu)勢和特點,廣泛應用于半導體、微納加工、材料科學等領域。以下是對Etchlab 200產(chǎn)品的詳細介紹:
一、產(chǎn)品特點
模塊化設計: 采用模塊化設計,可根據(jù)用戶需求進行靈活配置和升級。其真空系統(tǒng)、真空鎖和供氣系統(tǒng)均可按需求進行擴展,以適應不同的工藝需求。
高精度與靈活性:該設備能夠實現(xiàn)高精度的微細結構制造和加工,同時其設計靈活,操作簡便。用戶可以通過簡單的操作實現(xiàn)樣品的快速加載和刻蝕處理。
成本效益森泰克刻蝕機Etchlab 200 結合了RIE平行板電極設計的優(yōu)點和直接置片的成本效益設計,使得設備在保持高性能的同時,也具有較高的性價比。
用戶友好:設備配備了SENTECH控制軟件,該軟件功能強大且用戶友好,具有模擬圖形用戶界面、參數(shù)窗口、工藝編輯窗口、數(shù)據(jù)記錄和用戶管理等功能,方便用戶進行工藝設置和監(jiān)控。
二、技術規(guī)格
樣品加載:Etchlab 200具有簡單快速的樣品加載功能,支持從零件到直徑為200mm或300mm的晶圓片直接加載到電極或載片器上。
設計特點:設備設計靈活、模塊化且占地面積小。頂部電極和反應腔體設有診斷窗口,可方便地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。橢偏儀端口可用于SENTECH原位橢偏儀進行原位監(jiān)測。
應用范圍:Etchlab 200可配置用于刻蝕多種材料,包括但不限于硅和硅化合物、復合半導體、介質和金屬等。
三、應用領域
Etchlab 200等離子刻蝕機在多個領域具有廣泛的應用,包括但不限于:
半導體制造:用于微納加工、芯片制造等過程中的刻蝕工藝。
微納加工:在微機電系統(tǒng)(MEMS)、微光學器件等領域中,用于制造高精度的微細結構。
材料科學:在材料表面改性、薄膜制備等領域中,用于實現(xiàn)材料的精細加工和改性處理。
四、售后服務
森泰克刻蝕機提供完善的售后服務,包括安裝調試現(xiàn)場免費培訓、電話支持響應等。具體服務內容可能因銷售商或代理商而異,請用戶在購買前咨詢相關服務細節(jié)。
綜上所述,Etchlab 200是一款高性能、高精度、靈活且成本效益高的等離子刻蝕設備,在半導體、微納加工、材料科學等領域具有廣泛的應用前景。