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Full Deposition PSL Wafer 校準(zhǔn)晶圓標(biāo)準(zhǔn)品-半導(dǎo)體表征
| 參考價(jià) | ￥ 100000 |
| 訂貨量 | ≥1片 |
- 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 Full Deposition PSL Wafer
- 產(chǎn)地 美國
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/12/10 11:02:57
- 訪問次數(shù) 3049
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光刻機(jī)，鍍膜機(jī)，磁控濺射鍍膜儀，電子束蒸發(fā)鍍膜儀，開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量)，氣溶膠設(shè)備，氣溶膠粒徑譜儀，等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)，原子層沉積系統(tǒng)(ALD)，快速退火爐，氣溶膠發(fā)生器，稀釋器，濾料測試系統(tǒng)
校準(zhǔn)晶圓標(biāo)準(zhǔn)品-半導(dǎo)體表征
校準(zhǔn)晶圓標(biāo)準(zhǔn)
污染晶圓標(biāo)準(zhǔn)品、校準(zhǔn)晶圓標(biāo)準(zhǔn)品和二氧化硅顆粒晶圓標(biāo)準(zhǔn)品使用顆粒沉積系統(tǒng)生產(chǎn)，該系統(tǒng)將首先使用差分遷移率分析儀（DMA）分析PSL尺寸峰或二氧化硅尺寸峰。DMA是一種高精度顆粒掃描工具，結(jié)合凝聚態(tài)粒子計(jì)數(shù)器和計(jì)算機(jī)控制，基于NIST可追溯粒徑校準(zhǔn)分離出高精度粒徑峰。一旦尺寸峰得到驗(yàn)證，粒度流就被引導(dǎo)到主硅、晶圓標(biāo)準(zhǔn)表面。顆粒在沉積在晶圓表面上之前被計(jì)數(shù)，通常是在晶圓上全部沉積?；蛘?，可以在晶圓周圍的特定位置沉積多達(dá) 8 個(gè)粒徑作為點(diǎn)沉積。晶圓標(biāo)準(zhǔn)品為KLA-Tencor Surfscan SP1、KLA-Tencor Surfscan SP2、KLA-Tencor Surfscan SP3、KLA-Tencor Surfscan SP5、Surfscan SPx、Tencor 6420、Tencor 6220、Tencor 6200、ADE、Hitachi和Topcon SSIS工具和晶圓檢測系統(tǒng)的尺寸校準(zhǔn)提供高精度的尺寸峰。
差分遷移率分析儀，DMA電壓掃描，二氧化硅尺寸峰，100nm
PSL球體尺寸標(biāo)準(zhǔn)品和二氧化硅尺寸標(biāo)準(zhǔn)液由差分遷移率分析儀掃描，以確定真正的尺寸峰。一旦分析了尺寸峰，就可以將晶圓標(biāo)準(zhǔn)品沉積為全沉積或點(diǎn)沉積，或多點(diǎn)沉積晶圓標(biāo)準(zhǔn)品。掃描上方100納米（0.1微米）處的二氧化硅尺寸峰，DMA在101nm處檢測到真正的二氧化硅尺寸峰。
全沉積或點(diǎn)沉積晶圓標(biāo)準(zhǔn)品–顆粒沉積系統(tǒng)提供高精度的PSL校準(zhǔn)晶圓標(biāo)準(zhǔn)品和二氧化硅污染晶圓標(biāo)準(zhǔn)品。
我們的 2300 XP1 顆粒沉積系統(tǒng)提供自動(dòng)顆粒沉積控制，以生成您的 PSL 晶圓標(biāo)準(zhǔn)品和二氧化硅晶圓標(biāo)準(zhǔn)品。
校準(zhǔn)晶圓標(biāo)準(zhǔn)品-半導(dǎo)體表征-應(yīng)用
高分辨率、NIST 可追溯的 DMA（差分遷移率分析儀）選型和分類超過了新的 SEMI 標(biāo)準(zhǔn) M52、M53 和 M58 協(xié)議，以實(shí)現(xiàn) PSL 尺寸精度和尺寸分布寬度
在 60nm、100nm、269nm 和 900nm 處自動(dòng)校準(zhǔn)沉積尺寸
先進(jìn)的差動(dòng)率分析儀（DMA）技術(shù)，具有自動(dòng)溫度和壓力補(bǔ)償功能，可提高系統(tǒng)穩(wěn)定性和測量精度
自動(dòng)沉積工藝可在一個(gè)晶圓上提供多個(gè)點(diǎn)沉積
整個(gè)晶圓上的完整晶圓沉積;或在晶圓上的任何位置進(jìn)行點(diǎn)沉積
高靈敏度允許PSL球和二氧化硅顆粒沉積從20nm到2um
沉積二氧化硅顆粒，用于使用高功率激光掃描校準(zhǔn)晶圓檢測系統(tǒng)
存放PSL球體，以便使用低功率激光掃描校準(zhǔn)晶圓檢測系統(tǒng)
將PSL球體和二氧化硅顆粒沉積在主要硅晶圓標(biāo)準(zhǔn)品或150mm光掩模上。
PSL 校準(zhǔn)晶圓標(biāo)準(zhǔn)、二氧化硅污染晶圓標(biāo)準(zhǔn)
顆粒沉積工具用于在晶圓標(biāo)準(zhǔn)品上沉積非常精確的PSL尺寸標(biāo)準(zhǔn)品或二氧化硅粒徑標(biāo)準(zhǔn)品，以校準(zhǔn)各種晶圓檢測系統(tǒng)。
PSL校準(zhǔn)晶圓標(biāo)準(zhǔn)，用于校準(zhǔn)使用低功率激光器掃描晶圓的晶圓檢測系統(tǒng)。
二氧化硅污染晶圓標(biāo)準(zhǔn)，用于校準(zhǔn)使用高功率激光器掃描晶圓的晶圓檢測系統(tǒng)。
校準(zhǔn)掩模標(biāo)準(zhǔn)或二氧化硅掩模標(biāo)準(zhǔn)
我們的 2300 XP1 在 75mm 至 300mm 晶圓直徑的硼硅酸鹽掩模和優(yōu)質(zhì)硅上沉積 NIST 可追溯、經(jīng)過認(rèn)證的掩模標(biāo)準(zhǔn)。
125mm 和 150mm 模板上的 PSL 校準(zhǔn)模板標(biāo)準(zhǔn)
150mm口罩上的二氧化硅污染標(biāo)準(zhǔn)
75mm至300mm校準(zhǔn)晶圓標(biāo)準(zhǔn)
75mm至300mm二氧化硅污染晶圓標(biāo)準(zhǔn)
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