化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>行業(yè)專用儀器及設(shè)備>其它行業(yè)專用儀器>激光脈沖沉積(PLD)>Pioneer 120 PLD System 脈沖激光沉積系統(tǒng)
Pioneer 120 PLD System 脈沖激光沉積系統(tǒng)
- 公司名稱 北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) Pioneer 120 PLD System
- 產(chǎn)地 美國(guó)
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/5/9 9:58:24
- 訪問(wèn)次數(shù) 518
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,能源,航天,汽車,綜合 |
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
Pioneer120 PLD System是基礎(chǔ)型獨(dú)立PLD系統(tǒng)，用于制備高質(zhì)量的外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)、超晶格等。該P(yáng)LD系統(tǒng)與Pioneer 120 Advanced系統(tǒng)和Pioneer 180 PLD系統(tǒng)的主要區(qū)別是襯底加熱階段。Pioneer 120 Advanced系統(tǒng)使用導(dǎo)電加熱階段用于襯底加熱， 其他模型使用輻射加熱階段。為了達(dá)到950°c的額定高溫，基板必須與加熱板緊密接觸，用銀漿提供加熱板和基板之間的緊密接觸(當(dāng)需要這些高溫時(shí))。在不需要銀漿的情況下，還提供襯底夾來(lái)固定襯底。在這些情況下, highest 襯底溫度可能低于額定950°c。加熱器是氧兼容的，能達(dá)到1大氣(760托)的氧, 這個(gè)特性有助于制備外延氧化薄膜：可能需要在氧氣環(huán)境后沉積和氧氣壓力接近1 atmosphere后退火冷卻。Pioneer 120 PLD系統(tǒng)包括一個(gè)自動(dòng)多目標(biāo)轉(zhuǎn)，具有目標(biāo)旋轉(zhuǎn)、目標(biāo)光柵和軟件控制的多層和超晶格沉積所需的目標(biāo)選擇。閉環(huán)壓力控制提供了使用質(zhì)量流量控制器的精確過(guò)程壓力控制。干式泵是由機(jī)械隔膜泵或渦旋泵支持的渦輪分子泵組合而成。該系統(tǒng)軟件(Windows 7, LabView 2013)控制基材加熱器，目標(biāo)轉(zhuǎn)，過(guò)程壓力，系統(tǒng)泵和激光觸發(fā)。
產(chǎn)品特點(diǎn)
獨(dú)立的交鑰匙PLD系統(tǒng)。
外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的沉積。
納米級(jí)薄膜的沉積。
外延氧化膜沉積的可編程氧兼容加熱器。
自動(dòng)多目標(biāo)旋轉(zhuǎn)多層沉積。
全干式真空泵組。
通過(guò)系統(tǒng)軟件進(jìn)行閉環(huán)壓力控制。
技術(shù)指標(biāo)
1、沉積室
8”CF泵口。8”CF襯底加熱器端口。8“CF的目標(biāo)
2、旋轉(zhuǎn)端口
可編程導(dǎo)電襯底加熱器
加熱器最\高溫度:950℃。
最\大加熱器尺寸:直徑2英寸(其他尺寸為定制)。
3、抽真空包組
全干真空泵。渦輪分子泵支持隔膜或渦旋泵。
4、PLD系統(tǒng)軟件
Windows 7, LabVIEW 2013
控制襯底加熱階段。
控制目標(biāo)旋轉(zhuǎn)階段。
5、PLD光學(xué)組件
用于248nm的45°激光鏡。
248nm平面凸透鏡。
焦距約為50厘米。
采購(gòu)中心
化工儀器網(wǎng)