Kurt J. Lesker Company 的 SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺在全球擁有100多臺設(shè)備，是一種成熟、堅(jiān)固和多功能的設(shè)計(jì)。SPECTROS建立在原始設(shè)計(jì)的成功基礎(chǔ)上，改進(jìn)了系統(tǒng)基礎(chǔ)壓力和抽空時(shí)間。腔室設(shè)計(jì)、具有高級編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、實(shí)時(shí)配方線程操作以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能，這些都是這種創(chuàng)新的設(shè)計(jì)提供的一些關(guān)鍵優(yōu)勢。®

SPECTROS 150與以下技術(shù)兼容：

• 1cc 或 10cc LTE 信號源（除熱源外，最多 10 個(gè)信號源）

• 4 英寸熱源（除 LTE 源外，最多 4 個(gè)源）

• TORUS 磁控濺射源（最多 8 個(gè) 2“ 或 3” 源）®

• 電子束蒸發(fā)源（4口袋8cc，8口袋12cc，6口袋20cc）

• 上述技術(shù)的組合也可用

• 可根據(jù)要求提供定制配置

SPECTROS™ 150 的工藝室提供兩種類型的高真空泵：標(biāo)配 Pfeiffer 790 L/s 渦輪分子泵或可選的 Brooks CTI-8F 1500 L/s 低溫泵。SPECTROS 150的任何沉積配置都可以選擇這兩種泵。Pfeiffer 790 L/s 是總體成本效益、高質(zhì)量泵送的理想選擇，尤其適用于低溫和熱蒸發(fā)。Brook CTI-8F 可用于需要盡可能低真空度的應(yīng)用，特別是熱蒸發(fā)和電子束應(yīng)用。

右邊的圖表顯示了配備的 SPECTROS 150 工藝室按泵類型劃分的平均預(yù)期泵送性能，該工藝室清潔干燥，安裝了 （5） TORUS 3“ Mag-keeper 源和 3 英尺長的 1.5 英寸金屬柔性波紋管粗加工線。