賽默飛Nexsa™ X 射線光電子能譜儀材料分析和開發(fā)

Nexsa 能譜儀具有分析靈活性，可最大限度地發(fā)揮材料潛能。在使結果保持研究級質量水平的同時，以可選多技術聯合的形式提供靈活性，從而實現真正意義上多技術聯合的分析檢測和高通量。

賽默飛Nexsa™ X 射線光電子能譜儀標準化功能催生強大性能： 

·         絕緣體分析

·         高性能XPS性能

·         深度剖析

·         多技術聯合

·         雙模式離子源，使深度剖析功能得到擴展

·         用于 ARXPS 測量的傾斜模塊

·         用于儀器控制、數據處理和報告生產的 Avantage 軟件

·         小束斑分析

可選的升級：可將多種分析技術集成到您的檢測分析中。式自動運行

·         ISS：離子散射譜，分析材料最表面1-2原子層元素信息，通過質量分辨可分析一些同位素豐度信息。

·         UPS：紫外光電子能譜用于分析金屬/半導體材料的價帶能級結構信息以及材料表面功函數信息

·         拉曼：拉曼光譜技術用于提供分子結構層面的指紋信息

·         REELS：反射電子能量損失譜可用于H元素含量的檢測以及材料能級結構和帶隙信息

借助 SnapMap 的光學視圖，聚焦于樣品特征。光學視圖可以幫助您快速定位感興趣區(qū)域，同時生成聚焦的 XPS 圖像，以進一步設置您的實驗。

1.X 射線照射樣品上的一個小區(qū)域。

2.收集來自這一小區(qū)域的光電子并將其收集于分析儀

3.隨著樣品臺的移動，不斷收集元素圖譜

4.在整個數據采集過程中監(jiān)測樣品臺位置，這些位置的圖譜成像用來生成 SnapMap 

賽默飛Nexsa™ X 射線光電子能譜儀應用領域 

·         電池

·         生物醫(yī)藥

·         催化劑

·         陶瓷

·         玻璃涂層

·         石墨烯

·         金屬和氧化物

·         納米材料

·         OLED

·         聚合物

·         半導體

·         太陽能電池

·         薄膜