賽默飛Nexsa G2 X 射線光電子能譜儀標(biāo)準(zhǔn)化性能： 

·         絕緣體分析

·         高性能XPS性能

·         深度剖析

·         多技術(shù)聯(lián)合

·         雙模式離子源，使深度剖析功能得到擴(kuò)展

·         用于 ARXPS 測量的傾斜模塊

·         用于儀器控制、數(shù)據(jù)處理和報告生產(chǎn)的 Avantage 軟件

·         小束斑分析

可選的升級：可將多種分析技術(shù)集成到您的檢測分析中。式自動運行

·         ISS：離子散射譜，分析材料表面1-2原子層元素信息，通過質(zhì)量分辨可分析一些同位素豐度信息。

·         UPS：紫外光電子能譜用于分析金屬/半導(dǎo)體材料的價帶能級結(jié)構(gòu)信息以及材料表面功函數(shù)信息

·         拉曼：拉曼光譜技術(shù)用于提供分子結(jié)構(gòu)層面的指紋信息

·         REELS：反射電子能量損失譜可用于H元素含量的檢測以及材料能級結(jié)構(gòu)和帶隙信息

賽默飛Nexsa G2 X 射線光電子能譜儀應(yīng)用領(lǐng)域 

·         電池

·         生物醫(yī)藥

·         催化劑

·         陶瓷

·         玻璃涂層

·         石墨烯

·         金屬和氧化物

·         納米材料

·         OLED

·         聚合物

·         半導(dǎo)體

·         太陽能電池

·         薄膜