KS-S300-E 單片濕法刻蝕機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品標(biāo)簽

濕法刻蝕

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公司介紹 主營(yíng)產(chǎn)品

深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng)，軟件著作權(quán) 14 項(xiàng)，是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

冷熱臺(tái)，快速退火爐，光刻機(jī)，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述

滿(mǎn)足半導(dǎo)體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。

2. 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

利用位置、速度可控的擺臂噴灑化學(xué)液，可以有效的提高刻蝕均勻性
分層式反應(yīng)腔體設(shè)計(jì)，可以在同一腔體中噴灑多種化學(xué)液，并能有效回收，節(jié)約化學(xué)液
疊層控制，占地面積小，多可配置4個(gè)刻蝕單元

3. 應(yīng)用域：

半導(dǎo)體制造中濕法刻蝕工藝
封裝域中金屬層刻蝕，滿(mǎn)足UBM及RDL工藝要求
OLED 域中金屬及金屬氧化物（ITO/IGZO）刻蝕、緩沖層成膜的表面（SiO2）刻蝕清洗等工藝

滿(mǎn)足半導(dǎo)體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。