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透射電鏡原位MEMS氣氛加熱測量系統(tǒng)

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 北京儀光科技有限公司
  • 品牌 ZEPTOOLS/澤攸科技
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時間 2024/11/12 17:16:45
  • 訪問次數(shù) 357

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  北京儀光科技,專注顯微形貌分析!
  北京儀光科技有限公司是一家專門從事三維共聚焦白光干涉輪廓儀、臺式掃描電鏡/臺階儀/電鏡原位分析、各進口及國產(chǎn)品牌的金相顯微鏡、體式顯微鏡、偏光顯微鏡、超景深顯微鏡、大型掃描電子顯微鏡、超薄切片機、清潔度分析儀、金相及巖相制樣設(shè)備、顯微相機、冷熱臺、陰極發(fā)光臺、光學平臺等各類型科研分析儀器。提供制樣、顯微觀察、三維形貌分析和特殊應(yīng)用檢測等全套分析檢測解決方案。
  我司代理西班牙Sensofar三維共聚焦白光干涉儀、德國徠卡等進口及國產(chǎn)各類型光學顯微鏡、安徽澤攸臺式掃描電鏡&臺階儀&電鏡原位分析、美國RMC超薄切片機/半薄切片機、德國蔡司大型掃描電鏡、丹麥司特爾金相制樣、英國Linkam冷熱臺、陰極發(fā)光臺、防震平臺等材料制備及微觀分析儀器。我們的客戶涵蓋高校、科研院所、農(nóng)林、醫(yī)療、石油石化、地質(zhì)、文博、船舶、汽車、工業(yè)材料、電子半導體、電力、能源、檢測分析等各個行業(yè)。我們致力于以開放的視野、專業(yè)的技術(shù)、優(yōu)質(zhì)的服務(wù)為科研和工業(yè)等用戶提供專業(yè)、全面的顯微形貌分析應(yīng)用解決方案。
  愿景:讓科學研究和技術(shù)創(chuàng)新更便捷、更高效!
  使命:為材料用戶提供準確、可靠、全面的毫米級到納米級樣品制備及微觀形貌分析解決方案!

 

西班牙Sensofar共聚焦白光干涉儀、澤攸臺式電鏡&臺階儀&原位分析、徠卡等光學顯微鏡、RMC超薄切片機、Linkam冷熱臺

價格區(qū)間 面議 儀器種類 場發(fā)射
應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

PicoFemto透射電鏡原位MEMS氣氛加熱測量系統(tǒng),在透射電子顯微鏡中制造氣氛及高溫環(huán)境,實現(xiàn)1 Bar & 800 ℃的端觀測條件。該系統(tǒng)使研究者可以在原子尺度上實時觀測催化反應(yīng)、氧化還原反應(yīng)、低維材料生長/合成以及各類腐蝕反應(yīng),將您的透射電鏡從一臺靜態(tài)成像工具升級為一套功能強大的納米實驗室。

透射電鏡原位MEMS氣氛加熱測量系統(tǒng)系統(tǒng)組成:

① 原位氣氛環(huán)境樣品桿:由樣品桿主體、氣流通道、四電極加熱模塊和MEMS反應(yīng)微腔組成。樣品被安置于上下兩片MEMS芯片以及配套的O圈組成的密封微腔內(nèi)。
② 真空檢漏系統(tǒng):由進口分子泵組、高真空腔體和高倍顯微鏡組成。用于實驗前驗證MEMS反應(yīng)微腔密封情況,確保在TEM中抽真空后不會有氣體泄漏。
③ MEMS反應(yīng)微腔:由上下兩片MEMS芯片組成,用于搭載實驗樣品。樣品觀測區(qū)域覆蓋有高質(zhì)量、高透過率的氮化硅薄膜窗口,窗口上覆蓋有四電極加熱區(qū)域,樣品搭載在加熱電極上。該MEMS反應(yīng)微腔與外接氣路通道以及加熱模塊高度耦合,從而在TEM中實現(xiàn)氣氛環(huán)境與高溫環(huán)境準確可控的原位觀測。
④ 氣氛環(huán)境控制箱:由三通道混氣模塊、渦輪真空泵、氣壓控制模塊、氣流控制模塊及配套附件組成。用于在實驗中準確、穩(wěn)定地控制MEMS反應(yīng)微腔中的氣氛環(huán)境,控制微反應(yīng)腔中的氣壓及氣體流速。
⑤ 高性能PC及配套控制軟件:該系統(tǒng)中的加熱及氣氛環(huán)境均為軟件控制,多種工作模式可選,功能強大,方便易用。
⑥ 溫控儀:用于控制MEMS反應(yīng)微腔中的溫度,四個電極通道,帶溫度反饋。
⑦ 樣品桿載具、裝樣附件及其他工具。

性能指標

透射電鏡指標:

● 兼容型號電鏡及極靴;

● 通氣后透射電子顯微鏡分辨率優(yōu)于0.1 nm。

加熱指標:

● 溫度范圍:室溫至800 ℃;

● 溫度準確度:優(yōu)于5% ;

● 溫度穩(wěn)定性:優(yōu)于±0.1 ℃;

● 四電極加熱,帶溫度反饋;

● 軟件控制。

氣體流動指標:

● 三通道混氣

● 氣壓范圍:0 - 1 Bar;

● 氣壓準確度:30 mBar;

● 氣體流速: 0.01 - 0.4 ml/min;

● 可通氣體:H2, N2, O2, He, Ar, CO, CO2, CxHy等;

● 軟件控制。

MEMS反應(yīng)微腔指標:

● 高質(zhì)量氮化硅膜厚度25 nm;

● 樣品漂移優(yōu)于0.7 nm/min。

部分國內(nèi)用戶

透射電鏡原位MEMS氣氛加熱測量系統(tǒng)

部分國外用戶

透射電鏡原位MEMS氣氛加熱測量系統(tǒng)





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