PICOSUN™P-300S系統(tǒng)已經(jīng)成為高產(chǎn)能ALD制造 業(yè)的新標(biāo)準(zhǔn)。擁有的熱壁、*獨立的前驅(qū) 體管路和特殊的載氣設(shè)計， 確保我們可以生產(chǎn)  出具有優(yōu)異的成品率、低顆粒水平和的電學(xué) 和光學(xué)性能的高質(zhì)量ALD薄膜。高效緊湊的設(shè)計 使得維護(hù)更加方便、快捷， 最大限度的減少了系 統(tǒng)的維護(hù)停工期和使用成本。擁有技術(shù)的  Picoflow™使得在超高深寬比結(jié)構(gòu)上沉積保形性 薄膜更高效， 并已在生產(chǎn)線上得到驗證。

PICOSUN™P-300S系統(tǒng)代表了工業(yè)化   ALD工藝。這個系統(tǒng)是為全自動的批量生產(chǎn)而設(shè) 計， 并與工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化的真空集群平臺相結(jié)合進(jìn)行 單片操作。 P-300S系統(tǒng)通過SEMI S2/S8認(rèn)證，可以通過SECS/GEM整合到自動化生產(chǎn)線上， 并能 滿足半導(dǎo)體行業(yè)嚴(yán)格的清潔要求。

The PICOSUN™ P-300S是IC行業(yè)創(chuàng)新驅(qū)動企業(yè)的 選ALD系統(tǒng)！

襯底尺寸和類型

•    最大300mm單片晶圓

•    高深寬比基底（最大深寬比1:2500）

工藝溫度

•    50 – 500°C

標(biāo)準(zhǔn)工藝

•   批量生產(chǎn)的平均工藝時間小于10秒/循環(huán)*

•   Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2,AlN, TiN以及各種金屬

•    同一批次薄膜不均勻性<1% 1σ

(Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49pts, 5mm EE)**

基片裝載

•    預(yù)真空室安裝磁力操作機(jī)械手

•    全自動裝載， Picoplatform™ 200或 Picoplatform™ 300真空集群系統(tǒng)

•    通過集群系統(tǒng)進(jìn)行盒對盒式FOUP裝載

•     氮氣柜裝載

前驅(qū)體

•    液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源

•    源瓶余量傳感器，提供清洗和裝源服務(wù)

•     6根獨立源管線， 最多加載12個前驅(qū)體源