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WKWY-B 便攜式投影型紋影儀

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四川物科光學(xué)精密機械有限公司成立于2015年,注冊資本500萬,坐落于中國科技城-綿陽,依托于軍民融合產(chǎn)業(yè)優(yōu)勢,主要從事光、機、電技術(shù)服務(wù)以及相關(guān)光電測試產(chǎn)品的研發(fā)和生產(chǎn)。公司能提供光機電一體化設(shè)計,精密光學(xué)元件,精密機械件到光機電模組的設(shè)計、加工、裝配,為客戶提供一整套的光學(xué)解決方案。公司目前主要致力于瞬態(tài)光電測試技術(shù)研究和相關(guān)產(chǎn)品的開發(fā),并形成自己品牌,產(chǎn)品質(zhì)量和信譽得到一致的好評。

2016年通過ISO9001質(zhì)量體系認證, 2018年榮獲中國創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)大賽軍民融合專業(yè)賽三等獎。2019年公司作為任務(wù)承擔單位承接中央軍委裝備部重點領(lǐng)域預(yù)研基金項目。2020年通過國家高新技術(shù)企業(yè)認證。

公司有光學(xué)CAD設(shè)計部、電子實驗室、光學(xué)精密加工車間、總裝車間四個技術(shù)服務(wù)部門。目前公司技術(shù)人員18人,其中具有博士學(xué)歷學(xué)位1人 ,在讀博士2人,碩士1人,本科10人,大專4人。具有承接各類光電儀器開發(fā)或者聯(lián)合開發(fā)能力;對外接受各類光學(xué)元件、光學(xué)晶體、光學(xué)玻璃的光學(xué)加工、鍍膜及其檢測。目前公司產(chǎn)品主要有全光纖激光干涉測速儀,光子多普勒測速儀、紋影儀、多光譜輻射測溫系統(tǒng)、光纖探針測試系統(tǒng)、光彈儀、平面激光誘導(dǎo)熒光測試系統(tǒng)、超聲場光學(xué)顯示系統(tǒng)、空氣沖擊波超壓測量記錄儀、光網(wǎng)靶彈丸速度測量儀,數(shù)字式光電延時同步控制器、高速光電探測模塊、精密電控位移臺等,公司還提供非標光電成像探測解決方案、非標光纖器件和光學(xué)玻璃元件加工制造等技術(shù)服務(wù)。產(chǎn)品主要服務(wù)于爆轟物理、沖擊波物理、空氣動力學(xué)、彈道研究、航空航海發(fā)動機研究、工程熱物理、激光加載等相關(guān)專業(yè)領(lǐng)域。目前服務(wù)單位有兵器集團、航空科技集團、中國空氣動力研究與發(fā)展中心、中航發(fā)、中物院、中科院、空軍工程大學(xué)、北京理工大學(xué)、華中科技大學(xué)、中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)等科研院所。

以品質(zhì)追求為核心,依賴專業(yè)的研發(fā)團隊和優(yōu)質(zhì)制造工藝,不斷發(fā)展創(chuàng)新,精益求精,為國家相關(guān)專業(yè)領(lǐng)域提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)。


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光學(xué)加工車間                                       數(shù)控加工車間

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光學(xué)鍍膜車間                              光電調(diào)試室

技術(shù)能力:

 

 

 

             光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計                            光電探測電子電路          

光機系統(tǒng)安裝調(diào)試                      光學(xué)元器件加工制造

 

     精密機械電控位移臺                    


 

 

 

 

 

 

紋影儀,光子多普勒測速儀,激光干涉測速儀,光彈儀,爆速儀

產(chǎn)地類別 國產(chǎn)

便攜式投影型紋影儀可用來觀察透明介質(zhì)因各種因素引起的擾動的分布、傳播過程以及擾動強度等。如研究激光與物質(zhì)作用、分層流、多項流、傳熱與傳質(zhì)、激波、超聲速流、燃燒、火焰、爆炸、等離子體、內(nèi)彈道及某些化學(xué)反應(yīng)等學(xué)科的流場密度變化科學(xué)研究。如研究激光與物質(zhì)作用、分層流、多項流、傳熱與傳質(zhì)、激波、超聲速流、燃燒、火焰、爆炸、等離子體、內(nèi)彈道及某些化學(xué)反應(yīng)等學(xué)科的流場密度變化科學(xué)研究。泰普勒紋影儀是傳統(tǒng)、使用*的一種。

技術(shù)參數(shù):

其中主反射鏡光學(xué)材料:K9光學(xué)玻璃,應(yīng)力≤2,加工面型精度<1/10λ;反射面真空鍍鋁,鍍二氧化硅保護膜。小反射鏡表面真空鍍鋁,鍍二氧化硅保護膜,反射系數(shù)≥90%,面型精度<1/10波長。

該系統(tǒng)主要的光機部件主要可以分為:光源狹縫系統(tǒng)、主球面反射鏡裝調(diào)機構(gòu)、刀口成像系統(tǒng)三個部分。其中,光源狹縫系統(tǒng)和其中一塊主球面反射鏡組成準直系統(tǒng),刀口成像系統(tǒng)與其中一塊主球面反射鏡組成紋影觀視系統(tǒng),分別布局于兩個平臺上。

紋影法,又稱紋影技術(shù),包括黑、白紋影法,彩色紋影法和干涉紋影法,是用紋影系統(tǒng)進行流場顯示和測量的常用的光學(xué)方法。紋影法首先由Toepler于1864年提出,并應(yīng)用在光學(xué)玻璃折射率的檢測中。

1952年 ,Holde和Norht在紋影系統(tǒng)上使用白光的分光棱鏡 ,實現(xiàn)了彩色紋影成象,擴大了紋影技術(shù)的應(yīng)用范圍;1962年,Bland和pelick用紋影法研究了水的壓力和溫度效應(yīng)后指出,紋影法實用于水洞 的流場顯示;1974年 ,Merzkirch對可壓縮流場中的紋影技術(shù)進行了分類,把涉及到在紋影系統(tǒng)上進行的干涉紋影法的研究 ,包括光柵干涉、棱鏡干涉以及Moire條紋干涉等 ,均歸類于紋影技術(shù),并得到國內(nèi)同行的認可。



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