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AL-1 無針孔薄膜沉積設(shè)備

具體成交價以合同協(xié)議為準

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術(shù)服務的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設(shè)備、半導體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

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1. 產(chǎn)品概述

AL-1通過交替向反應室提供有機金屬原料和氧化劑,僅利用表面反應沉積薄膜,實現(xiàn)了高膜厚控制和良好的步驟覆蓋率。薄膜的厚度可以控制在原子層的數(shù)量。此外,可以在高寬比的孔內(nèi)壁上沉積覆蓋性好、厚度均勻的薄膜。可同時沉積3片?4英寸的晶片。

2. 設(shè)備用途/原理

用于下一代功率器件的柵氧化膜和鈍化膜。在3D結(jié)構(gòu)上形成均勻的薄膜,如MEMS。激光表面的沉積碳納米管的鈍化膜。

3. 設(shè)備特點

成膜效率高通過提供幾十毫量的脈沖,減少了原材料的損耗,提高了沉積效率。真空清潔,溫度不均勻性小通過緊貼反應室內(nèi)壁的內(nèi)壁加熱器,抑制反應室的溫度不均勻,可獲得清潔的真空。無針孔成膜,由于多種驅(qū)體在反應室中沒有混合,因此可以防止顆粒,形成無針孔的薄膜。




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