KT-Z1650PVD小型真空磁控濺射儀鍍膜機

小型濺射儀

KT-Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

KT-Z1650PVD小型真空磁控濺射儀鍍膜機

主要特點/優(yōu)勢：

★     玻璃鐘罩真空腔室，最直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現(xiàn)象觀察；

★     復(fù)合分子泵和直聯(lián)旋片泵，大抽速準無油真空系統(tǒng)（分子泵抽速≥400L/S）；

★     兩組水冷式蒸發(fā)電極，可長時間穩(wěn)定工作，兼容金屬材料與有機材料的蒸發(fā)源設(shè)計；

★     專業(yè)真空蒸發(fā)電源，數(shù)顯工作電流和電壓，恒流輸出；

★     可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；

★     襯底可選擇加熱或水冷，源基距≥300mm；

★     可調(diào)速旋轉(zhuǎn)靶臺使薄膜更均勻

★     可沉積金屬（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金屬、化合物（MoO₃, LiF等）及有機物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；

★  7寸顯示器定時定點調(diào)節(jié)電流，達到控制功率效果

★  具有記憶儲存功能，直接調(diào)出已儲存的數(shù)據(jù)進行鍍膜達到同樣工藝效果

★  配置了靶臺擋板，可手動調(diào)節(jié)或自動調(diào)節(jié)擋板，及時遮擋樣品，保證樣品效果